專利名稱：光刻膠噴涂裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于芯片制造領(lǐng)域的裝置，尤其是涉及一種用于光刻工藝的光刻膠噴涂裝置及方法。
背景技術(shù)：
光刻膠(photoresist)又稱光致抗蝕劑，其基本成分包括聚合物、感光劑和溶劑。 當(dāng)光刻膠被光刻機(jī)光源曝光時(shí)，聚合物結(jié)構(gòu)可由可溶變成聚合(或反之)，感光劑的功能是在曝光過(guò)程中控制和調(diào)節(jié)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)，溶劑可以起到稀釋光刻膠的作用。光刻工藝是芯片制造工藝過(guò)程中非常重要的一道工序，它是用來(lái)在不同的器件和電路表面上建立圖形的工藝過(guò)程，是一種多步驟的圖形轉(zhuǎn)移過(guò)程。通過(guò)光刻工藝可以把所需的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面的每一層。通常的光刻工藝包括涂膠、曝光和顯影等步驟。其中涂膠就是要在晶圓表面建立薄的、均勻的，且沒(méi)有缺陷的光刻膠膜。目前，常用的涂膠工藝都采用中心噴膠、旋轉(zhuǎn)涂布的模式，有靜態(tài)或動(dòng)態(tài)旋轉(zhuǎn)噴涂方式，即先將晶圓片置于光刻膠噴涂裝置的晶圓片承載臺(tái)上，光刻膠的圓形噴嘴將光刻膠噴涂于晶圓片表面，旋轉(zhuǎn)晶圓片使中心的光刻膠向晶圓邊緣部擴(kuò)展，并且拋?zhàn)叨嘤嗟墓饪棠z，在晶圓片上得到平整均勻的光刻膠薄膜。但采用以上這樣的噴膠方式，涂布初始必須采用很大的加速度達(dá)到一個(gè)很高的轉(zhuǎn)速，例如，涂布8英寸的晶圓片，一般轉(zhuǎn)速都在3500轉(zhuǎn)/分以上，極易產(chǎn)生涂布缺陷。常用的噴涂工藝在涂膠時(shí)，先用有機(jī)溶劑在晶圓片表面進(jìn)行預(yù)浸潤(rùn)，用以改善光刻膠和晶圓片表面的親和性，預(yù)浸潤(rùn)階段馬達(dá)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的速度，一般對(duì)于8英寸的晶圓片是1200轉(zhuǎn)/分-1700轉(zhuǎn)/分，然后進(jìn)行光刻膠的涂布，因此，涂膠時(shí)一般有兩個(gè)圓形管狀噴嘴，一個(gè)用于噴涂有機(jī)溶劑，另一個(gè)用于噴涂光刻膠。涂布的光刻膠厚度主要由晶圓片旋轉(zhuǎn)速度和光刻膠的黏度所決定。為保證光刻膠涂布過(guò)程中產(chǎn)生盡可能少的缺陷數(shù)目，不同尺寸的晶圓片的旋轉(zhuǎn)速度必須控制在一定范圍內(nèi)。因此，某一黏度的光刻膠只能適用于一定的膠厚范圍。為涂布不同的膠厚，必須準(zhǔn)備多種黏度的光刻膠，即需要準(zhǔn)備多套獨(dú)立的光刻膠供液系統(tǒng)，這樣就增加了設(shè)備的復(fù)雜程度和制造成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，提供一種光刻膠噴涂裝置及方法。本發(fā)明提供的光刻膠噴涂裝置包括供液系統(tǒng)、噴嘴、真空吸盤(pán)、由編碼器控制的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，尤其是所述噴嘴為矩形長(zhǎng)條狀，該矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的頂部有兩根以上的輸液管與供液系統(tǒng)相連，其中至少有一根光刻膠輸液管，也至少有一根稀釋劑輸液管，所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的底部設(shè)有液體出口?？蛇x地，所述噴嘴的頂部至少有一根光刻膠輸液管為一根，其位于該噴嘴的頂部中央；所述噴嘴的頂部至少有一根稀釋劑輸液管為兩根，其對(duì)稱分布在第一根輸液管的兩側(cè)。
可選地，所述噴嘴底部的液體出口是若干小孔?？蛇x地，所述噴嘴底部的小孔沿一條直線依次間隔排開(kāi)，該小孔所在的直線平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間?？蛇x地，所述噴嘴底部小孔的口徑在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的孔徑小，該中心位置兩側(cè)的孔徑逐漸增大?？蛇x地，所述噴嘴底部的液體出口是細(xì)縫。可選地，所述噴嘴底部細(xì)縫是一條直線細(xì)縫，該直線細(xì)縫平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間?？蛇x地，所述噴嘴細(xì)縫的間隙在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的細(xì)縫間隙小，該中心位置兩側(cè)的細(xì)縫間隙逐漸增大。相應(yīng)地，本發(fā)明還提供了利用所述的光刻膠噴涂裝置的涂布方法，其步驟包括矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；停止稀釋劑的供液；噴涂光刻膠；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。以上所述噴涂光刻膠的步驟進(jìn)一步包括馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠；所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片。本發(fā)明還同時(shí)提供了利用所述的光刻膠噴涂裝置的第二種涂布方法，其步驟包括矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；噴涂光刻膠；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。以上第二種涂布方法中所述噴涂光刻膠的步驟進(jìn)一步包括馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；所述供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管和稀釋劑輸液管同時(shí)向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠和稀釋劑；光刻膠在所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴內(nèi)被稀釋；所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布經(jīng)過(guò)稀釋的光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片。上述利用本發(fā)明所述光刻膠噴涂裝置的涂布方法中，在所述預(yù)浸潤(rùn)階段馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為500轉(zhuǎn)/分以下；在所述噴涂光刻膠階段馬達(dá)通過(guò)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為1600轉(zhuǎn)/分-2200轉(zhuǎn)/ 分。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下主要優(yōu)點(diǎn)(1)使用本發(fā)明的矩形長(zhǎng)條狀噴嘴，涂布時(shí)的馬達(dá)初始加速度和轉(zhuǎn)速較低，減少了光刻膠涂布缺陷。(2)浸潤(rùn)晶圓片用的稀釋劑是一種有機(jī)溶劑，其與光刻膠是從同一個(gè)矩形長(zhǎng)條狀噴嘴中噴出，而不是像常規(guī)方法那樣分別從兩個(gè)圓形管狀噴嘴中噴出，且兩個(gè)圓形管狀噴嘴切換使用。這樣既簡(jiǎn)化了設(shè)備操作，又提高了晶圓片浸潤(rùn)效果，減少了光刻膠用量。(3)使用黏度大的光刻膠，必要時(shí)在噴膠過(guò)程中采用有機(jī)溶劑即所述稀釋劑同步稀釋光刻膠，以讓一種黏度較大的光刻膠可以覆蓋更大的膜厚范圍，減少了所需光刻膠的黏度種類，降低了設(shè)備復(fù)雜程度，減少了設(shè)備成本。(4)采用矩形長(zhǎng)條狀噴嘴，在晶圓片上的覆蓋范圍較大，改善了涂布的覆蓋效果， 可以顯著降低光刻膠用量，尤其是利用黏度大的光刻膠涂布厚的光刻膠。


圖1是本發(fā)明光刻膠噴涂裝置的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖2是矩形長(zhǎng)條狀噴嘴示意圖。圖3是矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的立體示意圖。圖4是利用本發(fā)明光刻膠噴涂裝置的第一種涂布方法流程圖。圖5是利用本發(fā)明光刻膠噴涂裝置的第二種涂布方法流程圖。
具體實(shí)施例方式本發(fā)明的光刻膠噴涂裝置的噴嘴采用矩形長(zhǎng)條狀，稀釋劑和光刻膠都從該矩形長(zhǎng)條狀的噴嘴噴出，改變了常規(guī)涂膠用兩個(gè)圓形管狀噴嘴，一個(gè)用于涂布有機(jī)溶劑，另一個(gè)用于涂布光刻膠，且兩個(gè)圓形管狀噴嘴切換使用的方式。本發(fā)明所述供液系統(tǒng)可以分先后或同時(shí)向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供稀釋劑和光刻膠，黏度較大的光刻膠可以經(jīng)稀釋后再向晶圓片噴涂，即本發(fā)明所述的光刻膠噴涂裝置能夠以稀釋劑調(diào)節(jié)光刻膠的黏度。因此，在一定的轉(zhuǎn)速范圍內(nèi)，一種黏度的光刻膠可以覆蓋更大的膜厚范圍。下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例的具體實(shí)施方式
做詳細(xì)說(shuō)明。圖1是本發(fā)明光刻膠噴涂裝置的一個(gè)實(shí)施例的示意圖。所述光刻膠噴涂裝置包括供液系統(tǒng)101、噴嘴102、真空吸盤(pán)103、由編碼器105控制的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)104，尤其是，所述噴嘴為矩形長(zhǎng)條狀，該矩形長(zhǎng)條狀噴嘴102的頂部通過(guò)輸液管與供液系統(tǒng)101相連，所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴102的底部設(shè)有液體出口。圖1中的106代表晶圓片。圖2是矩形長(zhǎng)條狀噴嘴示意圖。該噴嘴的頂部有一根光刻膠輸液管201，其位于該噴嘴的頂部中央；在該輸液管201的兩側(cè)對(duì)稱分布有兩根稀釋劑輸液管202及203。在該噴嘴底部的液體出口是若干小孔，該小孔沿一條直線依次間隔排開(kāi)，該小孔所在的直線平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間。所述噴嘴底部小孔的口徑在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的孔徑小，該中心位置兩側(cè)的孔徑逐漸增大。本發(fā)明實(shí)施例所述的矩形長(zhǎng)條狀噴嘴底部的液體出口也可以是細(xì)縫，具體地說(shuō)可以是一條直線細(xì)縫(圖中未標(biāo)出)，該直線細(xì)縫平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間。所述噴嘴細(xì)縫的間隙在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的細(xì)縫間隙小，該中心位置兩側(cè)的細(xì)縫間隙逐漸增大。圖3是矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的立體示意圖。所述噴嘴分為主體部分301和液體出口部分302。該噴嘴的頂部與光刻膠輸液管201、稀釋液輸液管202及203相連。本發(fā)明采用以上所述的矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的結(jié)構(gòu)，至少可以帶來(lái)了下列技術(shù)效果(1)常用的光刻膠噴涂一般都采用中心噴膠、旋轉(zhuǎn)涂布的方式，為使光刻膠勻膠至晶圓片邊緣，并保證光刻膠膜的平整性，噴膠時(shí)的轉(zhuǎn)速及加速度極大，極易產(chǎn)出光刻膠的涂布缺陷。采用矩形長(zhǎng)條狀噴嘴，由于噴嘴在晶圓片上的覆蓋范圍大，涂布光刻膠時(shí)的馬達(dá)初始加速度和轉(zhuǎn)速可以較低，能夠減少光刻膠的涂布缺陷。(2)在通常的圓形管狀噴嘴中心噴膠的模式下，對(duì)光刻膠的涂布，尤其是對(duì)于黏度較大、需要涂布較厚的光刻膠膜，為將噴在中心區(qū)域的光刻膠涂布到整個(gè)晶圓片以達(dá)到一定的片內(nèi)均勻性，除了噴膠時(shí)使用較大的馬達(dá)旋轉(zhuǎn)速度外，一般還要加大光刻膠的噴膠量， 導(dǎo)致材料成本增加。而本方法采用的矩形長(zhǎng)條狀噴嘴可以改善涂布光刻膠的覆蓋性能，顯著降低光刻膠用量，尤其是利用黏度大的光刻膠涂布厚的光刻膠膜。(3)本發(fā)明實(shí)施例的矩形長(zhǎng)條狀噴嘴底部的液體出口是一條沿直線依次間隔排開(kāi)的小孔或是一條直線細(xì)縫，且所述小孔和直線細(xì)縫中心位置的液體出口較小，該中心位置兩側(cè)的液體出口逐漸增大。噴膠時(shí)，晶圓片最中心區(qū)域噴出的膠量較少，最中心區(qū)域兩側(cè)噴出的膠量逐漸增多，即噴涂在晶圓片上的光刻膠具有更合理的初始分布狀態(tài)，這有利于光刻膠進(jìn)一步向晶圓片周邊均勻地?cái)U(kuò)展開(kāi)。因此，通過(guò)矩形長(zhǎng)條狀噴嘴噴膠時(shí)，采用較低的轉(zhuǎn)速就可以把光刻膠均勻涂布在晶圓片上。(4)采用矩形長(zhǎng)條狀噴嘴，浸潤(rùn)晶圓片用的有機(jī)溶劑即稀釋劑與光刻膠都是從同一個(gè)噴嘴噴出，而不像常規(guī)方法分別從兩個(gè)圓形管狀噴嘴噴出，且兩個(gè)圓形管狀噴嘴切換使用，既簡(jiǎn)化了設(shè)備操作，又提高了浸潤(rùn)效果。(5)在芯片制造工藝中，對(duì)芯片的膜厚有多種要求，為此需準(zhǔn)備不同黏度的光刻膠安裝在設(shè)備中，以滿足生產(chǎn)需求。每一種黏度的光刻膠都需要獨(dú)立的光刻膠供應(yīng)系統(tǒng)，增加了設(shè)備投入成本。而矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)黏度大的光刻膠，可以在噴膠過(guò)程中采用稀釋劑同步稀釋，以讓某種黏度的光刻膠能夠覆蓋更大的膜厚范圍，減少了需提供的光刻膠的黏度種類，降低了設(shè)備復(fù)雜程度和成本。圖4是本發(fā)明噴涂光刻膠的方法流程圖。本發(fā)明利用光刻膠噴涂裝置噴涂光刻膠的方法包括以下步驟矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；停止稀釋劑的供液；馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；
供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠；所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。本發(fā)明同時(shí)還公開(kāi)了利用所述光刻膠噴涂裝置的涂布光刻膠的第二種方法，圖5 是本發(fā)明噴涂光刻膠的第二種方法的流程圖，包括步驟矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；所述供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管和稀釋劑輸液管同時(shí)向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠和稀釋劑；光刻膠在所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴內(nèi)被稀釋；所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布經(jīng)過(guò)稀釋的光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。上述利用本發(fā)明所述光刻膠噴涂裝置的涂布方法中，在所述預(yù)浸潤(rùn)階段馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為500轉(zhuǎn)/分以下；在所述噴涂光刻膠階段馬達(dá)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為1600轉(zhuǎn)/分-2200轉(zhuǎn)/分。雖然本發(fā)明以優(yōu)選實(shí)施例方式進(jìn)行了描述，但其并不是用來(lái)限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，都可以做出可能的變動(dòng)和修改，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以本發(fā)明權(quán)利要求所界定的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光刻膠噴涂裝置，包括供液系統(tǒng)、噴嘴、真空吸盤(pán)、由編碼器控制的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，其特征在于，所述噴嘴為矩形長(zhǎng)條狀，該矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的頂部有兩根以上的輸液管與供液系統(tǒng)相連，其中至少有一根光刻膠輸液管，也至少有一根稀釋劑輸液管，所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的底部設(shè)有液體出口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴的頂部至少有一根光刻膠輸液管為一根，其位于該噴嘴的頂部中央；所述噴嘴的頂部至少有一根稀釋劑輸液管為兩根，其對(duì)稱分布在第一根輸液管的兩側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴底部的液體出口是若干小孔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴底部的小孔沿一條直線依次間隔排開(kāi)，該小孔所在的直線平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴底部小孔的口徑在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的孔徑小，該中心位置兩側(cè)的孔徑逐漸增大。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴底部的液體出口是細(xì)縫。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴底部細(xì)縫是一條直線細(xì)縫，該直線細(xì)縫平行于該噴嘴底部矩形的長(zhǎng)邊，且位于該噴嘴底部矩形的中間。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻膠噴涂裝置，其特征在于，所述噴嘴細(xì)縫的間隙在該噴嘴的不同部位是不同的，中心位置的細(xì)縫間隙小，該中心位置兩側(cè)的細(xì)縫間隙逐漸增大。
9.一種利用權(quán)利要求1所述的光刻膠噴涂裝置的涂布方法，其特征在于，包括步驟 矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片； 停止稀釋劑的供液； 噴涂光刻膠；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的涂布方法，其特征在于，所述噴涂光刻膠的步驟進(jìn)一步包括馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠； 所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片。
11.一種利用權(quán)利要求1所述的光刻膠噴涂裝置的涂布方法，其特征在于，包括步驟 矩形長(zhǎng)條狀噴嘴移到晶圓片中心位置；預(yù)浸潤(rùn)，即馬達(dá)通過(guò)真空吸盤(pán)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)，同時(shí)供液系統(tǒng)通過(guò)稀釋劑輸液管向噴嘴提供稀釋劑，經(jīng)所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片噴涂稀釋劑，稀釋劑從晶圓片中心緩慢向該晶圓片四周鋪開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片；噴涂光刻膠；勻膠，形成均勻穩(wěn)定的特定膜厚。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的涂布方法，其特征在于，所述噴涂光刻膠的步驟進(jìn)一步包括馬達(dá)繼續(xù)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)；所述供液系統(tǒng)通過(guò)光刻膠輸液管和稀釋劑輸液管同時(shí)向所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴提供光刻膠和稀釋劑；光刻膠在所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴內(nèi)被稀釋；所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴對(duì)晶圓片涂布經(jīng)過(guò)稀釋的光刻膠，該光刻膠從晶圓片中心向晶圓片四周擴(kuò)展開(kāi)，布滿整個(gè)晶圓片。
13.根據(jù)權(quán)利要求9或11所述的涂布方法，其特征在于，所述預(yù)浸潤(rùn)階段馬達(dá)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為500轉(zhuǎn)/分以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求10或12所述的涂布方法，其特征在于，所述噴涂光刻膠階段馬達(dá)帶動(dòng)晶圓片旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對(duì)于8英寸晶圓片為1600轉(zhuǎn)/分-2200轉(zhuǎn)/分。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種能夠減少設(shè)備投入成本、簡(jiǎn)化生產(chǎn)工藝操作、節(jié)約光刻膠用量和顯著改善光刻膠涂布質(zhì)量的光刻膠噴涂裝置，包括供液系統(tǒng)、噴嘴、真空吸盤(pán)、由編碼器控制的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)，尤其是所述噴嘴為矩形長(zhǎng)條狀，該矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的頂部有兩根以上的輸液管與供液系統(tǒng)相連，其中至少有一根光刻膠輸液管，也至少有一根稀釋劑輸液管，所述矩形長(zhǎng)條狀噴嘴的底部設(shè)有液體出口。本發(fā)明還相應(yīng)提供了利用本發(fā)明所述光刻膠噴涂裝置涂布光刻膠的方法。
文檔編號(hào)B05D7/00GK102294317SQ201010212849
公開(kāi)日2011年12月28日 申請(qǐng)日期2010年6月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年6月28日
發(fā)明者黃瑋 申請(qǐng)人:無(wú)錫華潤(rùn)上華半導(dǎo)體有限公司, 無(wú)錫華潤(rùn)上華科技有限公司