分子印跡聚合物和其作為去屑劑的用圖
【專利說(shuō)明】分子印跡聚合物和其作為去屑劑的用途
[0001] 本發(fā)明涉及特定分子印跡聚合物，和含其的化妝品組合物，和它們除去或減少頭 皮肩的用途。
[0002] 頭皮肩的產(chǎn)生(頭皮的脫肩問(wèn)題）在審美上令人不快，并且由于頭皮肩所造成的麻 煩(瘙癢、紅腫等)，因而許多不同程度上面對(duì)這一問(wèn)題的人希望高效且永久地消除這一問(wèn) 題。
[0003] 頭皮肩相應(yīng)于表皮細(xì)胞的過(guò)度快速增殖造成的頭皮過(guò)度和可見(jiàn)脫肩。這種現(xiàn)象 可能尤其是由物理或化學(xué)性質(zhì)的微創(chuàng)傷，如過(guò)于劇烈的頭發(fā)處理、極端的氣候條件、神經(jīng)過(guò) 敏、飲食、疲勞和污染所造成的，但是已經(jīng)表明，頭皮肩癥狀通常是由于頭皮微生物群的紊 亂，更特別是由于屬于馬拉色氏霉菌屬(此前稱為Pytirosporum ovale)的酵母家族并天然 存在于頭皮上的酵母的過(guò)度定殖。
[0004] 為了抑制頭皮肩，已知使用局部施加的抗真菌劑。由于它們的抗真菌能力，這些 試劑試圖除去或控制頭皮中存在的酵母增加，所述酵母屬于馬拉色氏霉菌屬和其變體(卵 圓馬拉塞霉菌、I 糠秕馬拉色氏霉菌、球形馬拉色菌等)。作為用于它們抗真 菌作用的去肩劑，可以引入吡硫鑰鋅、吡羅克酮乙醇胺鹽、二硫化硒。這些活性劑可能對(duì)頭 皮的總體品質(zhì)具有不利的影響，包括頭皮發(fā)干、頭發(fā)顏色和環(huán)境2004; 201(1), 5-8) 〇
[0005] 在文章〃Three Etiologic Facets of Dandruff and Seborrheic Dermatitis: Malassezia Fungi, Sebaceous Lipids, and Individual Sensitivity" Y. M. DeAngelis 等人，J. Investig. Dermatol Symp Proc 10:295-297, 2005 中，述及存在于皮脂中的油 酸造成產(chǎn)生馬拉色氏霉菌，導(dǎo)致形成頭皮肩。
[0006] 因此，一直需要尋找沒(méi)有上述缺點(diǎn)的特別是沒(méi)有抗真菌活性且能夠中和油酸在頭 皮上的作用并從而防止馬拉色氏霉菌屬對(duì)頭皮的過(guò)度定植的新型的有效去肩劑。
[0007] 申請(qǐng)人目前以出人意料地方式發(fā)現(xiàn)使用上文定義的某些印跡聚合物能夠特別地 捕獲造成頭皮肩形成的c 14-c2(l脂肪酸，特別是油酸。
[0008] 因此，這些特定的分子印跡聚合物能夠捕獲存在于頭皮上的油酸，從而防止馬拉 色氏霉菌對(duì)頭皮的定植。因此，它們減少或防止頭皮肩出現(xiàn)。
[0009] 本發(fā)明因此涉及可以根據(jù)一種方法獲得的分子印跡聚合物，所述方法包括聚合包 含以下物質(zhì)的混合物的第一步驟： i) 如下文定義的一種或多種堿性乙烯單體； ii) 一種或多種包含至少2個(gè)可聚合乙烯不飽和度的交聯(lián)劑； iii) 一種或多種致孔溶劑（porogenic sovent); iv) -種或多種C14-C2(l脂肪酸， 然后除去存在于從第一步驟獲得的聚合物中的C14-C2(l脂肪酸的第二步驟。
[0010] 本發(fā)明還涉及用于制備下文定義的分子印跡聚合物的方法。
[0011] 本發(fā)明還涉及在生理學(xué)上可接受的基質(zhì)中包含前文定義的分子印跡聚合物的化 妝品組合物。
[0012] 本發(fā)明的其他目的是防止和/或處理頭皮肩，特別是由來(lái)自馬拉色氏霉菌屬的酵 母導(dǎo)致的頭皮肩的化妝方法，其特征在于其包括向頭皮施加上文定義的印記聚合物或包含 其的化妝品組合物。
[0013] 本發(fā)明的其他目的是上文定義的印記聚合物作為活性劑防止和/或處理頭皮肩 的化妝用途。
[0014] 分子印跡聚合物或MIP為廣泛用于它們?cè)谏锛夹g(shù)、化學(xué)、色譜分析、分析化學(xué) 和生物領(lǐng)域中應(yīng)用的材料 U /feco 斯 it, 1￡，106-180 (2006); ifohcWar# Imprinted Materials: Science and Technology,Marcel Dekker, NY, M. Yan 和 0. Ramstrom (2005))。分子印跡的概念涉及自從1894年對(duì)酶和它們的配體已知的 Emil Fisher 的著名的鎖和鑰匙匹配理論（JoVaflces i/? CkrAoAjvirate SiocAewistry，1 - 20 (1994))。分子印跡更具體地在于制備包含具有革El向分子或"印跡"， 也稱為"模板"的特定形狀和尺寸的腔室的聚合物，其使用模板用于形成具有印跡分子的 互補(bǔ)形狀的識(shí)別位點(diǎn)。所述分子印跡為從在分子也稱為模板周圍聚合的官能單體制備的聚 合物。因此，選擇所述單體從而與所述模板形成非共價(jià)鍵相互作用（氫鍵和靜電鍵、離子和 非離子相互作用或甚至低能量相互作用，例如范德華力鍵，或堆疊)。然后在稱為"致 孔溶劑"的溶劑中在與所述模板絡(luò)合的單體和交聯(lián)劑之間發(fā)生聚合從而形成特定腔室。然 后使用合適的溶劑破壞所述模板和聚合單體之間的鍵以從聚合物載體脫除（extract)模 板。然后，模板分子脫除離開(kāi)對(duì)于靶分子具有高親和力的空識(shí)別位點(diǎn)。印記的形狀和尺寸 和識(shí)別腔室內(nèi)部的官能團(tuán)的空間布置補(bǔ)充模板分子和含有與該同一分子具有特異性的相 互作用位點(diǎn)。
[0015] 這類選擇性捕獲在幾篇科學(xué)文章中記載（參見(jiàn)例如心try llolecularly imprinted polymers: the next generation"， 75(17), 376-383, (2003);Chemical Engineering Journal,"Selective separation of basic and reactive dyes by molecularly imprinted polymers (MIPs) 〃，149(1-3), 263-272， (2009),Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology^Molecular Imprinting" D. Spivak;從2010年6月 25 日起可在線獲得，D0I: 10. 1002/0471238961. molespiv.aOl; Molecularly Imprinted Polymers',B. R. Hart, K. J. Shea, http://onlinelibrary. wiley. com/doi/10. 1002/0471216275. esm054/full,Encyclopedia of Polymer, Science 從 2002 年 7 月 15 日起可在線獲得；D0I: 10. 1002/0471216275. esm054; J. Sep. Sci, M. Lasakova, P. Jandera, 32, 799-812) 〇
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的分子印跡聚合物可以根據(jù)一種方法獲得，所述方法包括包含以下物 質(zhì)的混合物的第一聚合步驟： i) 下文定義的一種或多種堿性乙烯單體； ii) 一種或多種包含至少2個(gè)可聚合乙烯不飽和度的交聯(lián)劑； iii) 一種或多種致孔溶劑；在存在下 iv) -種或多種C14-C2(l脂肪酸， 然后除去存在于從第一步驟獲得的聚合物中的C14-C2(l脂肪酸的第二步