Uv光的應(yīng)用方法及uv光薄膜處理應(yīng)用裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種UV光的應(yīng)用方法，包括步驟：a、配置UV光發(fā)生裝置，通過UV燈管產(chǎn)生UV光；b、收集UV光，利用凹面反射鏡收集UV光；c、聚焦UV光，利用凸透鏡或鏡組將上述UV光聚焦成光束；d、傳輸U(kuò)V光束，利用紫外光纖傳輸U(kuò)V光束到應(yīng)用場所；e、擴(kuò)束，利用凸透鏡將紫外光纖尾纖的出射光轉(zhuǎn)換為平行光束；f、導(dǎo)光，將上述平行光束導(dǎo)出，射入到需要處理的產(chǎn)品表面。本發(fā)明一方面可以突破常規(guī)UV光清洗需近距離輻照樣品表面所形成的對UV燈光應(yīng)用場合和幾何空間的制約，另外一方面可以提高UV光的利用效率，提高樣品表面的輻照光能量密度，進(jìn)而提高樣品表面的清潔效果、縮短所需的輻照時間。本發(fā)明還提供一種UV光薄膜處理應(yīng)用裝置。
【專利說明】
UV光的應(yīng)用方法及UV光薄膜處理應(yīng)用裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及聚焦UV光在深紫外光學(xué)元件領(lǐng)域的應(yīng)用，特別涉及一種UV光的應(yīng)用方法及UV光薄膜處理應(yīng)用裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，以ArF準(zhǔn)分子激光和200nm以下波長自由電子激光為代表的深紫外光學(xué)應(yīng)用得到了日益的重視，并獲得了長足的發(fā)展。尤其是ArF準(zhǔn)分子193nm激光，其在包括材料精細(xì)微加工、深紫外光刻、材料處理、激光打標(biāo)等在內(nèi)的激光工業(yè)應(yīng)用，準(zhǔn)分子激光醫(yī)療，以及科學(xué)研究等諸多領(lǐng)域都獲得了十分廣泛重要的應(yīng)用，深紫外光學(xué)相關(guān)技術(shù)的研究具有重大社會和經(jīng)濟(jì)價值。深紫外激光光學(xué)系統(tǒng)與應(yīng)用的不斷發(fā)展對深紫外光學(xué)薄膜元件性能及長期穩(wěn)定性要求都提出了新的挑戰(zhàn)。深紫外光學(xué)薄膜研究面臨的根本問題是由于深紫外波段靠近大多數(shù)介質(zhì)材料的禁帶，本征吸收、雜質(zhì)吸收、缺陷吸收等的存在使得只有極其少量的介質(zhì)材料能夠滿足深紫外薄膜應(yīng)用的需要。這些少量材料包括氧化物Al203、Si02，氟化物MgF2、LaF3、AlF3 等。
[0003]薄膜材料選擇的局限性進(jìn)一步帶來了對深紫外光學(xué)薄膜制備工藝的制約，例如針對氟化物，為了避免深紫外光學(xué)薄膜出現(xiàn)由于化學(xué)計(jì)量比失配而導(dǎo)致嚴(yán)重吸收，以及高溫襯底帶來的應(yīng)力大等問題，通常只能選擇熱舟蒸發(fā)工藝進(jìn)行制備，且采用較低的襯底溫度。采用這種較低襯底溫度的熱舟蒸發(fā)制備工藝，可以得到吸收很小的深紫外光學(xué)薄膜，但同時也伴隨一些不足，如光學(xué)薄膜內(nèi)在結(jié)構(gòu)不夠致密、光學(xué)薄膜表面較粗糙。因此，這種采用較低襯底溫度的熱舟蒸發(fā)工藝所制備的深紫外光學(xué)薄膜，由于光學(xué)薄膜內(nèi)在結(jié)構(gòu)不夠致密和光學(xué)薄膜表面較粗糙所必然帶來的對應(yīng)用環(huán)境中的污染物質(zhì)進(jìn)行吸附的效應(yīng)，深紫外光學(xué)薄膜的性能會出現(xiàn)快速衰退。研究表明，這種深紫外光學(xué)薄膜性能的衰退集中表現(xiàn)為深紫外光學(xué)薄膜內(nèi)部及表面吸附有機(jī)污染物和水汽而導(dǎo)致深紫外光學(xué)薄膜的吸收顯著增大。對此，研究人員嘗試去除光學(xué)薄膜內(nèi)部及表面吸附的有機(jī)污染物和水汽的有效方法，并發(fā)現(xiàn)采用UV光輻照深紫外光學(xué)薄膜是一種行之有效的方法。
[0004]利用紫外光輻照樣品表面，使得樣品表面污染物清除的效應(yīng)，被稱為紫外光清洗。其基本原理是有機(jī)化合物的光敏氧化作用。紫外光清洗的詳細(xì)機(jī)理為:低壓汞蒸氣UV光源主要發(fā)射波長為185nm和254nm的高能量光子，當(dāng)這些高能量光子作用到被清洗物體表面時，由于大多數(shù)碳?xì)浠衔飳?85nm波長的紫外光具有較強(qiáng)的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子。此外，空氣中的氧氣分子在吸收了 185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧，臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強(qiáng)烈的吸收作用，因此，臭氧又進(jìn)一步分解為原子氧和氧氣，上述過程產(chǎn)生的原子氧是極活潑的，具有極強(qiáng)的氧化性，在它作用下，物體表面上的碳和碳?xì)浠衔锏姆纸馕锟苫铣煽蓳]發(fā)的氣體，如二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而徹底清除了黏附在表面上的碳和有機(jī)污染物。
[0005]與傳統(tǒng)的其它物理和化學(xué)清洗技術(shù)相比，紫外光清洗具有顯著的特點(diǎn)，包括:可以較徹底地清除樣品表面的碳和有機(jī)污染物;屬于非接觸清洗方式，不會形成新的污染;工藝簡單，速度快，效率高，具有較高的可靠性，表面清洗處理的均勻度很好。上述特點(diǎn)非常適合深紫外光學(xué)薄膜表面的清潔與處理。
[0006]目前商品化的UV燈清洗機(jī)都采用原始的光輻照應(yīng)用模式，即通過將樣品直接放置在距離UV燈管很近的地方進(jìn)行輻照，其基本的結(jié)構(gòu)如圖4所示。這也是目前最常見的紫外光清洗裝置結(jié)構(gòu)，其裝置主要包括紫外光燈23、變壓器11、電容12、燈罩腔體、排氣、及保護(hù)電路等幾個部分。其中，紫外光燈23是最主要的部分，一般采用Hg燈或鹵素?zé)?，需要根?jù)具體的應(yīng)用需要選擇合適的光譜、功率、結(jié)構(gòu)形狀等參數(shù)。
[0007]這種方式的結(jié)構(gòu)簡單、對樣品尺寸的要求也較低，可以滿足多數(shù)的應(yīng)用需求。但為了達(dá)到較好的清洗效果，要求樣品表面與UV燈管非常接近(Icm左右)。對于深紫外光學(xué)薄膜元件的清洗處理應(yīng)用，這種使用方式制約了UV光清洗效果的充分應(yīng)用，UV光清洗技術(shù)存在以下兩個方面的不足:
[0008]首先這種相對簡單的使用方式無法應(yīng)用到一些特定的應(yīng)用場合，如在鍍膜機(jī)中和分光光度計(jì)中不便于直接使用。在深紫外光學(xué)鍍膜之前，為了清除光學(xué)襯底表面的污染物，需要對其表面進(jìn)行UV光輻照處理。但是在鍍膜機(jī)，由于鍍膜機(jī)理和實(shí)際內(nèi)部結(jié)構(gòu)的制約，無法采用直接輻照式的常用簡單應(yīng)用方式。目前通常采用的方式是在鍍膜機(jī)腔外進(jìn)行UV光的處理，然后將光學(xué)鍍膜襯底放入鍍膜機(jī)中。再將處理好的光學(xué)襯底從UV清洗機(jī)中取出，放入鍍膜機(jī)中，然后鍍膜機(jī)進(jìn)行抽真空等過程中，如果時間較長，處理好的光學(xué)襯底表面又將重新吸收有機(jī)污染物，這將大大降低UV光清洗的效果。在分光光譜的測量過程中，存在類似的問題，即由于光學(xué)薄膜樣品表面在測試過程中又會重新吸附吸收物質(zhì)，導(dǎo)致實(shí)際測試的樣品的吸收不準(zhǔn)確，對于薄膜的制備工藝優(yōu)化和使用均帶來影響。
[0009]其次，目前采用UV燈直接輻照樣品表面的方式，其UV光的利用效率較低，對于樣品尺寸較小的光學(xué)薄膜樣品(典型尺寸為直徑小于5cm)，大量的UV光實(shí)際是沒有被利用。由于樣品表面需要輻照足夠的劑量，采用目前的UV燈直接輻射的方式，需要的輻照時間也相對較長。對于表面粗糙度較大的樣品，為了內(nèi)部的污染物清除，達(dá)到理想的清洗效果，輻照時間需要進(jìn)一步延長。與此同時，當(dāng)被處理元件附近存在不能被UV光輻照的其它元件時，目前的UV燈直接輻射的方式將收到制約。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明的主要目的在于，針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種UV光的應(yīng)用方法及UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，以突破常規(guī)UV燈光清洗需近距離輻照樣品表面、所形成的對UV光存在應(yīng)用場合和幾何空間的制約，并提高UV光輻照的效率。
[0011 ]為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案。
[0012]本發(fā)明提供一種UV光的應(yīng)用方法，其包括步驟:
[0013]a、配置UV光發(fā)生裝置，通過UV燈管產(chǎn)生UV光；
[0014]b、收集UV光，利用凹面反射鏡收集UV光；
[0015]c、聚焦UV光，利用凸透鏡或鏡組將上述UV光聚焦成光束；
[0016]d、傳輸U(kuò)V光束，利用紫外光纖傳輸U(kuò)V光束到應(yīng)用場所；
[0017]e、擴(kuò)束，利用凸透鏡將紫外光纖尾纖的出射光轉(zhuǎn)換為平行光束；
[0018]f、導(dǎo)光，將上述平行光束導(dǎo)出，射入到待處理產(chǎn)品表面。
[0019]優(yōu)選地，所述UV光的光譜包含185nm和254nm波長的光。
[0020]優(yōu)選地，利用所述凸透鏡將所述UV光束擴(kuò)束成直徑20-50mm的平行光束。
[0021 ]優(yōu)選地，所述凹面反射鏡為鏡面鋁制成的球形或橢球形弧面。
[0022]本發(fā)明還提供一種UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，包括UV光發(fā)生裝置，所述UV光發(fā)生裝置包括UV燈管，還包括收集裝置、光纖準(zhǔn)直鏡、紫外光纖和擴(kuò)束鏡，所述收集裝置包括凹面反射鏡和與凹面反射鏡連接的遮光圓筒，所述UV燈管固定于所述凹面反射鏡的內(nèi)部，且垂直于凹面反射鏡的軸心放置，UV光經(jīng)所述凹面反射鏡反射到遮光圓筒內(nèi)，并由一凸透鏡收集匯聚，聚集后的UV光投射到所述光纖準(zhǔn)直鏡，以將UV光耦合到所述紫外光纖內(nèi)；所述紫外光纖的尾纖出光口位于所述擴(kuò)束鏡的焦點(diǎn)，所述擴(kuò)束鏡將從紫外光纖射出的UV光束轉(zhuǎn)換為平行光束。
[0023]上述應(yīng)用裝置中，所述UV光發(fā)生裝置還包括控制電路，所述控制電路包括電源、變壓器、數(shù)字電路板、第一開關(guān)和第二開關(guān)，所述UV燈管通過所述變壓器和第一開關(guān)與所述電源連接，適于控制所述UV燈管的開關(guān)，并且所述UV燈管還通過第二開關(guān)與所述數(shù)字電路板連接，用以控制所述UV燈管的輻照時間。
[0024]上述應(yīng)用裝置中，所述凹面反射鏡為球面形，所述UV燈管到所述凹面反射鏡的水平距離為所述凹面反射鏡的半徑的一半。
[0025]上述應(yīng)用裝置中，所述擴(kuò)束鏡固定于一圓筒內(nèi)，所述圓筒的一端安裝有石英窗片，所述平行光束經(jīng)所述石英窗片射出。
[0026]本發(fā)明通過將UV光進(jìn)行聚集后，經(jīng)由紫外光纖傳輸，之后再進(jìn)行擴(kuò)束的方法，一方面可以突破常規(guī)UV光清洗需近距離輻照樣品表面所形成的對UV燈光應(yīng)用場合和幾何空間的制約，使得UV光清洗可以方便地直接應(yīng)用于鍍膜機(jī)和分光光度計(jì)等設(shè)備，大大拓展了UV光清洗的應(yīng)用范圍；另外一方面可以提高UV光的利用效率，提高樣品表面的輻照光能量密度，進(jìn)而提高樣品表面的清潔效果、縮短所需的輻照時間。
【附圖說明】
[0027]圖1是本發(fā)明實(shí)施例中UV光的應(yīng)用方法的流程示意圖；
[0028]圖2是本發(fā)明實(shí)施例中UV光薄膜處理應(yīng)用裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖3是本發(fā)明實(shí)施例中UV光薄膜處理應(yīng)用裝置的光路效果圖；
[0030]圖4是現(xiàn)有技術(shù)中采用的原始光輻照應(yīng)用裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031 ]本發(fā)明目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。
【具體實(shí)施方式】
[0032]以下將結(jié)合附圖及具體實(shí)施例詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本發(fā)明的發(fā)明實(shí)質(zhì)。
[0033]實(shí)施例一:
[0034]參照圖1所示，本實(shí)施例提供一種UV光的應(yīng)用方法，包括以下步驟:
[0035]SI:配置UV光發(fā)生裝置，通過UV燈管產(chǎn)生UV光；
[0036]S2:收集UV光，利用凹面反射鏡收集UV光；
[0037]S3:聚焦UV光，利用凸透鏡或鏡組將上述UV光聚焦成光束；
[0038]S4:傳輸U(kuò)V光束，利用紫外光纖傳輸U(kuò)V光束到應(yīng)用場所；
[0039]S5:擴(kuò)束，利用凸透鏡將紫外光纖尾纖的出射光轉(zhuǎn)換為平行光束；
[0040]S6:導(dǎo)光，將上述平行光束導(dǎo)出，射入到需要處理的產(chǎn)品表面。
[0041 ]本實(shí)施例采用的UV光的光譜中主要包含185nm和254nm波長的紫外光。也可以根據(jù)實(shí)際需要選定合適的波長。
[0042]UV燈管采用排管雙波長高壓汞燈，可以發(fā)出上述185nm和254nm兩種波長的紫外光。
[0043]在步驟S2中，所用到的凹面反射鏡采用鏡面鋁制成，并且整體形狀為球面形或橢球面形，并且將凹面反射鏡的內(nèi)壁拋光后，鍍上185nm和254nm雙波段的高反射膜，以充分反射該波長的紫外光。
[0044]本實(shí)施例中所有凸透鏡的表面以及紫外傳輸光纖的入射和出射端面均鍍有寬帶紫外增透膜，以提高紫外光的透過率。
[0045]最后，利用凸透鏡將UV光束擴(kuò)束成直徑為20-50_的平行光束，以此光束照射到需要清洗的產(chǎn)品表面，可以在合理的清洗時間內(nèi)達(dá)到較好的清洗效果。
[0046]本實(shí)施例通過先將UV燈光進(jìn)行聚焦，再經(jīng)由光纖傳輸，最后再對UV光線進(jìn)行擴(kuò)束的方法，可以使UV光的生產(chǎn)和應(yīng)用處于不同的場所，從而克服了空間的限制，擴(kuò)展了應(yīng)用場合，而且利用該擴(kuò)束后的UV光束進(jìn)行清洗時，清洗效果更佳。
[0047]實(shí)施例二:
[0048]參照圖2和圖3所示，本實(shí)施例提供一種UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，其包括UV光發(fā)生裝置10，UV光發(fā)生裝置10又包括UV燈管11，還包括收集裝置102、光纖準(zhǔn)直鏡103、紫外光纖104和擴(kuò)束鏡105等部件，其中，收集裝置102包括凹面反射鏡1021和與凹面反射鏡1021連接的遮光圓筒1022。群燈管101固定于凹面反射鏡1021的內(nèi)部，并且垂直于凹面反射鏡1021的軸心放置，UV光被該凹面反射鏡1021反射到遮光圓筒1022內(nèi)，并被一凸透鏡1023收集匯聚。該凸透鏡1023后方設(shè)有一光纖準(zhǔn)直鏡103，聚焦后的UV光投射到光纖準(zhǔn)直鏡103上，由該光纖準(zhǔn)直鏡103將UV光耦合到紫外光纖104內(nèi)，然后，UV光在紫外光纖104內(nèi)傳輸，并從尾纖的出光口射出。本實(shí)施例中，該出光口處恰位于擴(kuò)束鏡105的焦點(diǎn)上，UV光從該處投射到擴(kuò)束鏡105上后，經(jīng)折射后變成平行光束，該平行光束可以直接應(yīng)用于清洗產(chǎn)品表面。
[0049 ] 具體地，上述UV光發(fā)生裝置1還包括控制電路100，該控制電路100包括電源AC、變壓器11、電容12、數(shù)字電路板13、第一開關(guān)14和第二開關(guān)15，UV燈管101通過變壓器11和第一開關(guān)14與電源AC連接，并能過第二開關(guān)15與數(shù)字電路板13連接。第一開關(guān)14能夠控制UV燈管1I的開關(guān)，第二開關(guān)15能夠通過數(shù)字電路板13控制UV燈管1I的輻照時間。
[0050]上述凹面反射鏡1021為球面形，UV燈管101到該凹面反射鏡1021的水平距離為該球面的半徑的一半，從而可以使UV燈管101的紫外光被反射后基本平行地投射到遮光圓筒1022內(nèi)的凸透鏡1023上，再由該凸透鏡1023聚焦匯集。凹面反射鏡1021的背面一側(cè)利用焊接螺紋與遮光圓筒1022進(jìn)行接合和固定，使遮光圓筒1022內(nèi)部不會發(fā)生漏光。
[0051 ]遮光圓筒1022固定在一個底座1024上，底座1024的尺寸和重量可以根據(jù)整個收集裝置102的實(shí)際重量進(jìn)行選擇。
[0052]上述遮光圓筒1022的長度優(yōu)選為300-400mm，還可以根據(jù)凸透鏡1023的焦距進(jìn)行適當(dāng)變化。
[0053]此外，本實(shí)施例的擴(kuò)束鏡105固定于一圓筒1051內(nèi)，該圓筒1051的直徑與擴(kuò)束鏡105的直徑相近，在圓筒1051的一后端安裝有一石英窗片1052，上述平行光束經(jīng)該石英窗片1052射出后，可直接照射到待清洗產(chǎn)品的表面。
[0054]本實(shí)施例的所有透鏡均采用紫外熔石英材料制成，并且雙面鍍寬帶增透膜，紫外傳輸光纖的入射和出射端面，光纖準(zhǔn)直鏡均鍍寬帶增透膜，以增強(qiáng)紫外光透射率，減少光損耗。這樣，可以使185 — 270nm波段之間的整體光譜透過率能夠在80 %以上。
[0055]上述凸透鏡1023也可以采用6塊透鏡組成的透鏡組代替，這可以有效地將185 —270nm波段內(nèi)的紫外光全部聚焦并耦合到紫外光纖104內(nèi)傳輸，增加光線的利用率。
[0056]綜上所述，本發(fā)明通過將UV光進(jìn)行聚集后，經(jīng)由紫外光纖傳輸，之后再進(jìn)行擴(kuò)束的方法，一方面可以突破常規(guī)UV光清洗需近距離輻照樣品表面所形成的對UV燈光應(yīng)用場合和幾何空間的制約，使得UV光清洗可以方便地直接應(yīng)用于鍍膜機(jī)和分光光度計(jì)等設(shè)備，大大拓展了UV光清洗的應(yīng)用范圍；另外一方面可以提高UV光的利用效率，提高樣品表面的輻照光能量密度，進(jìn)而提高樣品表面的清潔效果、縮短所需的輻照時間。
[0057]以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本發(fā)明的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種UV光的應(yīng)用方法，其特征在于，包括步驟: a、配置UV光發(fā)生裝置，通過UV燈管產(chǎn)生UV光； b、收集UV光，利用凹面反射鏡收集UV光； c、聚焦UV光，利用凸透鏡或鏡組將上述UV光聚焦成光束； d、傳輸U(kuò)V光束，利用紫外光纖傳輸U(kuò)V光束到應(yīng)用場所； e、擴(kuò)束，利用凸透鏡將紫外光纖尾纖的出射光轉(zhuǎn)換為平行光束； f、導(dǎo)光，將上述平行光束導(dǎo)出，射入到待處理產(chǎn)品表面。2.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用方法，其特征在于，所述UV光的光譜包含185nm和254nm波長的光。3.如權(quán)利要求2所述的應(yīng)用方法，其特征在于，利用所述凸透鏡將所述UV光束擴(kuò)束成直徑20-50mm的平行光束。4.如權(quán)利要求1所述的應(yīng)用方法，其特征在于，所述凹面反射鏡為鏡面鋁制成的球形或橢球形弧面。5.一種UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，包括UV光發(fā)生裝置，所述UV光發(fā)生裝置包括UV燈管，其特征在于:還包括收集裝置、光纖準(zhǔn)直鏡、紫外光纖和擴(kuò)束鏡，所述收集裝置包括凹面反射鏡和與凹面反射鏡連接的遮光圓筒，所述UV燈管固定于所述凹面反射鏡的內(nèi)部，且垂直于凹面反射鏡的軸心放置，UV光經(jīng)所述凹面反射鏡反射到遮光圓筒內(nèi)，并由凸透鏡收集匯聚，聚集后的UV光投射到所述光纖準(zhǔn)直鏡，以將UV光耦合到所述紫外光纖內(nèi)；所述紫外光纖的尾纖出光口位于所述擴(kuò)束鏡的焦點(diǎn)，所述擴(kuò)束鏡將從紫外光纖射出的UV光束轉(zhuǎn)換為平行光束。6.如權(quán)利要求5所述的UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，其特征在于:所述UV光發(fā)生裝置還包括控制電路，所述控制電路包括電源、變壓器、數(shù)字電路板、第一開關(guān)和第二開關(guān)，所述UV燈管通過所述變壓器和第一開關(guān)與所述電源連接，適于控制所述UV燈管的開關(guān)，并且所述UV燈管還通過第二開關(guān)與所述數(shù)字電路板連接，用以控制所述UV燈管的輻照時間。7.如權(quán)利要求5所述的UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，其特征在于:所述凹面反射鏡為球面形，所述UV燈管到所述凹面反射鏡的水平距離為所述凹面反射鏡的半徑的一半。8.如權(quán)利要求5所述的UV光薄膜處理應(yīng)用裝置，其特征在于:所述擴(kuò)束鏡固定于一圓筒內(nèi)，所述圓筒的一端安裝有石英窗片，所述平行光束經(jīng)所述石英窗片射出。
【文檔編號】B08B7/00GK105855243SQ201610205481
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年4月1日
【發(fā)明人】鄧文淵, 金春水, 靳京城, 李春
【申請人】中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所