金屬掩模片供給系統(tǒng)的制作方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種金屬掩模片供給系統(tǒng)，能夠自動(dòng)供給金屬掩模片而不使其損傷。該金屬掩模片供給系統(tǒng)具備：配置部（10），配置片盒，其中，金屬掩模片（4）和保護(hù)所述金屬掩模片的保護(hù)片交替層疊地收納于所述片盒；分離裝置（12），通過(guò)在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設(shè)置的至少一對(duì)磁浮子，使配置于所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；及搬運(yùn)裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位于最上部的所述金屬掩模片并搬運(yùn)給其他裝置。
【專(zhuān)利說(shuō)明】金屬掩模片供給系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種金屬掩模片供給系統(tǒng)，將重疊地收納于片盒中的金屬掩模片一張張地分離，并搬運(yùn)給其他裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]以往，已知有在有機(jī)EL元件的制造工序中進(jìn)行真空蒸鍍時(shí)使用的金屬掩模的制造方法(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)I)。
[0003]專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2004 - 218034號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]發(fā)明所要解決的課題
[0005]然而，一般而言，在金屬掩模的制造線上，通過(guò)手動(dòng)作業(yè)來(lái)進(jìn)行金屬掩模片的供給處理。但是，金屬掩模片是非常薄而容易損傷的部件，所以在通過(guò)手動(dòng)作業(yè)進(jìn)行金屬掩模片的供給的情況下，在供給時(shí)有可能會(huì)因人為作業(yè)失誤而導(dǎo)致金屬掩模片損傷。
[0006]本發(fā)明的目的在于提供一種能夠自動(dòng)供給金屬掩模片而不使其損傷的金屬掩模片供給系統(tǒng)。
[0007]用于解決課題的方法
[0008]本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)的特征在于，具備:配置部，配置片盒，其中，金屬掩模片和保護(hù)所述金屬掩模片的保護(hù)片交替層疊地收納于所述片盒；分離裝置，通過(guò)在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設(shè)置的至少一對(duì)磁浮子，使配置于所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；以及搬運(yùn)裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位于最上部的所述金屬掩模片并搬運(yùn)給其他裝置。
[0009]另外，本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)的特征在于，具備廢棄裝置，該廢棄裝置在位于最上部的所述金屬掩模片被搬運(yùn)之后使所述保護(hù)片中位于最上部的保護(hù)片移動(dòng)到規(guī)定的廢棄場(chǎng)所。
[0010]另外，本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)的特征在于，所述搬運(yùn)裝置具備通過(guò)電磁力或真空吸附來(lái)保持所述金屬掩模片的保持部。
[0011]另外，本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)的特征在于，具備移動(dòng)裝置，該移動(dòng)裝置在所述分離裝置使所述金屬掩模片一張張地分離時(shí)使所述磁浮子接近所述片盒。
[0012]另外，本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)的特征在于，使用所述金屬掩模片制造的金屬掩模用于有機(jī)EL元件、半導(dǎo)體元件、印刷基板以及液晶顯示元件的任一個(gè)的制造工序中。
[0013]發(fā)明效果
[0014]根據(jù)本發(fā)明的金屬掩模片供給系統(tǒng)，能夠自動(dòng)供給金屬掩模片而不使其損傷。

【專(zhuān)利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0015]圖1是從上側(cè)觀察實(shí)施方式的金屬掩模片供給系統(tǒng)的圖。
[0016]圖2是表示實(shí)施方式的片盒中所收納的金屬掩模片以及保護(hù)片的立體圖。
[0017]圖3是表示實(shí)施方式的分離裝置以及使用分離裝置而分離的金屬掩模片的立體圖。
[0018]圖4是表示實(shí)施方式的分離裝置以及使用分離裝置而分離的金屬掩模片的圖。
[0019]圖5是表示由實(shí)施方式的金屬掩模的制造線所制造的金屬掩模的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0020]以下，參照附圖，以將金屬掩模片提供給檢查裝置的情況為例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式的金屬掩模片供給系統(tǒng)。
[0021]圖1是從上側(cè)觀察實(shí)施方式的金屬掩模片供給系統(tǒng)的圖。如圖1所示，金屬掩模片供給系統(tǒng)2具備:具有矩形形狀的平面的盒口 8 ;及將金屬掩模片4搬運(yùn)給檢查裝置的未圖示的搬運(yùn)機(jī)器人。
[0022]盒口 8具備:沿盒口 8的一邊延伸的矩形形狀的片盒載置空間10 ;利用磁力使金屬掩模片4 一張張地分離的分離裝置12 ;將保護(hù)片20 (參照?qǐng)D2)廢棄的片廢棄機(jī)器人14 ；及載置收納被廢棄的保護(hù)片20的保護(hù)片廢棄盒16的廢棄空間18。
[0023]在此，金屬掩模片4由一方向較長(zhǎng)的帶狀的金屬薄板構(gòu)成，沿長(zhǎng)度方向具有多個(gè)矩形形狀的開(kāi)口部4a。另外，金屬掩模片4的厚度為30?70 μ m左右。另外，片盒6如圖2 (a)所示具備長(zhǎng)方體形狀的框體6a，在框體6a的內(nèi)部，如圖2 (b)所示，金屬掩模片4和防止金屬掩模片4的損傷的保護(hù)片20交替地層疊。在此，保護(hù)片20形成為其長(zhǎng)邊方向的長(zhǎng)度和短邊方向的寬度分別比金屬掩模片4大Imm左右，以使金屬掩模片4彼此不直接接觸。另外，保護(hù)片20由無(wú)通氣性的薄膜等部件構(gòu)成。
[0024]另外，分離裝置12具備隔著片盒載置空間10而彼此相向地配置的磁浮子12a、12b，這些磁浮子12a、12b沿片盒載置空間10的延伸方向配置有多個(gè)。
[0025]另外，搬運(yùn)機(jī)器人具備利用電磁力來(lái)吸附保持金屬掩模片4的、一方向較長(zhǎng)的帶狀的電磁鐵墊(未圖示)。另外，廢棄機(jī)器人14具備利用空氣吸附力來(lái)吸附保持保護(hù)片20的、一方向較長(zhǎng)的帶狀的氣墊14a。
[0026]圖3是表示分離裝置12以及使用分離裝置12來(lái)分離的金屬掩模片4的立體圖。另外，在圖3中，片盒6的圖示省略。如圖3所示，磁浮子12a在金屬掩模片4所在的一側(cè)的面上具備多個(gè)沿鉛垂方向延伸的帶狀的磁體21。同樣地，磁浮子12b在金屬掩模片4所在的一側(cè)的面上具備多個(gè)沿鉛垂方向延伸的帶狀的磁體(未圖示)。因此，金屬掩模片4通過(guò)從磁浮子12a所具有的磁體21以及磁浮子12b所具有的磁體作用的磁力而被一張張地分離。另外，關(guān)于具體地如何分離金屬掩模片4在后面論述。
[0027]接著，參照附圖，說(shuō)明使用實(shí)施方式的金屬掩模片供給系統(tǒng)2將金屬掩模片4自動(dòng)提供給檢查裝置的處理。
[0028]首先，如圖1所示，所搬入的片盒6被載置于片盒載置空間10中。此時(shí)，磁浮子12a以及磁浮子12b如圖4 (a)所示，退避到磁體的磁力波及不到的退避位置。接著，金屬掩模片供給系統(tǒng)2的未圖示的控制部如圖4 (b)所示，通過(guò)未圖示的移動(dòng)裝置，使磁浮子12a以及磁浮子12b分別向片盒6所在的方向移動(dòng)，使磁浮子12a、12b接近片盒6。
[0029]若磁浮子12a、12b接近片盒6，則通過(guò)磁浮子12a所具有的磁體21以及磁浮子12b所具有的磁體，對(duì)重疊地收納于片盒6中的金屬掩模片4作用磁力，使金屬掩模片4磁化。并且，通過(guò)磁化作用，金屬掩模片4彼此間磁排斥而分離(參照?qǐng)D3)，如圖4 (b)所示，一張張地剝離而向鉛垂方向浮起。
[0030]接著，搬運(yùn)機(jī)器人通過(guò)未圖示的搬運(yùn)臂使電磁鐵墊移動(dòng)到最上部的金屬掩模片4b之上后(參照?qǐng)D4(b)),對(duì)電磁鐵墊通規(guī)定的電流而產(chǎn)生電磁力，使金屬掩模片4b吸附于電磁鐵墊上。接著，搬運(yùn)機(jī)器人通過(guò)搬運(yùn)臂14b而使吸附于電磁鐵墊上的金屬掩模片4移動(dòng)到檢查裝置。金屬掩模片4在從電磁鐵墊被釋放而置于檢查裝置后，接受規(guī)定的檢查。
[0031]接著，廢棄機(jī)器人14通過(guò)臂14b (參照?qǐng)D1)，使氣墊14a移動(dòng)到片盒6的內(nèi)部所殘留的最上部的保護(hù)片20之上。接著，使保護(hù)片20真空吸附并保持于氣墊14a上，并廢棄于廢棄盒16中。另外，保護(hù)片20由無(wú)通氣性的部件構(gòu)成，所以真空吸附時(shí)保護(hù)片20下側(cè)的金屬掩模片不會(huì)被吸附。
[0032]金屬掩模片供給系統(tǒng)2反復(fù)進(jìn)行以上的處理，從而依次將片盒6的內(nèi)部的金屬掩模片4搬運(yùn)到檢查裝置中。在檢查裝置中接受規(guī)定的檢查，檢查合格的金屬掩模片如圖5所示貼附于金屬掩?？?2上，從而制得金屬掩模24。金屬掩模24在有機(jī)EL元件的制造工序中進(jìn)行真空蒸鍍時(shí)使用。
[0033]根據(jù)該實(shí)施方式的金屬掩模片供給系統(tǒng)2，能夠防止供給處理中的人為作業(yè)失誤的發(fā)生，所以能夠自動(dòng)供給金屬掩模片而不使其損傷或折彎。另外，通過(guò)使供給處理自動(dòng)化，能夠?qū)崿F(xiàn)金屬掩模的制造線的全自動(dòng)化。另外，金屬掩模片4在由保護(hù)片20保護(hù)的狀態(tài)下被收納于片盒6中，所以在搬入片盒6時(shí)或?qū)⑵?載置于片盒載置空間10中時(shí)等不會(huì)因沖擊等而造成損傷。因此，能夠減少因損傷而廢棄的金屬掩模片4的數(shù)量。
[0034]另外，由于將多個(gè)分離裝置12沿片盒載置空間10的延伸方向配置，所以能夠在磁力作用于金屬掩模片4而使其浮起時(shí)不會(huì)造成金屬掩模片4扭轉(zhuǎn)。另外，由于利用電磁力來(lái)使金屬掩模片4吸附于電磁鐵墊上，所以即使金屬掩模片4具有開(kāi)口部4a，也能夠準(zhǔn)確地進(jìn)行保持。
[0035]另外,在上述的實(shí)施方式中，以一個(gè)盒口 8具有一個(gè)片盒載置空間10的情況為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是一個(gè)盒口 8也可以具有多個(gè)片盒載置空間10。由此，在金屬掩模的制造線的規(guī)模大的情況下，能夠?qū)⒍鄠€(gè)片盒6配置于盒口 8中。
[0036]另外，在上述的實(shí)施方式中，也可以是，能夠根據(jù)片盒6的寬度來(lái)適當(dāng)調(diào)節(jié)磁浮子12a以及磁浮子12b的退避位置、接近位置。
[0037]另外，在上述實(shí)施方式中，搬運(yùn)機(jī)器人可以具有氣墊來(lái)代替電磁鐵墊，從而將金屬掩模片4真空吸附于氣墊上。
[0038]另外，在上述實(shí)施方式中，以將金屬掩模片4提供給檢查裝置的情況為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是金屬掩模片4也可以提供給檢查裝置以外的其他裝置。
[0039]另外，在上述實(shí)施方式中，以金屬掩模24用于有機(jī)EL元件的制造工序中的情況為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是金屬掩模24也可以用于半導(dǎo)體元件、印刷基板、液晶顯示元件等的制造工序中。
[0040]附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0041]2金屬掩模片供給系統(tǒng)
[0042]4金屬掩模片
[0043]6 片盒
[0044]8 盒口
[0045]10片盒載置空間
[0046]12分離裝置
[0047]12a、12b 磁浮子
[0048]14片廢棄機(jī)器人
[0049]16保護(hù)片廢棄盒
[0050]18廢棄空間
[0051]20保護(hù)片
【權(quán)利要求】
1.一種金屬掩模片供給系統(tǒng)，其特征在于，具備: 配置部，配置片盒，其中，金屬掩模片和保護(hù)所述金屬掩模片的保護(hù)片交替層疊地收納于所述片盒； 分離裝置，通過(guò)在隔著所述配置部的位置沿所述配置部的延伸方向所設(shè)置的至少一對(duì)磁浮子，使配置于所述配置部的所述片盒所收納的所述金屬掩模片一張張地分離；以及 搬運(yùn)裝置，保持由所述分離裝置分離的所述金屬掩模片中位于最上部的所述金屬掩模片并搬運(yùn)給其他裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬掩模片供給系統(tǒng)，其特征在于， 具備廢棄裝置，該廢棄裝置在位于最上部的所述金屬掩模片被搬運(yùn)之后使所述保護(hù)片中位于最上部的保護(hù)片移動(dòng)到規(guī)定的廢棄場(chǎng)所。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的金屬掩模片供給系統(tǒng)，其特征在于， 所述搬運(yùn)裝置具備通過(guò)電磁力或真空吸附來(lái)保持所述金屬掩模片的保持部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任一項(xiàng)所述的金屬掩模片供給系統(tǒng),其特征在于， 具備移動(dòng)裝置，該移動(dòng)裝置在所述分離裝置使所述金屬掩模片一張張地分離時(shí)使所述磁浮子接近所述片盒。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?4中任一項(xiàng)所述的金屬掩模片供給系統(tǒng),其特征在于， 使用所述金屬掩模片制造的金屬掩模用于有機(jī)EL元件、半導(dǎo)體元件、印刷基板以及液晶顯示元件的任一個(gè)的制造工序中。
【文檔編號(hào)】B65H3/16GK104139996SQ201310450189
【公開(kāi)日】2014年11月12日 申請(qǐng)日期:2013年9月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年5月8日
【發(fā)明者】濱砂智訓(xùn) 申請(qǐng)人:新東超精密有限公司