蝕刻裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種蝕刻裝置。根據(jù)本發(fā)明的一實施例的蝕刻裝置作為用于蝕刻被處理對象的蝕刻裝置，包括：腔室，提供用于執(zhí)行所述蝕刻的空間；一個以上的噴射部，位于所述腔室內(nèi)，并對所述被處理對象噴射蝕刻液；多個移送輥輪，用于使所述被處理對象移動；吸入部，用于吸入所述被處理對象的上表面的蝕刻液，其中，所述吸入部包括一個以上的吸入管，所述移送輥輪分別包含旋轉(zhuǎn)軸以及沿著所述旋轉(zhuǎn)軸的長度方向形成的多個支撐部件，所述吸入管分別位于一個移送輥輪的支撐部件與相鄰于所述一個移送輥輪的鄰接移送輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)。
【專利說明】
蝕刻裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明的實施例涉及一種蝕刻裝置，具體而言，涉及一種既能夠徹底防止匯聚(puddling)現(xiàn)象，又不會使柔性薄基板的行進(jìn)受阻的蝕刻裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]通常，蝕刻(etching)是一種圖案形狀加工方法，其在所要處理的素材(例如印刷電路基板)的表面上對所需要的部分進(jìn)行遮蔽(masking)處理之后，通過噴嘴對其余的部分噴射化學(xué)藥品(例如蝕刻液)而形成所需的形狀，該方法最近在半導(dǎo)體制造工藝中被廣為使用。
[0003]根據(jù)這種蝕刻加工方法而制造出的產(chǎn)品的品質(zhì)大體上與蝕刻液和蝕刻裝置有關(guān)。具體而言，蝕刻液的種類、溫度、濃度等以及蝕刻裝置中的噴嘴的形狀、個數(shù)、大小、間隔、布置、素材移動速度等多樣的條件將會作用為蝕刻品質(zhì)的變量。此外，通過噴嘴噴射的蝕刻液直接接觸到素材(噴射蝕刻)的情況和不直接接觸素材而被殘留的蝕刻液所浸漬(dipping)的情況對品質(zhì)帶來很大的差異。
[0004]另外，在蝕刻工藝過程中會發(fā)生匯聚(puddling)現(xiàn)象。匯聚現(xiàn)象為被噴射到素材表面上的蝕刻液過度地沉積在素材表示的現(xiàn)象，而且會根據(jù)匯聚現(xiàn)象而引起不均勻的蝕刻等不期望的蝕刻，從而使產(chǎn)品的品質(zhì)降低。匯聚現(xiàn)象在一般的蝕刻裝置中根據(jù)噴嘴的個數(shù)、節(jié)距(pitch)或者排列而只是存在著大小的差異，然而該現(xiàn)象是不可避免的。
[0005]圖1是表示根據(jù)現(xiàn)有的蝕刻裝置而發(fā)生的匯聚現(xiàn)象的剖面圖。
[0006]參照圖1，通過吸嘴等噴射部10噴射的蝕刻液將會沉積在基板50的上表面而形成蝕刻液殘留物20。越靠近基板50的中央，蝕刻液殘留物20將會存在越多，因此在基板50的中央會因沉積的蝕刻液而形成蝕刻，而不是被噴射的蝕刻液形成蝕刻。與根據(jù)被噴射的蝕刻液的情況相比，在由于沉積的蝕刻液而被蝕刻的情況下不能進(jìn)行正常的蝕刻，因此一種產(chǎn)品的品質(zhì)將會變得相互不同。為了防止發(fā)生這種現(xiàn)象，在現(xiàn)有技術(shù)中公開了一種設(shè)置用于吸入蝕刻液的吸入棒(bar)的方法。
[0007]圖2是表示設(shè)置于現(xiàn)有的蝕刻裝置內(nèi)的吸入棒的剖面圖。
[0008]參照圖2，現(xiàn)有的蝕刻裝置通過上部輥輪30a和下部輥輪30b移送基板50。而且，在布置上部輥輪30a的過程中布置吸入棒40 ο吸入棒40的下部形成有吸入口 41，從而能夠吸入沉積在基板50的上表面的蝕刻液。然而，因吸入棒40直接接觸基板50，在基板50為具有柔性的薄基板(例如，柔性印刷電路(FPC)基板)的情況下，基板50可能會由于吸入棒40的吸入口41的吸力而被貼附在吸入口 41。于是，不能正常地形成借助上部輥輪30a以及下部輥輪30b的基板50的移送，從而會降低產(chǎn)品生產(chǎn)效率。
[0009][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0010][專利文獻(xiàn)]
[0011 ] 韓國授權(quán)專利公報第10-1150022號(2012.05.31)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]本發(fā)明的實施例旨在提供一種既能夠防止匯聚現(xiàn)象又能夠防止被處理對象貼附于吸附部的現(xiàn)象的蝕刻裝置。
[0013]本發(fā)明的實施例旨在提供一種即使在對象物為超薄基板的情況下也能夠進(jìn)行蝕刻工序的蝕刻裝置。
[0014]本發(fā)明的實施例旨在提供一種可確保用于防止匯聚現(xiàn)象的吸入部的吸力的蝕刻
目.ο
[0015]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，提供一種蝕刻裝置，作為用于蝕刻被處理對象的蝕刻裝置，包括:腔室，提供用于執(zhí)行所述蝕刻的空間；一個以上的噴射部，位于所述腔室內(nèi)，并對所述被處理對象噴射蝕刻液;多個移送輥輪，用于使所述被處理對象移動;吸入部，用于吸入所述被處理對象的上表面的蝕刻液，其中，所述吸入部包括一個以上的吸入管，所述移送輥輪分別包含旋轉(zhuǎn)軸以及沿著所述旋轉(zhuǎn)軸的長度方向形成的多個支撐部件，所述吸入管分別位于一個移送輥輪的支撐部件與相鄰于所述一個移送輥輪的鄰接移送輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)。
[0016]所述被處理對象可具有柔性。
[0017]所述被處理對象可以是柔性印刷電路(FPC)基板。
[0018]所述噴射部可包括位于所述被處理對象的上側(cè)的上部噴射部以及位于所述被處理對象的下側(cè)的下部噴射部。
[0019]所述移送輥輪可包括:上部輥輪，與所述被處理對象的上表面相接；下部輥輪，與所述被處理對象的下表面相接。
[0020]所述吸入管可分別位于一個上部輥輪的支撐部件與相鄰于所述一個上部輥輪的鄰接上部輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)。
[0021]所述一個移送輥輪的所述支撐部件可按如下方式布置:當(dāng)從所述旋轉(zhuǎn)軸的方向觀察時，部分重疊于所述鄰接移送輥輪的支撐部件。
[0022]所述支撐部件可以是將所述旋轉(zhuǎn)軸作為中心的圓形部件。
[0023]所述一個移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸與所述鄰接移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸之間可布置有一個以上的連接支撐部件。
[0024]所述連接支撐部件可支撐所述被處理對象。
[0025]所述連接支撐部件可以使所述一個移送輥輪與所述鄰接移送輥輪之間形成連接，并維持相連間隔。
[0026]所述吸入部可包括形成有所述一個以上的吸入管的主體。
[0027]所述吸入管的下端與所述被處理對象之間的間隔可以是0.5?3mm。
[0028]所述吸入管的吸力可處在超過OmmHg、500mmHg以下的范圍。
[0029]根據(jù)本發(fā)明的實施例，吸入部包含吸入管，吸入管位于一個移送輥輪的支撐部件和與之相鄰的移送輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)，因此既防止發(fā)生匯聚現(xiàn)象又防止被處理對象貼附于吸入部，從而能夠提高蝕刻工藝的效率。
[0030]根據(jù)本發(fā)明的實施例，吸入管位于支撐部件之間，從而即使是針對柔性印刷電路基板等超薄基板的情況下也能夠執(zhí)行蝕刻工藝。
[0031]此外，一個移送輥輪的支撐部件以從旋轉(zhuǎn)軸方向觀察時部分重疊于鄰接的移送輥輪的支撐部件的方式被布置，從而能夠可靠地支撐被處理對象以防止被處理對象貼附于吸入部。
[0032]另外，在一個移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸與相鄰移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸之間布置有一個以上的連接支撐部，從而能夠更為可靠地支撐被處理對象。
[0033]此外，借助于支撐部件以及連接支撐部件而可靠地支撐被處理對象，從而能夠確保用于防止匯聚現(xiàn)象的吸入部的吸力。
【附圖說明】
[0034]圖1是表示根據(jù)現(xiàn)有的蝕刻裝置而發(fā)生的匯聚現(xiàn)象的剖面圖。
[0035]圖2是表示設(shè)置于現(xiàn)有的蝕刻裝置內(nèi)的吸入棒的剖面圖。
[0036]圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的蝕刻裝置的剖面圖。
[0037]圖4是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的吸入部的側(cè)面圖。
[0038]圖5是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的吸入部的底面圖。
[0039]圖6是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪的局部立體圖。
[0040]圖7是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪和吸入部的局部正面圖。
[0041 ]圖8是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪和吸入部的側(cè)面圖。
[0042]圖9是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪的局部立體圖。
[0043]圖10是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪的局部平面圖。
[0044]圖11是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪以及吸入部的放大側(cè)面圖。
[0045]符號說明
[0046]100:蝕刻裝置150:被處理對象
[0047]200:腔室210a:上部噴射部
[0048]210a’:上部噴射部的噴嘴210b:下部噴射部
[0049]210b’:下部噴射部的噴嘴230a:上部輥輪
[0050]231a:端部232a:旋轉(zhuǎn)軸
[0051 ]233a:支撐部件235a_l、235a_2:連接支撐部件
[0052]230b:下部輥輪231b:端部
[0053]232b:旋轉(zhuǎn)軸233b:支撐部件
[0054]240:吸入部241:主體
[0055]242:吸入管300:栗
[0056]400:過濾器500:管線
【具體實施方式】
[0057]以下，參照圖3至圖11而對根據(jù)本發(fā)明的一實施例的蝕刻裝置的具體實施例進(jìn)行說明。然而這僅僅是示例性的實施例，本發(fā)明并不局限于此。
[0058]在對本發(fā)明的實施例進(jìn)行說明的過程中，如果認(rèn)為對有關(guān)本發(fā)明的公知技術(shù)的具體說明有可能對本發(fā)明的主旨造成不必要的混亂，則省略其詳細(xì)說明。另外，后述的術(shù)語均為考慮到本發(fā)明中的功能而定義的術(shù)語，其可能因使用者、運用者的意圖或慣例等而不同。因此，需要以貫穿整個說明書的內(nèi)容為基礎(chǔ)而對其進(jìn)行定義。
[0059]本發(fā)明的技術(shù)思想由權(quán)利要求書的范圍來確定，以下的實施例僅僅是用于對本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域中具有基本知識的人有效地說明本發(fā)明的技術(shù)思想的一手段。
[0060]在蝕刻工藝中發(fā)生的匯聚(puddling)現(xiàn)象僅發(fā)生在被處理對象(基板)的上表面，而不會在下表面發(fā)生。其原因在于，在被處理對象的下表面，蝕刻液將會因重力而垂直滴落，因此會自然地被去除;然而在上表面，被噴射的蝕刻將會沉積。因此，消除匯聚現(xiàn)象的最有效的方法為通過吸入部吸入殘留蝕刻液。
[0061]S卩，蝕刻液將會連續(xù)地從用于噴射蝕刻液的噴嘴噴射，因此在到達(dá)被處理對象的蝕刻液向被處理對象的外側(cè)脫離之前會供應(yīng)新的蝕刻液，所以如果不單獨進(jìn)行去除蝕刻液的過程，則蝕刻液將會沉積在被處理對象的上表面。尤其，越靠近被處理對象的中間，蝕刻液的沉積量將會越多。
[0062]然而，在對柔性印刷電路(FPC)基板等較薄的柔性基板進(jìn)行蝕刻操作的過程中，為了去除蝕刻液而通過被夾設(shè)到上部輥輪之間的吸入棒(bar)吸入蝕刻液的情況下，基板將會由于吸入棒的吸力而被貼附在吸入棒，因此可能不會被移送。于是，可能無法正常進(jìn)行柔性電路基板上形成電路的工藝，從而可能無法生產(chǎn)最終的產(chǎn)品。
[0063]根據(jù)本發(fā)明的一實施例，可以提供一種蝕刻裝置，該蝕刻裝置用于有效地去除沉積在被處理對象的上表面的蝕刻液，并且對柔性電路基板等超薄基板的情況而言，蝕刻工藝也不會由于吸入部而受阻。
[0064]圖3是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的蝕刻裝置100的剖面圖。
[0065]參照圖3，蝕刻裝置100是用于蝕刻被處理對象150的裝置，其可以包括:腔室(chamber)200，提供用于進(jìn)行蝕刻的空間；噴射部210a、210b，位于腔室200內(nèi)，并對被處理對象150噴射蝕刻液;移送輥輪230a、230b，用于使被處理對象150移動；吸入部240，用于吸入被處理對象150的上表面的蝕刻液。
[0066]被處理對象150可以是具有柔性的基板，尤其可以是柔性電路(FPC:FlexiblePrinted Circuit)基板。
[0067]噴射部210a、210b可以包括位于被處理對象的上側(cè)的上部噴射部以及位于被處理對象的下側(cè)的下部噴射部。
[0068]移送輥輪230a、230b可以包括與被處理對象的上表面相接的上部輥輪以及與被處理對象的下表面相接的下部輥輪。
[0069]吸入部240可以位于上部輥輪230a側(cè)。為了對吸入部240提供吸力，可以使用如圖3所示的栗300，還可以使用專用的栗(未圖示)。吸入部240的具體構(gòu)造將會在下述的部分進(jìn)行描述。
[0070]當(dāng)從噴射部210a、210b噴出的蝕刻液沉積在腔室200的下部或者被吸入部240吸入時，蝕刻液可以借助于栗300循環(huán)而重新被供應(yīng)至噴射部210a、210b。在重新供應(yīng)的噴射液被供應(yīng)至噴射部210a、210b之前，可以設(shè)置過濾器400以去除蝕刻液所包含的金屬殘留物等異物。在圖3中，圖示為蝕刻液在到達(dá)栗300之前經(jīng)由過濾器400，然而并不局限于此，栗300和噴射部21 Oa、21 Ob之間還可以設(shè)置有過濾器400。
[0071]為了連接栗300與噴射部210a、210b之間和殘留蝕刻液的存儲庫(未圖示)與栗300之間，管線(line)500可以形成于其中間。
[0072]圖4是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的吸入部240的側(cè)面圖，圖5是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的吸入部的底面圖。
[0073]參照圖4以及圖5，吸入部240可以包括主體241和從主體241的下表面向下方延伸的吸入管242。主體241中可以形成與吸入管242連接的內(nèi)部空間(未圖示)，主體241的內(nèi)部空間可以通過用于提供吸力的吸入手段(例如，栗300)和管線(未圖示)而互相連接。因主體241中形成內(nèi)部空間，優(yōu)選地，具有可形成內(nèi)部空間的程度的預(yù)定高度。
[0074]吸入管242可以如上所述地形成為從主體241的下表面向下方延伸的形態(tài)。吸入管242可以形成有一個以上，優(yōu)選地可以形成多個而從被處理對象150的上表面的多個部位進(jìn)行吸入。吸入管242形成薄的管形狀，從而能夠被插入并吸入到較窄的間隔空間內(nèi)。根據(jù)圖5，吸入管242在主體241的下表面被布置為2列，然而并不局限于此，可以根據(jù)吸入管242的設(shè)置狀況等而實現(xiàn)多樣的變形。
[0075]吸入部240可以在腔室200內(nèi)布置有一個以上。優(yōu)選地，多個吸入部240可以沿著被處理對象150的進(jìn)行方向而被布置。據(jù)此，根據(jù)被處理對象150沿著移送輥輪230a、230b被移送而連續(xù)地由多個噴射部210a、210b噴射蝕刻液的情況下，可以借助多個吸入部240而連續(xù)地吸入沉積在被處理對象150的上表面的蝕刻液。
[0076]圖6是根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪230a、230b的局部立體圖。
[0077]參照圖6，移送輥輪230a、230b可以包括接觸到被處理對象150的上表面的上部輥輪230a和接觸到被處理對象150的下表面的下部輥輪230b。上部輥輪230a和下部輥輪230b的形狀可以相同或者類似，因此將會以上部輥輪230a為中心而進(jìn)行說明，并省略針對下部輥輪230b的說明。
[0078]各個上部輥輪230a分別可以包含端部231a、旋轉(zhuǎn)軸232a、多個支撐部件233a。端部231a對應(yīng)于各個上部輥輪230a的兩端，盡管未在圖6中圖示，還可以沿著周圍形成鋸齒形狀而執(zhí)行類似于齒輪的功能。在這種情況下，端部231a可以執(zhí)行傳遞用于使上部輥輪230a旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)力的傳遞單元的功能。多個支撐部件233a可以以沿著旋轉(zhuǎn)軸232a的長度方向相互分離預(yù)定間隔的方式形成。各個支撐部件233a可以是將旋轉(zhuǎn)軸232a作為中心的圓形部件。上部輥輪230a的支撐部件233a在與旋轉(zhuǎn)軸232a—同旋轉(zhuǎn)而將接觸到其下部的被處理對象150移送的同時，可以執(zhí)行以相互分離預(yù)設(shè)間隔的方式被布置而支撐被處理對象150的功能。因此，當(dāng)借助吸入部240而對被處理對象150的上表面進(jìn)行吸入過程時，為了防止作為具有柔性的薄膜的被處理對象150貼附于吸入部240的吸入管242，可以執(zhí)行支撐被處理對象的功能。
[0079]此外，根據(jù)圖6，一個上部輥輪230a的支撐部件233a可以以從旋轉(zhuǎn)軸232a方向觀察時部分重疊于與之相鄰的上部輥輪230a的支撐部件233a的方式布置。因此，從旋轉(zhuǎn)軸232a方向觀察時，一個上部輥輪230a的支撐部件233a和與之鄰接的上部輥輪230a的支撐部件233a之間不存在間隔，從而能夠可靠地支撐被處理對象150。
[0080]圖7是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪230a、230b和吸入部的局部正面圖。[0081 ] 參照圖7，吸入部240的吸入管242分別可以位于與一個上部輥輪230a鄰接的上部輥輪230a之間。具體而言，吸入管242分別可以位于一個上部輥輪230a的旋轉(zhuǎn)軸232a(在圖7中位于端部231a的后方，未圖示)和與之鄰接的上部輥輪230a的旋轉(zhuǎn)軸232a之間。根據(jù)本發(fā)明的一實施例，吸入部240的吸入管242分別位于兩個相鄰的上部輥輪230a的旋轉(zhuǎn)軸232a之間，與以現(xiàn)有的吸入棒的形態(tài)設(shè)置吸入部件的情況不同，能夠防止因柔性薄膜貼附于吸入部件而使工藝的進(jìn)展受阻的現(xiàn)象。
[0082]與吸入部240形成于被處理對象150的上部的情況相反，位于被處理對象150的下部的下部輥輪230b之間可以不設(shè)置有吸入部240。如上所述，向被處理對象150的下表面噴射的蝕刻液因重力而向下方滴落，因此蝕刻液不會沉積于被處理對象150的下表面。
[0083]圖8是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪230a和吸入部240的側(cè)面圖。
[0084]參照圖8，吸入管242分別可以布置于一個上部輥輪230a_l的支撐部件233a_l和與之鄰接的上部輥輪230a-2(在圖8中與上部輥輪230a-l的背部重疊，因此未圖示)的支撐部件233a-2之間的間隔內(nèi)。因此，與如上所述的以現(xiàn)有的吸入棒的形狀設(shè)置吸入部件的情況不同，能夠防止因柔性薄基板貼附于吸入部件而使工藝的進(jìn)展受阻的現(xiàn)象。
[0085]圖9是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪230a的局部立體圖。
[0086]參照圖9，上部輥輪230a本身的構(gòu)造與上述的實施例相同，然而一個上部輥輪230a-l的旋轉(zhuǎn)軸232a-l和與之鄰接的上部輥輪230a-2的旋轉(zhuǎn)軸232a-2之間可以布置有一個以上的連接支撐部件235a-l。同樣地，上部輥輪230a-2的旋轉(zhuǎn)軸232a-2和與之鄰接的上部輥輪230a-3的旋轉(zhuǎn)軸之間也可以布置有連接支撐部件235a-2。連接支持部件235a-l、235a-2以一雙對鉤(hook)的形狀形成，從而可以在對鉤內(nèi)收容所述鄰接的上部輥輪230a的旋轉(zhuǎn)軸232a。因此，連接支撐部件235a-l、235a-2可以使上部輥輪230a之間形成連接，并能夠維持上部輥輪230a之間的間隔。不僅如此，連接支撐部件235a-l、235a_2的下部還可以執(zhí)行將與其接觸的被處理對象150與上部輥輪230a的支撐部件233a —同支撐的功能。因此，根據(jù)本實施例，能夠更為可靠地防止因柔性薄基板貼附于吸入管240而使工藝的進(jìn)展受阻的現(xiàn)象。
[0087]此外，在圖9中僅針對上部輥輪230a進(jìn)行了圖示，然而在下部輥輪230b上也可以布置有連接支撐部件。
[0088]圖10是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的上部輥輪230a的局部平面圖。
[0089]參照圖10，由于支撐部件233&-1、233&-2、2333-3和連接支撐部件2353-1、235&-2以中間不存在間隔的方式得到布置，因此能夠可靠地支撐通過其下部而移送的被處理對象150。因此，如上所述，能夠更為可靠地防止因柔性薄基板貼附于吸入管240而使工藝的進(jìn)展受阻的現(xiàn)象。
[0090]圖11是表示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的移送輥輪230a、230b以及吸入部240的放大側(cè)面圖。
[0091]參照圖11，吸入部240的吸入管242的下端與被處理對象150的上表面之間可以具有預(yù)定的間隔d。間隔d可以是0.5?3mm。如果間隔d過于大，則不能正常地吸入沉積于上表面的蝕刻液。相反，如果間隔d過于小，則被處理對象150的移送將會受阻。間隔d可以通過調(diào)節(jié)固定部件(未圖示)的擰緊狀態(tài)而實現(xiàn)變更，該固定部件(未圖示)可以是螺栓，其用于固定吸入部240以將吸入部240設(shè)置在腔室200內(nèi)。
[0092]此外，吸入管242的吸力可以處在超過0mmHg、500mmHg以下的范圍。在吸入管242的吸力超出該范圍的情況下，可能會由于吸入管242的吸力而使被處理對象150的處理進(jìn)展受阻。
[0093]以上對本發(fā)明的具有代表性的實施例進(jìn)行了詳細(xì)的說明，然而在本發(fā)明所屬的技術(shù)領(lǐng)域中具有基本知識的人員皆可理解對上述的實施例可在不脫離本發(fā)明的范圍的限度內(nèi)進(jìn)行多樣的變形。因此，本發(fā)明的權(quán)利范圍并不局限于所述的實施例，本發(fā)明的權(quán)利范圍需要根據(jù)權(quán)利要求書的范圍以及與權(quán)利要求書均等的范圍來確定。
【主權(quán)項】
1.一種蝕刻裝置，作為用于蝕刻被處理對象的蝕刻裝置，包括: 腔室，提供用于執(zhí)行所述蝕刻的空間； 一個以上的噴射部，位于所述腔室內(nèi)，并對所述被處理對象噴射蝕刻液； 多個移送輥輪，用于使所述被處理對象移動；以及 吸入部，用于吸入所述被處理對象的上表面的蝕刻液， 其中，所述吸入部包括一個以上的吸入管， 所述移送輥輪分別包含旋轉(zhuǎn)軸以及沿著所述旋轉(zhuǎn)軸的長度方向形成的多個支撐部件，所述吸入管分別位于一個移送輥輪的支撐部件與相鄰于所述一個移送輥輪的鄰接移送輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)。2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述被處理對象具有柔性。3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻裝置，其中， 所述被處理對象為柔性印刷電路基板。4.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述噴射部包括位于所述被處理對象的上側(cè)的上部噴射部以及位于所述被處理對象的下側(cè)的下部噴射部。5.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中，所述移送輥輪包括: 上部輥輪，與所述被處理對象的上表面相接；以及 下部輥輪，與所述被處理對象的下表面相接。6.如權(quán)利要求5所述的蝕刻裝置，其中， 所述吸入管分別位于一個上部輥輪的支撐部件與相鄰于所述一個上部輥輪的鄰接上部輥輪的支撐部件之間的間隔內(nèi)。7.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中，所述一個移送輥輪的所述支撐部件以如下方式布置: 當(dāng)從所述旋轉(zhuǎn)軸的方向觀察時，部分重疊于所述鄰接移送輥輪的支撐部件。8.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述支撐部件是將所述旋轉(zhuǎn)軸作為中心的圓形部件。9.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述一個移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸與所述鄰接移送輥輪的旋轉(zhuǎn)軸之間布置有一個以上的連接支撐部件。10.如權(quán)利要求9所述的蝕刻裝置，其中， 所述連接支撐部件支撐所述被處理對象。11.如權(quán)利要求9所述的蝕刻裝置，其中， 所述連接支撐部件使所述一個移送輥輪與所述鄰接移送輥輪之間形成連接，并維持相連間隔。12.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述吸入部包括形成有所述一個以上的吸入管的主體。13.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中， 所述吸入管的下端與所述被處理對象之間的間隔為0.5?3_。14.如權(quán)利要求1所述的蝕刻裝置，其中，所述吸入管的吸力超過OmmHg且為500mmHg以下。
【文檔編號】C23F1/08GK106065475SQ201610249047
【公開日】2016年11月2日
【申請日】2016年4月20日 公開號201610249047.0, CN 106065475 A, CN 106065475A, CN 201610249047, CN-A-106065475, CN106065475 A, CN106065475A, CN201610249047, CN201610249047.0
【發(fā)明人】樸鍾模
【申請人】樸鍾模