機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種清潔機(jī)械。
【背景技術(shù)】
[0002]對(duì)于機(jī)械設(shè)備的清潔問題，想要徹底的清潔是件困難的工作，尤其是一些設(shè)備上的污漬難以清潔，若是細(xì)小的水流難以沖去污漬，若是使用刷子則會(huì)對(duì)設(shè)備外部造成傷害，很少有利用高壓水槍對(duì)污漬進(jìn)行處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的就在于提供一種可以有效對(duì)機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位的裝置。
[0004]本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的。機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，包括一個(gè)帶有支架的放置臺(tái)，放置臺(tái)上方可以放置設(shè)備，設(shè)備上方設(shè)置一個(gè)清洗烘干的裝置，設(shè)備正上方均勻設(shè)置多個(gè)清洗水槍，通過水槍水壓對(duì)設(shè)備徹底清洗。
[0005]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍上方設(shè)置注水口，由此引進(jìn)清潔用水。
[0006]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍下方設(shè)置烘干模塊，對(duì)清洗后的設(shè)備進(jìn)行烘干處理。
[0007]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，放置臺(tái)上設(shè)置控制中心，操控該裝置的運(yùn)行。
[0008]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍上方設(shè)置遠(yuǎn)程通訊模塊，將設(shè)備的清潔情況傳輸給遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)。
[0009]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，遠(yuǎn)端設(shè)置計(jì)算機(jī)，通過控制中心將設(shè)備進(jìn)行復(fù)位。
[0010]上述機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，可以快速對(duì)機(jī)械設(shè)備進(jìn)行深度清潔，并將設(shè)備復(fù)位，保護(hù)設(shè)備加大設(shè)備使用壽命。
【附圖說明】
[0011]附圖為機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0012]圖中標(biāo)號(hào)分別為:1_放置臺(tái)、2-設(shè)備、3-清洗水槍、4-注水口、5-烘干模塊、6_控制中心、7-遠(yuǎn)程通訊模塊、8-計(jì)算機(jī)。
【具體實(shí)施方式】
[0013]實(shí)施例:如附圖所示。機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，包括一個(gè)帶有支架的放置臺(tái)(1)，放置臺(tái)(I)上方可以放置設(shè)備(2)，設(shè)備上方設(shè)置一個(gè)清洗烘干的裝置，設(shè)備正上方均勻設(shè)置多個(gè)清洗水槍(3)，通過水槍水壓對(duì)設(shè)備徹底清洗。
[0014]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍(3)上方設(shè)置注水口(4)，由此引進(jìn)清潔用水。
[0015]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍(3)下方設(shè)置烘干模塊(5)，對(duì)清洗后的設(shè)備進(jìn)行烘干處理。
[0016]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，放置臺(tái)(I)上設(shè)置控制中心出)，操控該裝置的運(yùn)行。
[0017]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，清洗水槍(3)上方設(shè)置遠(yuǎn)程通訊模塊(7)，將設(shè)備的清潔情況傳輸給遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)。
[0018]機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，遠(yuǎn)端設(shè)置計(jì)算機(jī)(8)，通過控制中心將設(shè)備進(jìn)行復(fù)位。
[0019]上述機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，可以快速對(duì)機(jī)械設(shè)備進(jìn)行深度清潔，并將設(shè)備復(fù)位，保護(hù)設(shè)備加大設(shè)備使用壽命。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于包括一個(gè)帶有支架的放置臺(tái)(1)，放置臺(tái)(I)上方可以放置設(shè)備(2)，設(shè)備上方設(shè)置一個(gè)清洗烘干的裝置，設(shè)備正上方均勻設(shè)置多個(gè)清洗水槍(3)，通過水槍水壓對(duì)設(shè)備徹底清洗。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于清洗水槍(3)上方設(shè)置注水口(4)，由此引進(jìn)清潔用水。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于清洗水槍(3)下方設(shè)置烘干模塊(5)，對(duì)清洗后的設(shè)備進(jìn)行烘干處理。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于放置臺(tái)(I)上設(shè)置控制中心(6)，操控該裝置的運(yùn)行。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于清洗水槍(3)上方設(shè)置遠(yuǎn)程通訊模塊(7)，將設(shè)備的清潔情況傳輸給遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，其特征在于遠(yuǎn)端設(shè)置計(jì)算機(jī)(8)，通過控制中心將設(shè)備進(jìn)行復(fù)位。
【專利摘要】機(jī)械設(shè)備清潔復(fù)位裝置，包括一個(gè)帶有支架的放置臺(tái)(1)，放置臺(tái)(1)上方可以放置設(shè)備(2)，設(shè)備上方設(shè)置一個(gè)清洗烘干的裝置，設(shè)備正上方均勻設(shè)置多個(gè)清洗水槍(3)，通過水槍水壓對(duì)設(shè)備徹底清洗；清洗水槍(3)上方設(shè)置注水口(4)，由此引進(jìn)清潔用水；清洗水槍(3)下方設(shè)置烘干模塊(5)，對(duì)清洗后的設(shè)備進(jìn)行烘干處理；放置臺(tái)(1)上設(shè)置控制中心(6)，操控該裝置的運(yùn)行；清洗水槍(3)上方設(shè)置遠(yuǎn)程通訊模塊(7)，將設(shè)備的清潔情況傳輸給遠(yuǎn)程計(jì)算機(jī)；遠(yuǎn)端設(shè)置計(jì)算機(jī)(8)，通過控制中心將設(shè)備進(jìn)行復(fù)位；可以快速對(duì)機(jī)械設(shè)備進(jìn)行深度清潔，并將設(shè)備復(fù)位，保護(hù)設(shè)備加大設(shè)備使用壽命。
【IPC分類】B08B3/02
【公開號(hào)】CN104984944
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510418464
【發(fā)明人】竺玲玲
【申請(qǐng)人】安慶市峰邦工業(yè)產(chǎn)品設(shè)計(jì)有限公司
【公開日】2015年10月21日
【申請(qǐng)日】2015年7月14日