技術(shù)特征：

1.多肽修飾的低聚原花青素，其特征在于結(jié)構(gòu)式如式(Ⅰ)所示：

式(Ⅰ)中，R代表結(jié)構(gòu)式如式(Ⅱ)所示的低聚原花青素分子中的任意一個(gè)R₁被去掉后形成的基團(tuán)，式(Ⅱ)中，n＝0、1、2或3，R₁為羥基，

2.權(quán)利要求1所述多肽修飾的低聚原花青素的制備方法，其特征在于步驟如下：

(1)丙烯?；揎椀牡途墼ㄇ嗨氐暮铣?/p>

①配制第一種溶液

將低聚原花青素溶解于二甲基甲酰胺中形成第一種溶液，所述低聚原花青素的聚合度為2、3、4或5，低聚原花青素在第一種溶液中的濃度為10～40mg/mL；

②配制第二種溶液

將三乙胺溶解于第一種溶液中形成第二種溶液，所述三乙胺與第一種溶液中低聚原花青素的摩爾比為(1～1.5):1；

③合成

在氬氣保護(hù)條件下于-5～5℃將丙烯酰氯加入到第二種溶液中，在室溫反應(yīng)至少24h，然后經(jīng)透析、冷凍干燥，即得丙烯?；揎椀牡途墼ㄇ嗨?；所述丙烯酰氯與第二種溶液中低聚原花青素的摩爾比為(1～1.5):1；

(2)帶保護(hù)基團(tuán)的多肽修飾的低聚原花青素的合成

①配制第三種溶液

將步驟(1)制備的丙烯?；揎椀牡途墼ㄇ嗨厝芙庥谌ルx子水中形成第三種溶液，所述去離子水的量以所述丙烯?；揎椀牡途墼ㄇ嗨啬茉谌ルx子水中完全溶解為限；

②配制第四種溶液

以結(jié)構(gòu)式如式(Ⅲ)所示的多肽為溶質(zhì)，將所述溶質(zhì)溶解于去離子水中形成第四種溶液，所述去離子水的量以溶質(zhì)能在去離子水中完全溶解為限，

③合成

將二甲基苯基磷加入第三種溶液中并混合均勻，然后加入第四種溶液并混合均勻，在密封條件下于室溫反應(yīng)至少24h，經(jīng)透析、冷凍干燥，即得帶保護(hù)基團(tuán)的多肽修飾的低聚原花青素；

所述第四種溶液的加入量應(yīng)使第四種溶液中的巰基與第三種溶液中的碳碳雙鍵的摩爾比為(1～1.5):1，所述二甲基苯基磷與第四種溶液中的巰基的摩爾比為(10^-6～10^-5):1；

(3)多肽修飾的低聚原花青素的合成

①配制第五種溶液

將氨水、二氧六環(huán)、濃度為3～5mol/L的氫氧化鈉水溶液混合均勻得到第五種溶液，第五種溶液中，氨水、二氧六環(huán)、氫氧化鈉的摩爾比為(1.9～2.1):(0.9～1):(0.08～0.12)；

②合成

以步驟(2)制備的帶保護(hù)基團(tuán)的多肽修飾的低聚原花青素為溶質(zhì)，將所述溶質(zhì)溶解于第五種溶液中并混合均勻，在密封條件下于室溫反應(yīng)至少24h，然后經(jīng)透析、冷凍干燥，即得多肽修飾的低聚原花青素；所述第五種溶液的量以溶質(zhì)能在第五種溶液中完全溶解為限。

3.權(quán)利要求1所述多肽修飾的低聚原花青素作為牙釉質(zhì)原位再礦化誘導(dǎo)劑以及牙科植入體表面抗菌材料的應(yīng)用。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的應(yīng)用，其特征在于將所述多肽修飾的低聚原花青素配制成水溶液使用。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的應(yīng)用，其特征在于所述水溶液中，多肽修飾的低聚原花青素的濃度為1000～3000ppm。