專利名稱：利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種制備減反射膜的方法，尤其涉及一種利用選擇性溶脹兩親嵌段共聚物成孔來(lái)制備減反射膜的方法。
背景技術(shù)：
減反射膜(增透膜、抗反射膜)是能夠減少光反射，增加透射光的薄膜，被廣泛應(yīng)用于精密光學(xué)器件、陰極射線管、櫥窗玻璃、高能激光器、太陽(yáng)能吸收器等方面，在光學(xué)薄膜生產(chǎn)中占有十分重要的地位。要達(dá)到完全減反射效果，減反射膜的厚度以及折射率必須滿足兩方面要求1)涂膜厚度應(yīng)為增透光波長(zhǎng)的四分之一；幻涂膜的折射率應(yīng)為入射光與基底折射率乘積的平方根。如今使用最多的基片是玻璃材料或透明的有機(jī)材料，折射率一般在1. 5左右，因此理論上就要求減反射膜的折射率為1. 22左右，而且對(duì)于寬帶減反射膜而言就更加要求有一組可以變化的低折射率薄膜。而現(xiàn)在人們能夠找到的最小折射率為1.5左右(MgF2、 CaF2)，所以傳統(tǒng)的增透膜必須采取大規(guī)模的膜系設(shè)計(jì)技術(shù)來(lái)達(dá)到這些條件。通常一個(gè)性能好的增透膜系會(huì)達(dá)到幾十層甚至上百層，設(shè)計(jì)繁瑣，且制備工藝極為復(fù)雜，需要特殊的儀器設(shè)備，直接降低了經(jīng)濟(jì)效益。近年來(lái)，隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，在減反射膜中引入多孔結(jié)構(gòu)成了一種新的制備方法。目前主要是通過選擇性溶解、刻蝕、層層自組裝等方法將多孔結(jié)構(gòu)引入光學(xué)膜中，雖然能得到比較好的增透效果，但這些方法都需要前后期處理。選擇性溶解法雖然操作相對(duì)簡(jiǎn)單，但需要通過使用溶劑、UV光或臭氧去除某一成分或嵌段，不易控制；刻蝕法需要特定的掩膜和儀器，成本較高；層層自組裝法要獲得很好的增透效果，需要至少循環(huán)5個(gè)周期，比較耗時(shí)，另外需一些后處理方法如煅燒，限制了塑料等透明基底的使用?！斑x擇性溶脹成孔”是一個(gè)快速完成的物理過程，與化學(xué)致孔方法相比，具有普適性強(qiáng)、無(wú)物質(zhì)損失、不產(chǎn)生副產(chǎn)物、簡(jiǎn)單易行的突出優(yōu)勢(shì)。通過“選擇性溶脹成孔”能夠把孔尺寸控制在小尺寸、窄范圍內(nèi)，獲得形貌均一的膜孔結(jié)構(gòu)，首先滿足了減反射膜對(duì)小孔尺寸的要求，避免了漫反射的發(fā)生；另外經(jīng)“選擇性溶脹”處理后，膜厚度也會(huì)發(fā)生一系列的變化，能很好的控制對(duì)某一入射光波段的厚度要求，從而能夠精確定點(diǎn)增透，制備工藝更加簡(jiǎn)單，優(yōu)化了減反射效果，因此將“選擇性溶脹成孔”技術(shù)應(yīng)用于減反射膜的制備則能解決現(xiàn)有技術(shù)存在的問題與不足。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)的中存在的問題與不足，提供一種利用選擇性溶脹嵌段共聚物成孔制備減反射膜的方法，該方法簡(jiǎn)單易行。該方法主要是利用“選擇性溶脹成孔”技術(shù)，將聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物(簡(jiǎn)稱PS-b_P2VP)溶解在有機(jī)溶劑中，再旋涂于基底上，使溶劑揮發(fā)，在溶劑揮發(fā)過程中嵌段共聚物發(fā)生微相分離，再將基底浸泡溶脹劑中使聚2-乙烯基吡啶嵌段由于溶劑化作用而發(fā)生溶脹，然后再脫除溶脹劑，脫除溶脹劑后，溶脹的聚2-乙烯基吡啶嵌段分子鏈塌陷成孔，從而得到具有減反射效果的多孔減反射薄膜。另外通過調(diào)節(jié)涂膜轉(zhuǎn)速、溶液濃度以及溶脹時(shí)間，減反射膜能實(shí)現(xiàn)可見光區(qū)和紅外光區(qū)平均增透4%，在特定波段能達(dá)到最大透過率> 97%。本發(fā)明具體步驟如下(1)將聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物溶解于有機(jī)溶劑中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0. 1 3. Owt % ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以旋轉(zhuǎn)速度1500 SOOOrpm旋轉(zhuǎn)涂覆于清潔的基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在30 70°C真空干燥3 15小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟⑵中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C溶脹劑中，浸泡0. 1 15小時(shí)使聚2-乙烯基吡啶嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟C3)浸泡在溶脹劑中涂有聚合物薄膜的基底取出，脫除溶脹劑后， 得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。本發(fā)明的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法中，所述的有機(jī)溶劑優(yōu)選為四氫呋喃或氯仿；所述的基底優(yōu)選為玻璃基底；所述的溶脹劑優(yōu)選為無(wú)水乙醇；所述的脫除溶脹劑方法是用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，再將基底表面吹干。本發(fā)明具有以下有益效果與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供了一種全新的利用嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法，只需通過溶脹劑無(wú)水乙醇選擇性溶脹PS-b-P2VP中的P2VP嵌段，而在脫除乙醇后P2VP鏈段收縮成孔，即可獲得在570nm處最大透過率可達(dá)98. 2%，在可見光區(qū)和紅外區(qū)平均增透4%的減反射膜。這種工藝路線的優(yōu)點(diǎn)是制作方法簡(jiǎn)單，無(wú)需去除任一嵌段，只需通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速、溶液濃度，然后經(jīng)選擇性溶脹處理即可獲得具有高透過效果的多孔減反射膜。


圖1為減反射膜表面形貌隨聚合物濃度變化的掃描電子顯微鏡(SEM)圖，是以四氫呋喃為溶劑，聚合物濃度為0. 3wt%，轉(zhuǎn)速5000rpm，真空70°C干燥3小時(shí)，隨后乙醇溶脹 15小時(shí)后的SEM照片。圖2為減反射膜表面形貌隨聚合物濃度變化的掃描電子顯微鏡(SEM)圖，是以四氫呋喃為溶劑，聚合物濃度為0. 5wt%，轉(zhuǎn)速5000rpm，真空70°C干燥3小時(shí)，隨后乙醇溶脹 15小時(shí)后的SEM照片。圖3為減反射膜表面形貌隨聚合物濃度變化的掃描電子顯微鏡(SEM)圖，是以四氫呋喃為溶劑，聚合物濃度為1. Owt2. 0Wt%，轉(zhuǎn)速5000rpm，真空70°C干燥3小時(shí)，隨后乙醇溶脹15小時(shí)后的SEM照片。圖4為減反射膜表面形貌隨聚合物濃度變化的掃描電子顯微鏡(SEM)圖，是以四氫呋喃為溶劑，聚合物濃度為2. Owt%,轉(zhuǎn)速5000rpm，真空70°C干燥3小時(shí)，隨后乙醇溶脹 15小時(shí)后的SEM照片。圖5為實(shí)例3經(jīng)乙醇溶脹15小時(shí)后多孔減反射膜的SEM截面形貌照片；
圖6為實(shí)例1減反射膜隨轉(zhuǎn)速變化的透過率曲線圖；圖7為溶劑為四氫呋喃，聚合物濃度分別為0. 3wt%,0. 5wt%U. Owt%U. 2wt%, 2. 0wt%，經(jīng)涂膜轉(zhuǎn)速為5000rpm，乙醇溶脹15小時(shí)后得到減反射膜隨聚合物濃度變化的透過率曲線圖；圖8為實(shí)例3減反射膜隨乙醇溶脹時(shí)間變化的透過率曲線圖；圖9為實(shí)例6經(jīng)乙醇溶脹后減反射膜透過率曲線圖。
具體實(shí)施例方式實(shí)施例1(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于四氫呋喃中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 0. 3wt% ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以5000rpm旋轉(zhuǎn)速度旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在真空60°C條件下干燥6小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟(2)中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C無(wú)水乙醇中，浸泡15小時(shí)使P2VP嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。實(shí)施例2(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于四氫呋喃中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
0.5wt% ；(2)將步驟(1)中配制的溶液分別以旋轉(zhuǎn)速度1500rpm、2000rpm、3000rpm、 4000rpm、5000rpm、6000rpm、7000rpm和8000rpm旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形
成聚合物薄膜，隨后在真空30°C條件下干燥15小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟(2)中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C無(wú)水乙醇中，浸泡15小時(shí)使P2VP嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜，其透過率如圖3所示。實(shí)施例3(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于四氫呋喃中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
1.Owt % ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以5000rpm旋轉(zhuǎn)速度旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在真空70°C條件下干燥3小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟O)中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C無(wú)水乙醇中，分別浸泡 1小時(shí)、4小時(shí)、15小時(shí)使P2VP嵌段發(fā)生不同程度的溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜，所制膜的透過率如圖5所示。實(shí)施例4
(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于四氫呋喃中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
1.2wt% ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以5000rpm旋轉(zhuǎn)速度旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在真空70°C條件下干燥3小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟( 中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C無(wú)水乙醇中，浸泡15小時(shí)使P2VP嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。實(shí)施例5(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于四氫呋喃中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
2.Owt % ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以5000rpm旋轉(zhuǎn)速度旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在真空70°C條件下干燥3小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟( 中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C無(wú)水乙醇中，浸泡15小時(shí)使P2VP嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。實(shí)施例6(1)將嵌段共聚物PS-b_P2VP溶解于氯仿中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1.3Wt% ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以5000rpm旋轉(zhuǎn)速度旋涂于清潔的玻璃基底上，在基底表面形成聚合物薄膜，在真空70°C下干燥3小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟O)中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于無(wú)水乙醇中，浸泡15小時(shí)使 P2VP嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟(3)浸泡在無(wú)水乙醇中涂有聚合物薄膜的基底取出，并用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，將基底表面吹干，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。
權(quán)利要求
1.一種利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法，其特征在于該方法是將聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物溶解在有機(jī)溶劑中，再旋涂于基底上，使溶劑揮發(fā)，在溶劑揮發(fā)過程中嵌段共聚物發(fā)生微相分離，再將基底浸泡溶脹劑中使聚2-乙烯基吡啶嵌段由于溶劑化作用而發(fā)生溶脹，然后再脫除溶脹劑，脫除溶脹劑后，溶脹的聚 2-乙烯基吡啶嵌段分子鏈塌陷成孔，從而得到具有減反射效果的多孔減反射薄膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法， 其特征在于包括以下具體步驟(1)將聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物溶解于有機(jī)溶劑中，嵌段共聚物質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0. 1 3. Owt % ；(2)將步驟(1)中配制的溶液以旋轉(zhuǎn)速度1500 SOOOrpm旋轉(zhuǎn)涂覆于清潔的基底上， 在基底表面形成聚合物薄膜，隨后在30 70°C真空干燥3 15小時(shí)使嵌段共聚物發(fā)生微相分離；(3)將步驟( 中涂有嵌段共聚物薄膜的基底浸泡于60°C溶脹劑中，浸泡0.1 15小時(shí)使聚2-乙烯基吡啶嵌段發(fā)生溶脹；(4)最后將步驟C3)浸泡在溶脹劑中涂有聚合物薄膜的基底取出，脫除溶脹劑后，得到具有多孔結(jié)構(gòu)的減反射膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法，其特征在于所述的有機(jī)溶劑為四氫呋喃或氯仿。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法，其特征在于所述的基底為玻璃基底。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法，其特征在于所述的溶脹劑為無(wú)水乙醇。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的利用兩親嵌段共聚物選擇性溶脹成孔制備減反射膜的方法， 其特征在于所述的脫除溶脹劑方法是用去離子水清洗具有聚合物薄膜的基底，再將基底表面吹干。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種利用選擇性溶脹嵌段共聚物成孔制備減反射膜的方法，該方法簡(jiǎn)單易行。該方法主要是利用“選擇性溶脹成孔”技術(shù)，將聚苯乙烯和聚2-乙烯基吡啶的嵌段共聚物溶解在有機(jī)溶劑中，再旋涂于基底上，使溶劑揮發(fā)，在溶劑揮發(fā)過程中嵌段共聚物發(fā)生微相分離，再將基底浸泡溶脹劑中使聚2-乙烯基吡啶嵌段由于溶劑化作用而發(fā)生溶脹，然后再脫除溶脹劑，脫除溶脹劑后，溶脹的聚2-乙烯基吡啶嵌段分子鏈塌陷成孔，從而得到具有減反射效果的多孔減反射薄膜。另外通過調(diào)節(jié)涂膜轉(zhuǎn)速、溶液濃度以及溶脹時(shí)間，減反射膜能實(shí)現(xiàn)可見光區(qū)和紅外光區(qū)平均增透4％，在特定波段能達(dá)到最大透過率＞97％。
文檔編號(hào)C08J7/02GK102516583SQ20111036759
公開日2012年6月27日 申請(qǐng)日期2011年11月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月18日
發(fā)明者汪勇, 童靈 申請(qǐng)人:南京工業(yè)大學(xué)