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      注射模制工藝及用其生產(chǎn)的產(chǎn)品的制作方法

      文檔序號:4414239閱讀:322來源:國知局
      專利名稱:注射模制工藝及用其生產(chǎn)的產(chǎn)品的制作方法
      技術領域
      本發(fā)明的一個方面涉及一種模制方法,特別是一種采用了具有選定的熱膨脹系數(shù)的材料形成的模具部分的模制方法。本發(fā)明的另一個方面涉及根據(jù)此模制方法生產(chǎn)的產(chǎn)
      品O背景具有中空的內部部分或限定了內部空間的注射模制的裝置通常是使用具有中空的外面部分和內芯部分的模制設備形成的。該外面部分、內芯和可能的附加模具部分之間的模制空間被注射有模制材料,如加熱的熱塑性材料。然后依次將模制設備和模制材料冷卻至該模制材料的玻璃化轉變溫度以下的溫度,并將該模制材料形成的成品從該模制空間中移出。該模制空間通常被形成有脫模角度(draft angle),以允許從成品上移除內芯部分和/或從該中空的外面部分上移除成品。以此方式形成的裝置的例子將是注射器筒和柱塞,其通常具有限定了內部區(qū)域的大致圓柱形的本體。該圓柱形本體的內部區(qū)域和外表面被形成有脫模角度,這樣這些表面不與該本體的中心軸線平行、而是與之稍微成角度來形成大致圓錐形的形狀。具有此構型的塑料注射器筒12的模制操作的階段示于

      圖1A中。如圖所示,模具內芯36的外表面48以及下模板32和上模板34的內表面33、35是相對于模制設備30的中心軸線X以一個脫模角度(Θ )布置的。這允許從成品注射器筒12的內部沿方向D抽出內芯36,而沒有在注射器筒本體14的內表面15與內芯36的外表面48之間的干擾。圖1A示出了在從注射器筒12上抽出內芯36的過程中的組件。應該指出的是,為了說明的目的,相對于一個典型的注射器筒,角度Θ在圖1A中是有些夸大的。塑料注射器柱塞124的模制操作的一個階段示于圖1B中。如圖所示,模具內芯54的外表面348以及下模板50和上模板52的內表面51、53是相對于模制設備49的中心軸線X以一個脫模角度(f >布置的。這允許從在下模板50中限定的模制空間55中沿方向D抽出該模制的注射器柱塞124,而沒有在柱塞本體125的外表面323與下模板50的內表面51之間的干擾。圖1B示出了從模制空間55中抽出柱塞324的過程中的組件。應該指出的是,為了說明的目的,相對于一個典型的注射器柱塞,角度響在圖1B中是有些夸大的。在這些注射器筒(如12)或本文所描述的任何其他注射器筒或其他容器被模制后,通常希望為它們提供SiOx阻隔層和/或SiwOxCy潤滑層或疏水層或其他表面性質改性層,例如在2010年11月25日公開的、在2011年7月26日作為美國專利號7,985,188發(fā)布的美國公開申請?zhí)?010/0298738Α1中廣泛解釋的。后面的公開物和專利通過引用結合在此,以顯示合適的阻隔層、潤滑層和表面改性層,以及它們是如何施加的。在模制后,組裝一個成品,該成品包括用于將液體劑量壓出注射器而給藥到患者體內的注射器柱塞。該柱塞被可滑動地布置在該筒的圓柱形本體內。理想地,該柱塞具有與注射器筒的內徑大致相同的外徑,以便允許與其可滑動地接合,同時防止液體劑量從柱塞和筒之間的間隙中滲漏。典型的塑料注射器筒和柱塞的脫模角度(通常約1°至3° )在這方面會造成困難,因為它們會導致筒和/或柱塞的內徑發(fā)生變化。這可以采取若干措施來彌補。例如,柱塞可以是由允許其在筒的圓柱形本體內滑動過程中變形的彈性體材料形成的。彈性柱塞的外徑足夠大,以彌補注射器筒的內徑的變化。過大的柱塞會對注射器筒產(chǎn)生干擾,這需要更高的力來移動注射器筒內的柱塞。解決具有彈性柱塞的注射器所需的更高的柱塞力所采取的一種措施是施加潤滑層,例如將硅油施加到注射器筒和/或柱塞的內部來潤滑并有利于柱塞在筒內的滑動。圖10示出了采用此類型潤滑層的注射器具有的問題之一。如圖所示,該層材料,在圖10的例子中為硅油,會通過該柱塞移位。隨著時間的推移和/或由于柱塞的滑動,部分硅油通常遷移,從而導致該層的不均勻性。這會使隨后柱塞的滑動更加困難。此外,部分潤滑材料可能隨該劑量從注射器中排出、并在某些情況下被注入接收該劑量的患者體內。為此,塑料模制的注射器通常旨在只使用一次然后被處理掉。由于在塑料注射器筒和/或柱塞內包括脫模角度引起的另一個問題是,在劑量給藥過程中需要施加給筒的壓力的不均勻性。由于筒壁內徑的減小和/或柱塞壁外徑的增力口,隨著柱塞接近注射器的針頭端,必須增加所施加的壓力的量。這可能會導致在給藥過程中的失速,從而可能會導致病人接受該劑量時疼痛。此外,這可能會導致在使用自動注射器給藥一個劑量時發(fā)生困難,即,使用例如彈簧加載的機構或電機來給藥一個劑量的機械裝置,因為這些裝置可能無法像人給藥者一樣易于察覺到阻力的變化。在此方面的其他現(xiàn)有專利是美國專利5,141,430,5, 022, 563和5,971,722。玻璃注射器和其他容器在傳統(tǒng)上一直優(yōu)于熱塑性注射器和容器,因為相比未經(jīng)處理的塑料,玻璃是更加氣密性的并且對預填充的內容物是惰性的。此外,由于其傳統(tǒng)的使用,玻璃被很好地接受,因為已知它在與醫(yī)療樣品或藥物制劑以及類似物接觸時是相對無害的。玻璃注射器是從擠出管制造的,它不需要脫模角度。但是對于某些應用,希望的是遠離可能破碎且制造成本高的玻璃容器,而偏向塑料容器,其在正常使用中很少打破(即使打破,容器的殘余物也不會像玻璃那樣形成鋒利的碎片)并且在多用途模具中通過注射模制制造是成本低廉的。需要一種塑料注射器,其可在多用途的、不具有或局部不具有脫模角度的模具中通過注射模制形成,以消除上面討論的問題。概述本發(fā)明的一個方面是一種用于模制固體制品的方法。提供了多用途注射模制設備,包括限定了內腔和基本剛性的內芯的一個基本剛性的表面。在該內腔和內芯之間限定了模制空間。該內腔和該內芯中的至少一個相對于另一個是沿分模軸線可移動的,以打開該模制空間來移除模制的制品。該內腔或該內芯中的至少一部分是低脫模角元件(low draft element)。低脫模角元件在本說明書中被定義為具有相對于分模軸線為0.5度或更小脫模角度的元件。相對于分模軸線為0.5度或更小的脫模角度在本說明書中被定義為低脫模角。該方法包括以下步驟:將該低脫模角元件的至少一部分加熱至第一選定溫度來使其膨脹。在加熱之前、過程中或之后,注射一種流體模制材料到該模制空間中。抵靠該低脫模角元件成形該流體模制材料的至少一個表面以便限定一個低脫模角成形的表面。至少將該低脫模角成形的表面固化以便提供一個固體的低脫模角成形的表面。該方法包括以下步驟:將該低脫模角元件的至少一部分冷卻至低于第一選定溫度的一個第二選定平均溫度。進行充分冷卻來將至少一部分的該低脫模角元件熱收縮而充分離開該固體的低脫模角成形的表面,以將該低脫模角元件從低脫模角成形的表面上釋放。該方法通過沿分模軸線分開該內腔和內芯并將該固體制品從該成形空間中移除而繼續(xù)進行。本發(fā)明的另一個方面是通過上述方法制成的注射器組件。本發(fā)明的又另一個方面是包括筒和活塞的注射器組件。該筒包括大致圓柱形的側壁。該側壁是由基本上剛性的熱塑性材料制成的,限定了一個孔用于容納液體。該孔具有O至0.5度、任選地至少基本上為零度的軸向脫模角度。該活塞具有前導面、尾隨面和被配置成用于可移動地放置于孔中的側邊緣。該側邊緣是由基本上剛性的熱塑性材料制成的。本發(fā)明的甚至另一個方面是一種利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地涂覆注射器柱塞或類似制品的方法,該方法是如下進行的。提供一個注射器柱塞,該柱塞具有被定位成用于接觸注射器筒的內容物的一個大致圓形的前部和被適配成用于可滑動地接觸注射器筒的一個大致圓柱形的側部。提供一個大致管狀的柱塞夾持器,該夾持器具有前開口以及從該前開口延伸的內側壁。將柱塞放置在柱塞夾持器內,將其定向成使得該柱塞的前部朝向該柱塞夾持器的前開口并且該柱塞的側部接觸該柱塞夾持器的內側壁。柱塞的前部與形成層的反應氣體接觸,并且等離子體在柱塞夾持器內鄰近該柱塞前部而形成。其結果是利用等離子體增強化學氣相沉積而選擇性地在柱塞的前部上沉積一個阻隔層。本發(fā)明的又一個方面是用于選擇性地涂覆注射器柱塞的另一種方法。提供一個注射器柱塞,該柱塞具有被定位成用于接觸注射器筒的內容物的一個大致圓形的前部、被適配成用于可滑動地接觸注射器筒的一個大致圓柱形的側部、以及一個大致圓形的后部。將注射器柱塞放置在等離子體增強化學氣相沉積室中。該大致圓形的前部和該大致圓形的后部中的至少一個被掩蓋。這樣做是至少基本上在未掩蓋該柱塞的大致圓柱形側部的至少一部分的情況下。柱塞的側部與形成層的反應氣體相接觸。等離子體在沉積室中鄰近該柱塞側部而形成。其結果是,利用等離子體增強化學氣相沉積而在柱塞側部上選擇性地形成一個層。本發(fā)明的其他方面從本發(fā)明的下面描述和所附權利要求中將是明顯的。附圖簡要說明圖1A是示出了現(xiàn)有技術的注射器筒模制操作的一個階段的截面圖的放大細部;圖1B是示出了現(xiàn)有技術的注射器柱塞模制操作的一個階段的截面圖的放大細部;圖2是具有根據(jù)本發(fā)明模制的筒和柱塞的示例性注射器的透視圖;圖3是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器筒模制操作的第一階段的截面圖;圖4是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器筒模制操作的第二階段的截面圖;圖5是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器筒模制操作的第三階段的截面圖;圖5A是示出了圖5的注射器筒和模具內芯之間形成的間隙的放大細部;圖6是示出了圖3-5的模制操作的釋放階段的截面圖;圖7是示出了使用兩部分的下模板和兩部分的上模板所模制的注射器筒的模制操作的釋放階段的截面圖;圖8是示出了根據(jù)本發(fā)明模制的一個示例性試管的透視圖;圖9是示出了根據(jù)本發(fā)明的試管的模制操作的一個階段的截面圖;圖10是示出了在一個典型的注射器筒內的潤滑層的位移的示意圖11是示出了用于模制一個注射器筒的本發(fā)明一個實施方案的內芯的截面圖;圖12是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器柱塞的模制操作的第一階段的截面圖;圖13是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器柱塞的模制操作的第二階段的截面圖;圖14是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器柱塞的模制操作的第三階段的截面圖;圖14A是示出了圖14的注射器柱塞和模具下模板之間的間隙空間的放大細部;圖15是示出了圖12-14的模制操作的釋放階段的截面圖;圖16是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器柱塞的另一個實施方案的模制操作的一個階段的截面圖;圖17是示出了根據(jù)本發(fā)明的注射器柱塞的另一個實施方案的模制操作的一個階段的的截面圖;圖18是根據(jù)本發(fā)明生產(chǎn)的注射器處于儲存構型中的截面圖;并且圖19是準備用于劑量的給藥的圖18的注射器的截面圖。圖20是根據(jù)本發(fā)明的一個實施方案的注射器的側視圖。圖21是圖20的實施方案的縱向剖面;圖22是圖20的實施方案的局部剖面的分解透視圖;圖23是圖20的實施方案的柱塞的透視圖;圖24是圖20的實施方案的注射器筒的單獨的后端立面圖;圖25是圖20的實施方案的柱塞的類似于圖24的視圖;圖26是根據(jù)現(xiàn)有技術的注射器的縱剖面;圖27是用于在注射器柱塞上形成層的設備的縱剖面;圖28是圖2中所示的注射器柱塞的放大詳圖,示出了其多個部分;圖29是用于在注射器柱塞的側面上形成層的替代設備的的示意性剖視圖;圖30是圖4中所示的注射器柱塞的放大詳圖,示出了其多個部分;圖31是用于在大致圓柱形物體的末端上形成層的替代裝置的縱剖面,該物體在此為塞子;圖32是圖6中所示的塞子的放大詳圖,示出了其多個部分;圖33是一個隔墊的示意性剖面詳圖,示出了掩模以用于將一個層限制在塞子一側上;圖34示出了真空血液收集管和閉合組件的透視圖;圖35是圖9的局部縱向剖面,示出了安置在管上的塞子和護套組件,該管可以是一個容器頸部,如圖9所示,或當它與護套組裝時,是一個用于夾持該塞子的夾持器。在本說明書中使用以下參考號。在相應視圖中帶有類似編號的部分示出了對應的元件。參考號列表
      權利要求
      1.低脫模角的權利要求一種用于模制固體制品(146)的方法,該方法包括: 提供多用途的注射模制設備,該設備包括限定了一個空腔(138)的一個基本剛性的表面(133)和一個基本剛性的內芯(136),該空腔(138)和該內芯(136)在其之間限定了一個模制空間(144),該空腔(138)和該內芯(136)中的至少一個相對于另一個沿一條分模軸線(X)是可移動的以便打開該模制空間(144)來移除模制制品,該空腔(138)或該內芯(136)中的至少一部分是低脫模角元件(例如136),該低脫模角元件具有相對于分模軸線(X)為0.5度或更小的脫模角度(Θ ); 將該低脫模角元件(例如136)的至少一部分加熱至一個第一選定溫度來使其膨脹; 在加熱之前、過程中 或之后,將一種流體模制材料(146)注射到該模制空間(144)中; 抵靠該低脫模角元件(例如136)來成形該流體模制材料(146)的至少一個表面以便限定一個低脫模角成形的表面(150); 至少固化該低脫模角成形的表面(150)以提供一個固體的低脫模角成形的表面(150); 將該低脫模角元件(例如136)的至少一部分冷卻至低于該第一選定溫度的一個第二選定平均溫度以便使該低脫模角元件(例如136)的至少一部分充分熱收縮而離開該固體的低脫模角成形的表面(150),從而將該低脫模角元件(例如136)從該固體的低脫模角成形的表面(150)上釋放; 沿該分模軸線(X)分離該空腔(138)和內芯(136);并且 從該模制空間(144 )中移除該固體制品(146 )。
      2.根據(jù)權利要求1所述的方法,其中該低脫模角元件至少是該內芯(136)的一部分。
      3.根據(jù)權利要求1或2中所述的方法,其中該流體模制材料(146)在被注射到該模制空間(144)中時的溫度是高于其玻璃化轉變溫度。
      4.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該固化步驟是通過將至少該注射模制的材料(146)的成形表面(150)冷卻至其玻璃化轉變溫度以下而進行的。
      5.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件(例如136)具有從0°到0.5°的脫模角度。
      6.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件(例如136)具有從0°到0.25°的脫模角度。
      7.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件(例如136)具有從0°到0.16°的脫模角度。
      8.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件(例如136)具有從0°到0.03°的脫模角度。
      9.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件(例如136)具有從0°到0.014°、任選地從0°到0.01°的脫模角度。
      10.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該模制材料(146)包括:聚對苯二甲酸乙二酯、環(huán)烯烴共聚物、環(huán)烯烴聚合物、聚丙烯,或它們的組合。
      11.根據(jù)前述任一權利要求所述的方法,其中該低脫模角元件包括鋼,例如H13等級的工具鋼。
      12.通過權利要求1所述的方法制成的注射器組件(310)。
      13.通過前述任一權利要求所述的方法制成的注射器組件(310)。
      14.根據(jù)權利要求13所述的注射器組件(310),包括: 筒(312),該筒具有開口端(326)、分配口(344)和內表面(315);以及 活塞(318),該活塞具有側邊緣并在該筒內是可滑動的以用于分配在該筒中的在該筒內表面(115 )、筒分配口( 344 )和該活塞(318 )之間被捕獲的任何內容物。
      15.根據(jù)權利要求14所述的注射器組件(310),進一步包括在該筒的內表面(115)上的SiOx阻隔層。
      16.根據(jù)權利要求14或15所述的注射器組件(310),進一步包括在該注射器側邊緣和該筒的內表面(115)中的至少一個上的潤滑層,以減少在該筒內推動該活塞(318)所需要的力。
      17.根據(jù)權利要求16所述的注射器組件(310),其中該潤滑層是通過PECVD施加的。
      18.根據(jù)權利要求16或17所述的注射器組件(310),其中該潤滑層具有通過X射線光電子能譜(XPS)測量的下列原子比之一 =SiwOxCy或SiwNxCy,其中w是1,X在此化學式中是從約0.5至2.4,并且J是從約0.6至約3。
      19.根據(jù)前述權利要求14-19中任一項所述的注射器組件(310),進一步包括: 作為被捕獲在該筒中的內容物的蛋白質制劑;以及 蛋白質友好層,用于修飾該筒的內表面(115)以便與該蛋白質友好層的降解速率相比來減少被捕獲在該筒中的內容物的`降解速率。
      20.根據(jù)前述任一權利要求所述的注射器組件(310),其中該潤滑層是位于活塞(318)側邊緣上。
      注射器結構
      21.一種注射器組件(310),包括: 包括大致圓柱形的側壁(314)的一個筒(312),該側壁(314)是由基本上剛性的熱塑性材料制成的、限定了用于容納液體的一個孔(316),該孔(316)具有O到0.5度、任選地至少基本上為零度的軸向脫模角度(Θ );以及 活塞(318),該活塞具有前導面(320)、尾隨面(322)、和被配置成用于可移動地安置于該孔(316)中的側邊緣(324),該側邊緣(324)是由基本上剛性的熱塑性材料制成的。
      22.根據(jù)權利要求21所述的發(fā)明,進一步包括通過PECVD而沉積在該活塞(318)的側邊緣(24)上或該孔(314)上、或這兩者上的潤滑劑(326)。
      23.根據(jù)權利要求21或22所述的發(fā)明,其中該活塞前導面(320)是凸狀的。
      24.根據(jù)前述權利要求21-23中任一項所述的發(fā)明,其中該活塞尾隨面(322)是凹狀的。
      25.根據(jù)前述權利要求21-24中任一項所述的發(fā)明,其中該活塞側邊緣(324)與該孔(316)的最大徑向間隙是不超過約15 μ m。
      26.根據(jù)前述權利要求21-25中任一項所述的發(fā)明,其中該活塞側邊緣(324)在軸向平面上是凸狀的。
      27.根據(jù)前述權利要求21-26中任一項所述的發(fā)明,其中該筒(312)是一個單一的注射模制的熱塑性部件。
      28.根據(jù)前述權利要求21-27中任一項所述的發(fā)明,其中該活塞(318)是一個單一的注射模制的熱塑性部件。
      29.根據(jù)前述權利要求21-28中任一項所述的發(fā)明,進一步包括與該活塞(318)相關聯(lián)的一個連桿(328),用于在該孔(316)內推進該活塞(318)。
      30.根據(jù)權利要求29所述的發(fā)明,其中該活塞(318)和該連桿(328)是一個單一的注射模制的熱塑性部件。
      31.根據(jù)前述權利要求27-30中任一項所述的發(fā)明,其中每個單一的模制的熱塑性部件是由單一的均質的材料制成的。
      32.根據(jù)前述權利要求29-31中任一項所述的發(fā)明,其中該連桿(328)的第一端部(330)被連接到該活塞(318)上,并且其相反的第二端部(332)從該筒(312)上伸出。
      33.根據(jù)權利要求32所述的發(fā)明,其中該連桿(328)的管狀區(qū)段(334)是與其第二端部(332)相鄰的。
      34.根據(jù)前述權利要求29-33中任一項所述的發(fā)明,其中該連桿(328)的在其第一和第二端部(330,332)之間的一部分具有一個大致十字形的區(qū)段(336)。
      35.根據(jù)權利要求34所述的發(fā)明,其中該連桿(328)的十字形區(qū)段(336)是與其第一端部(330)相鄰的。
      36.根據(jù)權利要求34或35所述的發(fā)明,其中該連桿(328)的在其第一端部(30)和其大致十字形的區(qū)段(336)之間的一部分具有一個桿狀區(qū)段(338),該桿狀區(qū)段的直徑小于該孔(316)的直徑的一半。
      37.根據(jù)前述權利要求34-36`中任一項所述的發(fā)明,其中該管狀區(qū)段(334)具有被布置在注射器筒內的一個開口端(340)和一個封閉端(342)。
      38.根據(jù)權利要求37所述的發(fā)明,其中該管狀區(qū)段(334)的封閉端(342)并入該連桿(328)的大致十字形的區(qū)段(336)之中。
      39.根據(jù)前述權利要求1-11中任一項所述的方法,其中該模制空間被配置成用于成形一個注射器柱塞,該注射器柱塞具有從0°至0.15°、任選地從0°至0.1°、任選地從0°至0.06°、任選地從0°至0.03°的脫模角度。
      40.根據(jù)前述權利要求21-40中任一項所述的發(fā)明,其中該筒(312)具有分配口(344),該方面進一步包括一個可操作地連接到該分配口(344)上的皮下注射針頭(346)。
      經(jīng)PECVD處理的柱塞
      41.一種利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地涂覆注射器柱塞或類似制品的方法,該方法包括: 提供一個注射器柱塞,該柱塞具有大致圓形的前部以及大致圓柱形的側部,該前部被定位成用于接觸一個注射器筒的內容物,并且該側部被適配成用于可滑動地接觸一個注射器筒; 提供一個大致管狀的柱塞夾持器,該夾持器具有前開口以及從該前開口延伸的內側壁; 將該柱塞放置在該柱塞夾持器中,其取向為使得該柱塞的前部是朝向該柱塞夾持器的前開口并且該柱塞的側部接觸了該柱塞夾持器的內側壁; 使該柱塞的前部與形成層的反應氣體相接觸;在該柱塞夾持器內在該柱塞的前部附近形成等離子體;并且 利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地在該柱塞的前部上沉積一個阻隔層。
      42.一種用于選擇性地涂覆注射器柱塞的方法,該方法包括: 提供一個注射器柱塞,該柱塞具有:大致圓形的前部,該前部被定位成用于接觸一個注射器筒的內容物;大致圓柱形的側部,該側部被適配成用于可滑動地接觸一個注射器筒;以及以大致圓形的后部; 將該注射器柱塞放置在等離子體增強化學氣相沉積室中; 掩蓋該大致圓形的前部和該大致圓形的后部中的至少一個,而至少基本上不掩蓋該柱塞的大致圓柱形的側部的至少一部分; 將該柱塞的側部與形成層的反應氣體相接觸; 在該沉積室內在該柱塞的側部附近形成等離子體;并且 利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地在該柱塞的側部上沉積一個層。
      43.根據(jù)權利要求41或42所述的方法,其中該形成層的反應氣體包括有機硅氣體。
      44.根據(jù)權利要求41-43中任一項所述的方法,其中該形成層的氣體包括六亞甲基二硅氧烷。
      45.根據(jù)權利要求41-44中任一項所述的方法,其中該形成層的氣體包括八甲基環(huán)四 硅氧烷。
      46.根據(jù)權利要求41-45中任一項所述的方法,其中該形成層的氣體包括氧氣。
      47.一種利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地在大致圓柱形的制品的端部上沉積層的方法,該方法包括: 提供一個大致圓柱形的制品,該制品具有端部和大致圓柱形的側部; 提供一個夾持器,該夾持器具有第一開口并且限定了從該第一開口延伸的孔; 將該制品至少部分地放置在該孔內,該物品的取向為使得其端部是朝向該夾持器的第一開口并且其側部接觸了該孔;并且 利用至少一種形成層的前體的等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地在該制品的端部上沉積至少一個層。致圓柱形的制品.注射器柱塞
      48.根據(jù)權利要求47所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品是一個注射器柱塞。
      49.根據(jù)權利要求47或48所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品是一個注射器活塞。.包括圓柱形制品的組件.1注射器柱塞和推桿
      50.通過前述權利要求47-49中任一項所述的方法制成的大致圓柱形的制品與推桿的組件。.1.a在工藝中組裝的推桿
      51.根據(jù)權利要求50所述的發(fā)明,其中該柱塞在沉積該至少一個層時被固定于推桿上。.l.b.尺寸被確定成密切匹配在孔中的拇指墊
      52.根據(jù)權利要求50或51所述的發(fā)明,其中該推桿進一步包括拇指墊。
      53.根據(jù)權利要求52所述的發(fā)明,其中該拇指墊的尺寸被確定成至少部分地匹配在該孔中。
      54.根據(jù)權利要求52或53所述的發(fā)明,其中該拇指墊的至少一部分的尺寸被確定成以小的間隙匹配在該孔中。.2.注射器柱塞和筒
      55.根據(jù)前述權利要求47-54中任一項所制造的大致圓柱形的制品與注射器筒的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      56.根據(jù)前述權利要求47-55中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒和推桿的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      57.根據(jù)前述權利要求47-56中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿和端蓋的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      58.根據(jù)前述權利要求47-57中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿和皮下注射針頭的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      59.根據(jù)前述權利要求47-58中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿、皮下注射針頭和針頭護套的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞O
      60.根據(jù)前述權利要求14-46或55-59中任一項所述的發(fā)明,其中該注射器筒具有經(jīng)PECVD處理的內部部分。
      I1.夾持器 I1.A.孔的形狀I1.A.1.盲孔
      61.根據(jù)前述權利要求47-60中任一項所述的發(fā)明,其中該孔具有一個單一的開口。I1.A.2.通孔
      62.根據(jù)前述權利要求47-60中任一項所述的發(fā)明,其中該孔是通孔,具有遠側的第二開口。
      I1.A.3.均勻區(qū)段
      63.根據(jù)前述權利要求47-62中任一項所述的發(fā)明,其中該孔具有沿著其長度的至少一部分的一個基本上圓柱形的區(qū)段。
      64.根據(jù)前述權利要求47-63中任一項所述的發(fā)明,其中該孔具有沿著其整個長度的一個基本上圓柱形的區(qū)段。
      I1.A.4.與制品相同的區(qū)段
      65.根據(jù)前述權利要求47-64中任一項所述的發(fā)明,其中該孔和該大致圓柱形的制品有基本上相同的徑向區(qū)段。
      66.根據(jù)前述權利要求47-65中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品被配置成在該孔內形成滑動密封。
      II1.在沉積層之前和之后將制品和孔的組件作為一個單元進行處理
      67.根據(jù)前述權利要求47-66中任一項所述的發(fā)明,進一步包括:在沉積該至少一個層之前將該夾持器的第一開口以操作性的關系安置于一臺PECVD設備上,該設備包括一個真空源和一個前體氣體源。II1.A.沉積層之前
      68.根據(jù)前述權利要求47-67中任一項所述的發(fā)明,其中在將夾持器的第一開口安置在該PECVD設備上之前將該制品至少部分地放置在該孔內,從而形成一個制品-孔的組件。
      69.根據(jù)前述權利要求47-68中任一項所述的發(fā)明,其中在形成該制品-孔的組件之后、并且在將該制品-孔的組件安置在該PECVD設備上之前,該制品-孔組件被運送到該PECVD設備。
      II1.B.沉積層之后
      70.根據(jù)前述權利要求47-69中任一項所述的發(fā)明,其中在沉積該至少一個層之后,將該制品-孔的組件從該PECVD設備上取下并運走。
      IV.從孔內移除制品
      71.根據(jù)前述權利要求47-70中任一項所述的發(fā)明,其中當該制品-孔的組件從該PECVD設備上被運走之后,將該大致圓柱形的制品從該制品-孔的組件中移除。
      72.根據(jù)前述權利要求47-71中任一項所述的發(fā)明,其中該孔在兩端均是開放的,一端為第一開口并且在另一端為第二開口,并且該大致圓柱形的制品是通過推動它穿過該第一開口而從制品-孔的組件移除的。
      73.根據(jù)前述權利要求47-72中任一項所述的發(fā)明,其中在將一個物體穿過該第二開口插入該孔中的情況下將該大致圓柱形的制品推動穿過第一開口。
      V.層的性質 V.A.浸出阻隔層`
      74.根據(jù)前述權利要求47-73中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個阻隔層以減少材料通過該涂覆的端部從該大致圓柱形的制品中浸出。
      75.根據(jù)前述權利要求47-74中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個阻隔層以減少材料通過該涂覆的端部浸出到該大致圓柱形的制品中。
      V.B.疏水層
      76.根據(jù)前述權利要求47-75中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個疏水層,該疏水層被適配成用于對該涂覆的端部提供所希望的表面疏水性以便與該至少一個層將暴露于其中的材料相接觸。
      V.C.鈍化層
      77.根據(jù)前述權利要求47-76中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個疏水層,該疏水層被適配成用于鈍化該涂覆的端部以防止該端部被該至少一個層將暴露于其中的材料所腐蝕。
      V.D.對抗環(huán)境條件的阻隔層
      78.根據(jù)前述權利要求47-77中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括對抗大氣氣體或流體通過該涂覆的端部侵入的阻隔層。
      V.E.對抗內容物逸出的阻隔層
      79.根據(jù)前述權利要求47-78中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括對抗材料通過該涂覆的端部而逸出的阻隔層。
      V.F.多功能
      80.根據(jù)前述權利要求47-79中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括以下各項中的多于一個: 浸出阻隔層; 疏水層; 鈍化層; 對抗環(huán)境條件的阻隔層;以及 對抗內容物逸出的阻隔層。
      81.根據(jù)前述權利要求47-80中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括以下各項中的多于兩個: 浸出阻隔層; 疏水層; 鈍化層; 對抗環(huán)境條件的阻隔層;以及 對抗內容物逸出的阻隔層。
      82.根據(jù)前述權利要求47-81中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括: 浸出阻隔層;以及 對抗內容物逸出的阻隔層。
      83.根據(jù)前述權利要求47-82中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括: 浸出阻隔層;以及 疏水層。
      V.G層的范圍
      84.根據(jù)前述權利要求47-83中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的端部的不到全部是被涂覆的。
      85.根據(jù)前述權利要求47-84中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的中央端部是被涂覆的,并且該大致圓柱形的制品的外周端部保持未被涂覆。
      86.根據(jù)前述權利要求47-85中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的鄰近該端部的側部是被涂覆的。
      87.根據(jù)前述權利要求47-86中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的遠離該鄰近部分的側部保持未被涂覆。
      V1.附加處理步驟 V1.A.真空預處理
      88.根據(jù)前述權利要求47-87中任一項所述的發(fā)明,其中,在沉積一個層之前,將該大致圓柱形的制品的端部暴露于局部真空中以便從該大致圓柱形的制品中抽出可移位的流體材料。
      V1.B.附加沉積層步驟
      89.根據(jù)前述權利要求47-88中任一項所述的發(fā)明,其中,沉積了多個層。
      90.根據(jù)前述權利要求47-89中任一項所述的發(fā)明,其中沉積了具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有不同的組成、不同的特性或這兩者的第二層。
      91.根據(jù)前述權利要求47-90中任一項所述的發(fā)明,其中沉積具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有相同的組成和特性的第二層。
      92.根據(jù)前述權利要求47-91中任一項所述的發(fā)明,其中沉積具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有不同的組成、不同的特性或這兩者的第二層,其后沉積具有與該第一層所包括的相同的組成和特性的第三層。
      93.根據(jù)前述權利要求47-92中任一項所述的發(fā)明,其中沉積具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有不同的組成、不同的特性或這兩者的多層第二層,其后沉積具有與該第一層所包括的相同的組成和特性的第三層。
      94.一種利用等離子體增強化學氣相沉積來選擇性地處理大致圓柱形的制品的側部的方法,該方法包括: 提供具有相反端部 和大致圓柱形的側部的一個大致圓柱形的制品; 將該制品放置在等離子體增強化學氣相沉積室中; 掩蓋至少一個端部的至少一部分,同時留下未掩蓋的側部;并且 利用一種形成層的前體的等離子體增強化學氣相沉積來在該制品的未掩蓋的側部上選擇性地沉積至少一個層。致圓柱形的制品.注射器柱塞
      95.根據(jù)權利要求94所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品是一個注射器柱塞。
      96.根據(jù)權利要求94或95所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品是一個注射器活塞。.包括圓柱形制品的組件.1.注射器柱塞和推桿
      97.根據(jù)前述權利要求94-96中任一項所述的大致圓柱形的制品與推桿的組件。.1.a在工藝中組裝的推桿
      98.根據(jù)前述權利要求94-97中任一項所述的發(fā)明,其中在沉積該至少一個層時該柱塞被固定到推桿上。.2.注射器柱塞和筒
      99.根據(jù)前述權利要求94-98中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      100.根據(jù)前述權利要求94-99中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒和推桿的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      101.根據(jù)前述權利要求94-100中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿和端蓋的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      102.根據(jù)前述權利要求94-101中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿和皮下注射針頭的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      103.根據(jù)前述權利要求94-102中任一項所述的大致圓柱形的制品與注射器筒、推桿、皮下注射針頭和針頭護套的組件,其中該大致圓柱形的制品被配置成用作在該筒內可滑動的柱塞。
      104.根據(jù)前述權利要求94-103中任一項所述的發(fā)明,其中該注射器筒具有經(jīng)PECVD處理的內部部分。.大致圓柱形的制品的形狀.1.平坦的端部
      105.根據(jù)前述權利要求94-104中任一項所述的發(fā)明,其中該端部通常是平坦的。.2.波狀的端部
      106.根據(jù)前述權利要求94-105中任一項所述的發(fā)明,其中該端部是波狀的。.3.光滑的端部
      107.根據(jù)前述權利要求94-106中任一項所述的發(fā)明,其中該端部具有光滑的表面光潔度。.1.圓柱形的側部
      108.根據(jù)前述權利要求94-107中任一項所述的發(fā)明,其中該側部是大致圓柱形的。.2.波狀的側部
      109.根據(jù)前述權利要求94-108中任一項所述的發(fā)明,其中該側部是波狀的。.3.光滑的側部
      110.根據(jù)前述權利要求94-109中任一項所述的發(fā)明,其中該側部具有光滑的表面光潔度。
      I1.掩模 I1.A.與端部相同的形狀
      111.根據(jù)前述權利要求94-110中任一項所述的發(fā)明,其中該掩模具有被配置成用于與該大致圓柱形的制品的端部相配合的一個部分。
      112.根據(jù)前述權利要求94-111中任一項所述的發(fā)明,其中該掩模和該大致圓柱形的制品具有基本上相同的配合部分。
      I1.B.掩模陣列
      113.根據(jù)前述權利要求94-112中任一項所述的發(fā)明,其中該夾持器具有多個開口的一種圖案,以用于接收至少一個層的多個大致圓柱形的制品,并且該掩模進一步包括連接在一起形成模板的多個掩模,該模板具有與該夾持器中的這些開口對應的掩模。
      114.根據(jù)前述權利要求94-113中任一項所述的發(fā)明,其中該掩模包括具有多個井的表面,這些井被配置成用于接收和掩蓋至少一個層的多個大致圓柱形的制品。
      IV.從夾持器或掩模中移除制品
      115.根據(jù)前述權利要求94-114中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品在該沉積層步驟的過程中被固定到推桿上。
      116.根據(jù)前述權利要求94-115中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品在該沉積層步驟的過程中被固定到推桿上并被支撐在夾持器上、并且通過操作該推桿而從該夾持器中移除。
      117.根據(jù)前述權利要求94-116中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品在該沉積層步驟的過程中被固定到推桿上并被支撐在該掩模上、并且通過操作該推桿而從該掩模中移除。
      V.層的性質 V.A.浸出阻隔層
      118.根據(jù)前述權利要求94-117中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個阻隔層以減少材料穿過該涂覆的側部從該大致圓柱形的制品中浸出。
      119.根據(jù)前述權利要求94-118中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括一個阻隔層以減少材料穿過該涂覆的側部而浸出到該大致圓柱形的制品中。
      V.B.潤滑層
      120.根據(jù)前述權利要求94-119中任一項所述的發(fā)明,其中該側部上的至少一個層是潤滑層。
      V.F.多功能
      121.根據(jù)前述權利要求94-120中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括浸出阻隔層和潤滑層。
      V.G層的范圍
      122.根據(jù)前述權利要求94-121中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的側部的不到全部是被涂覆的。
      123.根據(jù)前述權利要求94-122中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的中央側部是被涂覆的,并且該大致圓柱形的制品的外周側部保持未被涂覆。
      124.根據(jù)前述權利要求94-123中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的外周端部是被涂覆的。
      125.根據(jù)前述權利要求94-123中任一項所述的發(fā)明,其中該大致圓柱形的制品的中央端部保持未被涂覆。
      V1.附加處理步驟 V1.A.真空預處理`
      126.根據(jù)前述權利要求94-125中任一項所述的發(fā)明,其中,在沉積一個層之前,將該大致圓柱形的制品的側部暴露于局部真空中以便從該大致圓柱形的制品中抽出可移位的流體材料。
      V1.B.附加沉積層步驟
      127.根據(jù)前述權利要求94-126中任一項所述的發(fā)明,其中,沉積了多個層。
      128.根據(jù)前述權利要求94-127中任一項所述的發(fā)明,其中沉積具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有不同的組成、不同的特性或這兩者的第二層。
      129.根據(jù)前述權利要求94-128中任一項所述的發(fā)明,其中沉積具有一種組成和特性的第一層,其后沉積具有相同的組成和特性的第二層。
      公共的權利要求 VI1.層的性質 VI1.A.潤滑層
      130.根據(jù)前述權利要求47-129中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括厚度小于IOOOnm的、利用等離子體增強化學氣相沉積所施加的潤滑層或層。
      131.根據(jù)權利要求130所述的發(fā)明,其中該潤滑層包括: SiwOxCy或SiwNxCy的層,其中w是1,X在此化學式中是從約0.5至2.4,且y是從約0.6至約3;以及 以有效量覆蓋該潤滑層的表面處理,該有效量是用于降低該潤滑層、熱塑性基底材料,或兩者浸出到內腔中; 其中該潤滑層和表面處理是以相對量構成和存在的,該相對量是有效地提供低于在沒有該潤滑層和表面處理情況下所需的相應力的一個啟動力、滑動力,或兩者。
      132.根據(jù)權利要求130或131所述的發(fā)明,其中該潤滑層是使用以下材料和條件由PECVD工藝所產(chǎn)生的: 有機硅前體,該有機硅前體為直鏈硅氧烷、直鏈硅氮烷、單環(huán)硅氧烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氧烷、聚倍半硅氮烷、雜氮硅三環(huán)、硅雜長雜氮硅三環(huán)、硅雜開雜氮三環(huán)、氮雜雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜長雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜開雜氮三環(huán),或這些中的兩種或更多種的任何組合, 氧氣, 載氣,以及 足夠的等離子體生成輸入功率以用于誘導層的形成, 這些材料和條件將該大致圓柱形的制品的滑動力或啟動力相對于未涂覆的注射器筒而言有效地減小了至少25%。
      133.根據(jù)前述權利要求130-132中任一項所述的發(fā)明,其中該潤滑層是通過采用具有以下標準體積比的氣態(tài)反應物或工藝氣體而形成的: 從I至6標準體積的該前體, 從5至100標準體積的載氣,以及 從0.1至2標準體積的氧化劑。
      134.根據(jù)前述權利要求130-133中任一項所述的發(fā)明,進一步包括采用具有從2至4標準體積的該前體的一種氣態(tài)反應物或工藝氣體。
      135.根據(jù)前述權利要求130-133中任一項所述的發(fā)明,進一步包括采用具有從10至70標準體積的載氣的一種氣態(tài)反應物或工藝氣體。
      136.根據(jù)前述權利要求130-135中任一項所述的發(fā)明,進一步包括采用具有從0.5至1.5標準體積的氧化劑的一種氣態(tài)反應物或工藝氣體。
      137.根據(jù)前述權利要求130-136中任一項所述的發(fā)明,進一步包括采用具有從0.8至1.2標準體積的氧化劑的一種氣態(tài)反應物或工藝氣體。
      138.根據(jù)前述權利要求130-137中任一項所述的發(fā)明,其中該有機硅化合物包括六甲基二硅氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、六甲基環(huán)三硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧烷、十二甲基環(huán)六硅氧烷;SST-EM01聚(甲基倍半硅氧烷),其中每個R是甲基;SST-3MH1.1聚(甲基-氫化倍半硅氧烷),其中90%的R基團是甲基并且10%是氫原子;或這些中的兩種或更多種的任何組合。
      139.根據(jù)前述權利要求130-138中任一項所述的發(fā)明,其中該有機硅化合物包括八甲基環(huán)四硅氧烷(OMCTS)。
      140.根據(jù)前述權利要求130-139中任一項所述的發(fā)明,其中該有機硅化合物包括六甲基二硅氧烷。
      141.根據(jù)前述權利要求130-140中任一項所述的發(fā)明,在有機硅前體的流量等于或小于6sccm、任選地等于或小于2.5sccm、任選地等于或小于1.5sccm、任選地等于或小于1.25sccm的情況下采用PECVD。
      142.根據(jù)前述權利要求130-141中任一項所述的發(fā)明,其中使該前體與等離子體相接觸,該等離子體是通過使用以從I至22瓦特的電功率供電的電極來激發(fā)該前體的附近區(qū)域而形成的。
      143.根據(jù)前述權利要求130-142中任一項所述的發(fā)明,其中使該前體與等離子體相接觸,該等離子體是通過使用以相對于等離子體體積而言小于10W/ml的電功率供電的電極來激發(fā)該前體的附近區(qū)域而形成的。
      144.根據(jù)前述權利要求130-143中任一項所述的發(fā)明,其中使該前體與等離子體相接觸,該等離子體是通過使用以相對于等離子體體積而言從5W/ml到0.1ff/ml的電功率供電的電極來激發(fā)該前體的附近區(qū)域而形成的。
      145.根據(jù)前述權利要求130-144中任一項所述的發(fā)明,其中使該前體與等離子體相接觸,該等離子體是通過使用以相對于等離子體體積而言從4W/ml到0.1ff/ml的電功率供電的電極來激發(fā)該前體的附近區(qū)域而形成的。
      146.根據(jù)前述權利要求130-145中任一項所述的發(fā)明,其中使該前體與等離子體相接觸,該等離子體是通過使用以相對于等離子體體積而言從2W/ml到0.2ff/ml的電功率供電的電極來激發(fā)該前體的附近區(qū)域而形成的。
      147.根據(jù)前述權利要求130-146中任一項所述的發(fā)明,其中該等離子體是通過使用電磁能來激發(fā)該反應混合物而形成的。
      148.根據(jù)前述權利要求130-147中任一項所述的發(fā)明,其中該等離子體是通過使用包含微波能的能量來激發(fā)該反應混合物而形成的。
      VI1.B.疏水層
      149.根據(jù)前述權利要求47-148中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括疏水層,且該層的疏水特性是通過設定在該氣態(tài)反應物中02與有機硅前體的比率、和/或通過設定用于產(chǎn)生等離子體的電功率來設定的。
      150.根據(jù)權利要求149所述的發(fā)明,其中該層具有比未涂覆的表面更低的潤濕張力。
      151.根據(jù)權利要求149或150所述的發(fā)明,其中該層具有的潤濕張力是從20至72達因/厘米。
      152.根據(jù)前述權利要求149-151中任一項所述的發(fā)明,其中該層具有的潤濕張力是從30至60達因/厘米。
      153.根據(jù)前述權利要求149-152中任一項所述的發(fā)明,其中該層具有的潤濕張力是從30至40達因/厘米。
      154.根據(jù)前述權利要求149-153中任一項所述的發(fā)明,其中該層具有的潤濕張力為34達因/厘米。
      155.根據(jù)前述權利要求149-154中任一項所述的發(fā)明,其中該層是比未涂覆的表面更加疏水的。
      VI1.C.阻隔層
      156.根據(jù)前述權利要求47-155中任一項所述的發(fā)明,其中該至少一個層包括阻隔層,該阻隔層包括: SiOx內層,其中X是從1.5至2.9,該內層為從5至200nm厚、具有一個朝向內腔的內表面和一個外表面; 分隔層,該阻隔層為從IOOnm至3mm厚、具有一個內表面和一個外表面,該內表面朝向該SiOx內層;以及SiOx外層,其中X是從1.5至2.9,該外層為從5至200nm厚、具有一個朝向該分隔層的內表面和一個外表面。
      157.根據(jù)權利要求156所述的發(fā)明,其中該SiOx外層是由有機硅化合物前體制成的,該有機硅化合物前體包括:直鏈硅氧烷、直鏈硅氮烷、單環(huán)硅氧烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氧烷、聚倍半硅氮烷、雜氮硅三環(huán)、硅雜長雜氮硅三環(huán)、硅雜開雜氮三環(huán)、氮雜雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜長雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜開雜氮三環(huán),或這些中的兩種或更多種的任何組合。
      158.根據(jù)權利要求156或157所述的發(fā)明,其中該有機娃化合物包括:六甲基二娃氧烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、六甲基環(huán)三硅氧烷、八甲基環(huán)四硅氧烷、十甲基環(huán)五硅氧烷、十二甲基環(huán)六硅氧烷;SST-EM01聚(甲基倍半硅氧烷),其中每個R是甲基;SST-3MH1.1聚(甲基-氫化倍半硅氧烷),其中90%的R基團是甲基并且10%是氫原子;或這些中的兩種或更多種的任何組合。
      159.根據(jù)權利要求156或157所述的發(fā)明,其中該分隔層是由有機硅前體制成的,該有機硅前體包括:直鏈硅氧烷、直鏈硅氮烷、單環(huán)硅氧烷、單環(huán)硅氮烷、多環(huán)硅氧烷、多環(huán)硅氮烷、聚倍半硅氧烷、聚倍半硅氮烷、雜氮硅三環(huán)、硅雜長雜氮硅三環(huán)、硅雜開雜氮三環(huán)、氮雜雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜長雜氮硅三環(huán)、氮雜硅雜開雜氮三環(huán)、或這些中的兩種或更多種的任何組合。
      160.根據(jù)前述權利要求156-159中任一項所述的發(fā)明,其中該有機硅前體包括八甲基環(huán)四硅氧烷(OMCTS)。
      161.根據(jù)前述權利要求156-160中任一項所述的發(fā)明,其中該有機娃化合物基本上由八甲基環(huán)四硅氧烷(OMCTS)組成。
      162.根據(jù)前述權利要求156-161中任一項所述的發(fā)明,其中該有機硅前體包括六甲基二硅氧烷。`
      163.根據(jù)前述權利要求156-62中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是在氧化性氣體:前體的體積流量比(sccm)為從4:1至8:1的情況下施加的。
      164.根據(jù)前述權利要求156-162中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是由包含有機硅前體和氧化性氣體的反應混合物的射頻(RF)PECVD形成的,其中RF功率水平是從10至50瓦特、優(yōu)選從20至40瓦特、優(yōu)選從25至35瓦特。
      165.根據(jù)前述權利要求156-164中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是由包含有機娃前體和氧化性氣體的反應混合物的射頻(RF)PECVD形成的,其中RF功率水平對于每毫升內腔空隙體積為從I至10瓦特、優(yōu)選從2至7瓦特、優(yōu)選從3至5瓦特。
      166.根據(jù)前述權利要求156-165中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是至少兩個由PECVD施加的層的復合物。
      167.根據(jù)前述權利要求156-166中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是至少10個由PECVD施加的層的復合物。
      168.根據(jù)前述權利要求156-167中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是至少20個由PECVD施加的層的復合物。
      169.根據(jù)前述權利要求156-168中任一項所述的發(fā)明,其中該分隔層是至少35個由PECVD施加的層的復合物。
      全文摘要
      本發(fā)明披露了一種用于具有零脫模或低脫模角的固體制品如注射器的模制方法。該方法包括加熱一個低脫模角模具來使其膨脹、然后對該部件進行注射模制,然后冷卻該低脫模角模具元件的至少一部分以便使該低脫模角元件的至少一部分充分熱收縮而離開該固體的低脫模角成形的表面,從而將該低脫模角元件從低脫模角成形的表面上釋放。本發(fā)明還披露了通過這種方法形成的注射器和其他制品,這些注射器和其他制品具有0至0.5度、任選地至少基本上為零度的內部脫模角度。注射器柱塞可以選擇性地涂覆有潤滑涂層和其他功能性涂層,以提高注射器的性能。
      文檔編號B29C45/26GK103118852SQ201180034947
      公開日2013年5月22日 申請日期2011年7月15日 優(yōu)先權日2010年7月16日
      發(fā)明者J·T·菲爾特斯, J-P·吉羅, T·菲斯克, R·艾布拉姆斯, J·弗格森, J·弗里德曼, R·潘伯恩, P·薩格納, B·拉比納, H·皮紹 申請人:Sio2醫(yī)藥產(chǎn)品公司
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