專利名稱：隨動(dòng)噴霧裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及硅材料的酸石咸處理設(shè)備，尤其涉及一種用于硅材料酸堿 處理設(shè)備中可隨硅片吊籃一起移動(dòng)的隨動(dòng)噴霧裝置。
背景技術(shù)：
在硅片處理中，由于硅片在約85。C高溫的NaOH或KOH液體內(nèi)處理后，反 應(yīng)生成物(硅酸鹽)會(huì)隨著硅片的提出粘附于硅片表面，硅酸鹽在后續(xù)的工 序需清洗干凈。硅片剛提出時(shí)，表面溫度很高，且硅片很薄(0. 2mm左右)， 很容易發(fā)干。當(dāng)硅片附著的硅酸鹽發(fā)干后，很難在后續(xù)清洗工序中清洗干凈， 從而影響硅片的表面質(zhì)量和性能。因此，如何在硅片提起時(shí)防止其表面附著 的硅酸鹽發(fā)干是業(yè)內(nèi)亟待解決的 一個(gè)技術(shù)難題。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型為了克服現(xiàn)有技術(shù)中硅片上附著的硅酸鹽發(fā)干后難于清洗的 技術(shù)問題，提供一種隨動(dòng)噴霧裝置，該裝置在硅片材料從處理液中提起時(shí)保 證硅片表面的濕潤。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是設(shè)計(jì)一種隨動(dòng)噴霧 裝置，包括安裝在立柱上可移動(dòng)的橫梁；固定在橫梁上的一對吊鉤；和設(shè) 置在該吊鉤中部由一組噴頭組成的噴霧裝置；以及設(shè)置在所述吊鉤下端用于 提起/放下吊籃的掛鉤。
所述的橫梁上設(shè)置有控制掛鉤動(dòng)作和噴霧裝置開啟/關(guān)閉的控制器
所述的噴霧裝置包括汽液混合裝置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型在硅材料進(jìn)行酸或^f威處理的過程中，特別 是在搬運(yùn)過程中，能保證硅片處于汽霧的氛圍內(nèi)，使硅片表面保持濕潤，便 于后續(xù)的清洗工作。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說明


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如
圖1所示，本實(shí)用新型設(shè)計(jì)的隨動(dòng)噴霧裝置包括安裝在立柱7上， 可上下或前后移動(dòng)的橫梁1;固定在橫梁上的一對吊鉤2;設(shè)置在該吊鉤中部 由一組噴頭4組成的噴霧裝置3;以及設(shè)置在所述吊鉤下端用于提起/放下吊 籃的掛鉤5。橫梁1上設(shè)置有控制掛鉤5動(dòng)作，提起/放下吊籃的控制器，當(dāng) 掛鉤5從處理槽中提起裝有硅片的吊籃6時(shí)，該控制器立即啟動(dòng)噴霧裝置開 始對著吊籃中硅片進(jìn)行噴霧，保證吊籃中的硅片在移動(dòng)過程中保持濕潤。當(dāng) 掛鉤5放下吊籃時(shí)，控制器關(guān)閉噴霧裝置。
所述的噴霧裝置還包括汽液混合裝置，例如，將純水和壓縮氣體混合， 使噴頭噴出汽液混合物的裝置。
工作時(shí)，噴霧裝置固定在橫梁的機(jī)械手橫臂上，同機(jī)械手一起運(yùn)動(dòng)。當(dāng) 機(jī)械手把硅片從化學(xué)處理槽取出后，噴霧裝置在搬運(yùn)過程中，對著硅片噴霧， 使硅片處于汽霧的氛圍內(nèi)，保持濕潤，防止硅片附著的硅酸鹽發(fā)千，方便后 續(xù)清洗工作。
上述為本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施例，凡在此原理上改進(jìn)，均落入本實(shí)用新型 的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1、一種隨動(dòng)噴霧裝置，其特征在于包括安裝在立柱上可移動(dòng)的橫梁；固定在橫梁上的一對吊鉤；設(shè)置在該吊鉤中部由一組噴頭組成的噴霧裝置；和設(shè)置在所述吊鉤下端用于提起/放下吊籃的掛鉤。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的隨動(dòng)噴霧裝置，其特征在于所述的橫梁上設(shè) 置有控制掛鉤動(dòng)作和噴霧裝置開啟/關(guān)閉的控制器
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的隨動(dòng)噴霧裝置，其特征在于所述的噴霧裝置 包括汽液混合裝置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于硅片處理工藝中的隨動(dòng)噴霧裝置，包括安裝在立柱上可移動(dòng)的橫梁；固定在橫梁上的一對吊鉤，該吊鉤中部設(shè)置有由一組噴頭組成的噴霧裝置，所述的吊鉤下端設(shè)置有提起/放下吊籃的掛鉤。所述的橫梁上還設(shè)置有控制掛鉤動(dòng)作和噴霧裝置開啟/關(guān)閉的控制器。本實(shí)用新型在硅材料進(jìn)行酸或堿處理的過程中，特別是在搬運(yùn)過程中，能保證硅片處于汽霧的氛圍內(nèi)，使硅片表面保持濕潤，便于后續(xù)的清洗工作。
文檔編號B65G49/00GK201375944SQ200920135240
公開日2010年1月6日 申請日期2009年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月27日
發(fā)明者仲 余, 黃進(jìn)權(quán) 申請人:深圳市捷佳創(chuàng)精密設(shè)備有限公司