本發(fā)明涉及舷窗薄膜制造技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜及其制備方法。
背景技術(shù):
通航飛機(jī)(特別是未來(lái)全視窗或全透明的私人商務(wù)飛機(jī)、觀光飛機(jī)等)的舷窗可為艙內(nèi)提供足夠的光線來(lái)源,并方便旅客觀察欣賞外部風(fēng)景,提高旅途舒適性,大面積透明件成為未來(lái)通航飛機(jī)主流方向之一。同時(shí),舷窗玻璃如果不做特別處理,在采光的同時(shí)也會(huì)帶來(lái)紅外線、紫外線的透過(guò),而室內(nèi)紅外線的透過(guò)會(huì)大幅降低艙內(nèi)溫度,增加飛機(jī)空調(diào)系統(tǒng)成本和運(yùn)行功率,引起能量損失,外部紫外線的通過(guò)會(huì)降低艙內(nèi)衣物、電子設(shè)備的壽命。對(duì)飛機(jī)而言,燃油節(jié)省至關(guān)重要,可延長(zhǎng)航程并在等距離時(shí)節(jié)能燃油使用,因此,在保證舷窗玻璃可見(jiàn)光透過(guò)率的前提下,有效控制紅外、紫外線的通過(guò),實(shí)現(xiàn)節(jié)能效果。同時(shí),對(duì)通航飛機(jī)而言,普通的舷窗玻璃采用有機(jī)玻璃,具有較低的耐磨性,使舷窗玻璃可能過(guò)早發(fā)生銀紋現(xiàn)象,甚至出現(xiàn)裂紋等嚴(yán)重后果,因此,高耐磨性成為舷窗玻璃的必然要求之一。
通過(guò)在線或離線鍍膜技術(shù)在舷窗透明玻璃的雙面根據(jù)設(shè)計(jì)需求依次沉積單層或多層透明膜層,綜合完成可見(jiàn)光、紅外線、紫外線的可選擇性通過(guò)和截止,滿足旅客對(duì)飛行過(guò)程中的視野要求和艙內(nèi)采光需求的同時(shí)保證節(jié)能效果;沉積高耐磨性透明薄膜,增加舷窗玻璃外部的機(jī)械性能,提高耐摩擦性能,增加舷窗玻璃使用壽命并改善舒適性。同時(shí),通過(guò)膜層之間的匹配,實(shí)現(xiàn)紫外線的截止,保護(hù)艙內(nèi)衣物、電子設(shè)備,提高其使用壽命。
本發(fā)明的技術(shù)問(wèn)題在于一般通航飛機(jī)舷窗未綜合采用節(jié)能膜系和高耐磨膜系,傳統(tǒng)的舷窗玻璃主要采用中空達(dá)到節(jié)能效果,其玻璃外表面并未進(jìn)行高耐磨性能提升??紤]到通航飛機(jī)使用條件和使用壽命,有必要在保證足夠透光率的前提下,實(shí)現(xiàn)紅外高反射和優(yōu)秀的耐磨性能要求。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的是針對(duì)上述問(wèn)題,提供一種外表面耐磨性能強(qiáng)的通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜及其制備方法。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用了下列技術(shù)方案:本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜,所述用于通航飛機(jī)舷窗玻璃高耐磨節(jié)能薄膜包括有機(jī)玻璃基底,所述有機(jī)玻璃基底上設(shè)置有A面和B面,所述A面和B面上分別設(shè)置有不同的透明薄膜,A面為節(jié)能膜系,B面為高耐磨透明膜系;所述節(jié)能膜系由有機(jī)玻璃基底由內(nèi)向外依次為節(jié)能功能層和保護(hù)層。所述高耐磨膜系由有機(jī)玻璃基底由內(nèi)向外依次沉積。
進(jìn)一步地,所述A面向舷窗內(nèi)為內(nèi)側(cè),所述B面向舷窗外為外側(cè),所述節(jié)能功能層由內(nèi)向外依次為第一氧化硅層、第一氧化鋅鎵層、第一氧化鋅鎵銦層、金屬層和第二氧化鋅鎵銦層,所述第一氧化硅層膜層厚度為16~28nm,第一氧化鋅鎵層的膜層厚度為15~25nm,第二氧化鋅鎵銦層的膜層厚度為18~30nm,金屬層的膜層厚度為6~12nm,第二氧化鋅鎵銦層的膜層厚度為20~35nm。第一氧化硅層用于保護(hù)節(jié)能功能膜層,提高膜層壽命,金屬層主要用于實(shí)現(xiàn)紅外線高反射,產(chǎn)生節(jié)能效果,第一、第二氧化鋅鎵銦層和第一氧化鋅鎵層可提高薄膜附著力,并提高紅外反射效果;
進(jìn)一步地,所述金屬層為金屬鈦層、金屬銀層或金屬金層。
更進(jìn)一步地,所述保護(hù)層由內(nèi)向外依次為第二氧化鋅鎵層和第二氧化硅層,所述第二氧化鋅鎵層的膜層厚度為25~35nm,第二氧化硅層的膜層厚度為45~100nm。第二氧化硅層置于膜系外層用于保護(hù)節(jié)能功能膜層,提高膜層壽命和耐磨性能,第二氧化鋅鎵層輔助提高膜系耐磨性能,并對(duì)紅外反射有一定幫助;
進(jìn)一步地,所述的高耐磨透明膜系由內(nèi)向外依次為第一氮化硅層、氮化鋁膜層、氮化鈦膜層和第二氮化硅膜層,所述第一氮化硅層的膜層厚度為15~25nm,氮化鋁膜層的膜層厚度為18~35nm,氮化鈦膜層的膜層厚度為20~40nm,第二氮化硅膜層的膜層厚度為55~150nm。第一、第二氮化硅膜層、氮化鋁膜層、氮化鈦膜層共同實(shí)現(xiàn)B面的高耐磨性能,提高舷窗外部抗摩擦等機(jī)械性能,并具備優(yōu)秀的防腐防刮傷性能,同時(shí),氮化鋁膜層和氮化鈦膜層也有輔助調(diào)節(jié)膜層顏色的功能;
本發(fā)明所述的用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜的制備方法,包括如下步驟:
(1)采用平衡或非平衡磁控濺射方式,鍍膜設(shè)備的進(jìn)出片部分要求潔凈度十萬(wàn)級(jí)以內(nèi),冷卻水的溫度為15~24℃,濕度小于60%;打開(kāi)鍍膜設(shè)備,抽真空至滿足本底真空要求:鍍膜室真空度<3×10-3Pa、其他真空室真空度<0.7Pa;
(2)舷窗有機(jī)玻璃基底經(jīng)清洗機(jī)清洗后,以立式方式進(jìn)入鍍膜設(shè)備,依次通過(guò)進(jìn)入室、隔離室,到達(dá)鍍膜室,基片在進(jìn)入室時(shí)抽真空至1~3Pa之間,打開(kāi)隔離閥進(jìn)入隔離室,關(guān)閉隔離閥,抽真空使隔離室真空度小于1.5Pa以下之后進(jìn)入鍍膜室;進(jìn)入鍍膜室后,關(guān)閉隔離室與鍍膜室間的隔離閥,同時(shí)通入氬氣和相應(yīng)工藝氣體維持真空度在0.3~0.8Pa之間;
(3)待鍍膜室腔體內(nèi)充入氬氣和工藝氣體的總氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底的A面正對(duì)靶面,A面與靶面之間的距離保持在8~25cm,連續(xù)開(kāi)啟中頻電源或直流電源,依次在基底的A面上鍍制節(jié)能功能層和保護(hù)層;
(4)A面鍍膜結(jié)束后,有機(jī)玻璃基底經(jīng)過(guò)隔離室、離開(kāi)室;
(5)清洗上片,對(duì)B面進(jìn)行鍍膜,重復(fù)步驟(1)~(3),鍍膜過(guò)程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度范圍為0.5~2.5m/min。
進(jìn)一步地,在步驟(1)中,所述電源為中頻電源或直流電源;在步驟(2)和(3)中,鍍制A面時(shí)工藝氣體為氧氣,鍍制B面時(shí)工藝氣體為氮?dú)狻?/p>
進(jìn)一步地,在步驟(3)中,開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,恒電流方式,依據(jù)不同膜層,選擇不同電流大小,電源采用恒功率的范圍為5~35kw或恒電流的范圍為5~35A。
更進(jìn)一步地,在步驟(3)中,所述鍍制金屬層時(shí),電源采用恒功率的范圍為0.5~2kw。
有益效果:本發(fā)明的舷窗玻璃可見(jiàn)光透光率好,透光率大于81%,紅外反射率強(qiáng),可達(dá)75%以上;B面耐磨性能、防腐蝕性能、耐候性能優(yōu)秀,延長(zhǎng)了實(shí)用壽命,同時(shí),具備一定的紫外截止功能,生產(chǎn)過(guò)程簡(jiǎn)單,合理調(diào)整各膜層厚度,可自主調(diào)整膜系性能參數(shù),利于自主調(diào)整膜系參數(shù)性能,高耐磨透明膜系具備調(diào)整膜系顏色的功能。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有如下優(yōu)點(diǎn):
(1)本發(fā)明節(jié)能功能層采用金屬和金屬導(dǎo)電氧化組成,金屬為主、金屬導(dǎo)電氧化物為主,實(shí)現(xiàn)高的紅外反射,提高節(jié)能效果,且具備一定的紫外線截止性能,同時(shí),采用的氧化硅和金屬氧化物保證了一定的耐磨性和耐腐蝕性;
(2)本發(fā)明耐磨層綜合采用了氮化硅、氮化鋁、氮化鈦等氮化物,針對(duì)舷窗玻璃外側(cè)經(jīng)常遭遇的風(fēng)沙、雨滴等的刮擦作用,用于提高其耐磨性能、耐腐蝕性能、耐候性能;進(jìn)一步,氮化鋁和氮化鈦的膜層采用,可用于整個(gè)膜系顏色的主動(dòng)調(diào)整,同時(shí)對(duì)節(jié)能效果有一定的輔助作用。
(3)節(jié)能功能層的使用可提高艙內(nèi)溫度的穩(wěn)定性,為飛機(jī)的空調(diào)系統(tǒng)減輕壓力,并有利于改善飛行舒適性。節(jié)能膜層中的金屬膜和金屬氧化物層可實(shí)現(xiàn)中遠(yuǎn)紅外線的控制,提高節(jié)能效果,同時(shí)金屬層對(duì)紫外截止也有一定截止作用。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜;
其中,0舷窗玻璃基底,對(duì)A面,1-11第一氧化硅層,1-12第一氧化鋅鎵層,1-13第一氧化鋅鎵銦層,1-14金屬層,1-15第二氧化鋅鎵銦層,1-21第二氧化鋅鎵層,1-22第二氧化硅層;對(duì)B面,2-11第一氮化硅層,2-12氮化鋁膜層,2-13氮化鈦膜層,2-14第二氮化硅膜層。
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚,以下將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式作進(jìn)一步地詳細(xì)描述。
實(shí)施例1
本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜,所述用于通航飛機(jī)舷窗玻璃高耐磨節(jié)能薄膜包括有機(jī)玻璃基底0,所述有機(jī)玻璃基底0上設(shè)置有A面和B面,所述A面和B面上分別設(shè)置有不同的透明薄膜,A面為節(jié)能膜系,B面為高耐磨透明膜系;所述節(jié)能膜系由有機(jī)玻璃基底由內(nèi)向外依次為節(jié)能功能層和保護(hù)層。所述高耐磨膜系由有機(jī)玻璃基底由內(nèi)向外依次沉積。
所述A面向舷窗內(nèi)為內(nèi)側(cè),所述B面向舷窗外為外側(cè),所述節(jié)能功能層由內(nèi)向外依次為第一氧化硅層1-11、第一氧化鋅鎵層1-12、第一氧化鋅鎵銦層1-13、金屬層1-14和第二氧化鋅鎵銦層1-15,所述第一氧化硅層1-11的膜層厚度為16nm,第一氧化鋅鎵層1-12的膜層厚度為15nm,第二氧化鋅鎵銦層1-13的膜層厚度為18nm,金屬層1-14為金屬鈦層,所述金屬鈦層的膜層厚度為12nm,第二氧化鋅鎵銦層1-15的膜層厚度為20nm;
所述保護(hù)層由內(nèi)向外依次為第二氧化鋅鎵層1-21和第二氧化硅層1-22,所述第二氧化鋅鎵層1-21的膜層厚度為25nm,第二氧化硅層1-22的膜層厚度為95nm;
所述的高耐磨透明膜系由內(nèi)向外依次為第一氮化硅層2-11、氮化鋁膜層2-12、氮化鈦膜層2-13和第二氮化硅膜層2-14,所述第一氮化硅層2-11的膜層厚度為15nm,氮化鋁膜層2-12的膜層厚度為18nm,氮化鈦膜層的膜層厚度為20nm,第二氮化硅膜層的膜層厚度為65nm;
本發(fā)明所述的用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜的制備方法,包括如下步驟:室內(nèi)溫度在20℃、濕度45%,冷卻水溫度18℃,舷窗玻璃基底進(jìn)設(shè)備之前位置要求潔凈度十萬(wàn)級(jí)以內(nèi),
(1)開(kāi)機(jī)過(guò)程:開(kāi)啟鍍膜設(shè)備真空泵系統(tǒng),先使鍍膜設(shè)備所有腔室達(dá)到本底真空要求:鍍膜室真空度<3×10-3Pa、其他真空室真空度<0.7Pa;
(2)鍍膜過(guò)程:舷窗玻璃基底經(jīng)過(guò)表面清洗后,進(jìn)入鍍膜設(shè)備,隔離室氣壓維持在1.5Pa以內(nèi),鍍膜工藝室通過(guò)通入氬氣維持氣壓為0.5Pa,待穩(wěn)定后通入工藝氣體;所述工藝氣體為氧氣或氮?dú)?,鍍制A面時(shí)為氧氣,B面時(shí)為氮?dú)狻?/p>
(3)待鍍膜室腔體內(nèi)充入氬氣和工藝氣體的總氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底的A面正對(duì)靶面,A面與靶面之間的距離保持在8cm,連續(xù)開(kāi)啟中頻電源或直流電源,依次在基底的A面上鍍制節(jié)能功能層和保護(hù)層;開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,電源采用恒功率的范圍為8kw。
所述工藝氣體為氧氣或氮?dú)?,鍍制A面時(shí)為氧氣,B面時(shí)為氮?dú)狻?/p>
(4)A面鍍膜結(jié)束后,所得產(chǎn)物經(jīng)過(guò)緩沖室、離開(kāi)室,出片后清洗;
(5)對(duì)B面鍍膜,重復(fù)步驟(1)~(3),鍍膜過(guò)程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度為1.2m/min。
實(shí)施例2
實(shí)施例2與實(shí)施例1的區(qū)別在于:
本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜,所述第一氧化硅層1-11的膜層厚度為28nm,第一氧化鋅鎵層1-12的膜層厚度為25nm,第二氧化鋅鎵銦層1-13的膜層厚度為30nm,金屬層1-14為金屬銀層,金屬銀層的膜層厚度為8nm,第二氧化鋅鎵銦層1-15的膜層厚度為35nm;
所述保護(hù)層由內(nèi)向外依次為第二氧化鋅鎵層1-21和第二氧化硅層1-22,所述第二氧化鋅鎵層1-21的膜層厚度為35nm,第二氧化硅層1-22的膜層厚度為95nm;
所述第一氮化硅層2-11的膜層厚度為25nm,氮化鋁膜層2-12的膜層厚度為35nm,氮化鈦膜層2-13的膜層厚度為35nm,第二氮化硅膜層2-14的膜層厚度為120nm;
本發(fā)明所述的用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜的制備方法,包括如下步驟:室內(nèi)溫度在22℃、濕度50%,冷卻水溫度15℃,舷窗玻璃基底進(jìn)設(shè)備之前位置要求潔凈度十萬(wàn)級(jí)以內(nèi),
在步驟(1)中,開(kāi)機(jī)過(guò)程:開(kāi)啟鍍膜設(shè)備真空泵系統(tǒng),先使鍍膜設(shè)備所有腔室達(dá)到本底真空要求:鍍膜室真空度<3×10-3Pa、其他真空室真空度<0.7Pa;
在步驟(2)中,鍍膜過(guò)程:舷窗玻璃基底經(jīng)過(guò)表面清洗后,進(jìn)入鍍膜設(shè)備,隔離室氣壓維持在1.5Pa以內(nèi),鍍膜工藝室通過(guò)通入氬氣維持氣壓為0.8Pa,待穩(wěn)定后通入工藝氣體;
在步驟(3)中,待鍍膜室腔體內(nèi)充入氬氣和工藝氣體的總氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底的A面正對(duì)靶面,A面與靶面之間的距離保持在25cm,連續(xù)開(kāi)啟中頻電源或直流電源,依次在基底的A面上鍍制節(jié)能功能層和保護(hù)層;
開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,電源采用恒功率的范圍為22kw,特別的,鍍制金屬層時(shí),恒功率范圍為1.2kw。
在步驟(5)中,對(duì)B面鍍膜,重復(fù)步驟(1)~(3),鍍膜過(guò)程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度為2.5m/min。
實(shí)施例3
實(shí)施例3與實(shí)施例1的區(qū)別在于:本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜,所述第一氧化硅層1-11的膜層厚度為20nm,第一氧化鋅鎵層1-12的膜層厚度為18nm,第二氧化鋅鎵銦層1-13的膜層厚度為22nm,金屬層1-14為金屬金層,金屬金層的膜層厚度為10nm,第二氧化鋅鎵銦層1-15的膜層厚度為28nm;
所述保護(hù)層由內(nèi)向外依次為第二氧化鋅鎵層1-21和第二氧化硅層1-22,所述第二氧化鋅鎵層1-21的膜層厚度為30nm,第二氧化硅層1-22的膜層厚度為45nm;
所述第一氮化硅層2-11的膜層厚度為18nm,氮化鋁膜層2-12的膜層厚度為25nm,氮化鈦膜層2-13的膜層厚度為32nm,第二氮化硅膜層2-14的膜層厚度為150nm;
本發(fā)明所述的用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜的制備方法,包括如下步驟:室內(nèi)溫度在22℃、濕度35%,冷卻水溫度24℃,舷窗玻璃基底進(jìn)設(shè)備之前位置要求潔凈度十萬(wàn)級(jí)以內(nèi),
在步驟(1)中,開(kāi)機(jī)過(guò)程:開(kāi)啟鍍膜設(shè)備真空泵系統(tǒng),先使鍍膜設(shè)備所有腔室達(dá)到本底真空要求:鍍膜室真空度<3×10-3Pa、其他真空室真空度<0.7Pa;
在步驟(2)中,鍍膜過(guò)程:舷窗玻璃基底經(jīng)過(guò)表面清洗后,進(jìn)入鍍膜設(shè)備,隔離室氣壓維持在3Pa,鍍膜工藝室通過(guò)通入氬氣維持氣壓為0.7Pa,待穩(wěn)定后通入工藝氣體;
在步驟(3)中,待鍍膜室腔體內(nèi)充入氬氣和工藝氣體的總氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底的A面正對(duì)靶面,A面與靶面之間的距離保持在20cm,連續(xù)開(kāi)啟中頻電源或直流電源,依次在基底的A面上鍍制節(jié)能功能層和保護(hù)層;
開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,電源采用恒功率的范圍為16kw,特別的,鍍制金屬層時(shí),恒功率范圍為0.9~1.2kw。
在步驟(5)中,對(duì)B面鍍膜,重復(fù)步驟(1)~(3),鍍膜過(guò)程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度為1.8m/min。
實(shí)施例4
實(shí)施例4與實(shí)施例1的區(qū)別在于:本發(fā)明的一種用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜,第一氧化鋅鎵層1-12的膜層厚度為20nm,金屬層1-14為金屬金層,金屬金層的膜層厚度為6nm;第二氧化硅層1-22的膜層厚度為100nm;所述氮化鈦膜層2-13的膜層厚度為40nm,第二氮化硅膜層2-14的膜層厚度為55nm;
本發(fā)明所述的用于通航飛機(jī)舷窗玻璃的高耐磨節(jié)能薄膜的制備方法,包括如下步驟:室內(nèi)溫度在22℃、濕度35%,冷卻水溫度16℃,舷窗玻璃基底進(jìn)設(shè)備之前位置要求潔凈度十萬(wàn)級(jí)以內(nèi),
在步驟(1)中,開(kāi)機(jī)過(guò)程:開(kāi)啟鍍膜設(shè)備真空泵系統(tǒng),先使鍍膜設(shè)備所有腔室達(dá)到本底真空要求:鍍膜室真空度<3×10-3Pa、其他真空室真空度<0.7Pa;
在步驟(2)中,鍍膜過(guò)程:舷窗玻璃基底經(jīng)過(guò)表面清洗后,進(jìn)入鍍膜設(shè)備,隔離室氣壓維持在1Pa,鍍膜工藝室通過(guò)通入氬氣維持氣壓為0.3Pa,待穩(wěn)定后通入工藝氣體;
在步驟(3)中,待鍍膜室腔體內(nèi)充入氬氣和工藝氣體的總氣壓穩(wěn)定后,將有機(jī)玻璃基底的A面正對(duì)靶面,A面與靶面之間的距離保持在8cm,連續(xù)開(kāi)啟中頻電源或直流電源,依次在基底的A面上鍍制節(jié)能功能層和保護(hù)層;
開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,鍍制金屬層時(shí),恒功率范圍為0.9kw。
在步驟(5)中,對(duì)B面鍍膜,重復(fù)步驟(1)~(3),鍍膜過(guò)程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻,速度為0.5m/min。
實(shí)施例5
實(shí)施例5與實(shí)施例1的區(qū)別在于:在步驟(3)中,開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,鍍制金屬層時(shí),恒功率范圍為1.2kw。
實(shí)施例6
實(shí)施例6與實(shí)施例1的區(qū)別在于:在步驟(3)中,開(kāi)啟陰極中頻或直流電源,鍍制金屬層時(shí),恒功率范圍為1kw。
盡管本文較多地使用了舷窗玻璃基片,氧化硅膜層,氧化鋅鎵層,氧化鋅鎵銦層,氮化鋁,氮化鈦等等術(shù)語(yǔ),但并不排除使用其它術(shù)語(yǔ)的可能性。使用這些術(shù)語(yǔ)僅僅是為了更方便地描述和解釋本發(fā)明的本質(zhì);把它們解釋成任何一種附加的限制都是與本發(fā)明精神相違背的。
本文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明精神作舉例說(shuō)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類(lèi)似的方式替代,但并不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權(quán)利要求書(shū)所定義的范圍。