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      表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件的制作方法

      文檔序號(hào):5024399閱讀:153來源:國知局
      專利名稱:表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型屬于化學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件,特 別是與一種抗腐蝕、穩(wěn)定性強(qiáng)的表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件有關(guān)。
      技術(shù)背景目前,工業(yè)界所用的結(jié)構(gòu)化填料式的材質(zhì)制造可區(qū)分為金屬板 片、工程塑膠、金屬網(wǎng)、陶瓷/純碳等,但上述材質(zhì)的結(jié)構(gòu)化填料存 在下述缺點(diǎn)1、 金屬板片:金屬腐蝕與金屬溶出問題,金屬外層電子層對(duì)化學(xué)品有催化作用,流體與大面積金屬接觸進(jìn)行質(zhì)傳時(shí),造成產(chǎn)品顏色問題, 其不純物增多,無法由蒸餾技術(shù)解決。2、 工程塑膠有操作溫度的限制, 一般在100度以下。3、 金屬網(wǎng)缺點(diǎn)如金屬板片,特別是此類型的結(jié)構(gòu)化填料有更大的 接觸面積,更會(huì)造成金屬腐蝕與金屬溶出問題,,以及金屬外層電子 層對(duì)化學(xué)品的催化現(xiàn)象,造成產(chǎn)品顏色問題。4、 陶瓷/純碳易脆,投資費(fèi)用較金屬類型為高,目前較常使用于小 型蒸餾設(shè)備。發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型目的在于提供了一種抗腐蝕、穩(wěn)定性強(qiáng)的表面涂布式 蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件。
      為達(dá)成上述目的,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案-表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件,包括結(jié)構(gòu)化填料,在所述的結(jié)構(gòu) 化填料的金屬板片或金屬網(wǎng)上均勻涂附一層奈米涂層。采用上述技術(shù)方案,將特殊的奈米涂層均勻的涂布于金屬片或金屬網(wǎng)上,厚度可為數(shù)微米至150微米或更厚,其厚度依操作流體腐蝕 性決定,來達(dá)到氣液質(zhì)傳時(shí)隔離金屬接觸的目的,其抗腐蝕、穩(wěn)定性 強(qiáng)更強(qiáng)。

      以下用附圖對(duì)本實(shí)用新型詳細(xì)說明圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖一;圖2為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖二。
      具體實(shí)施方式
      以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型詳述如圖1、圖2所示,表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件,包括結(jié)構(gòu)化 填料,在所述的結(jié)構(gòu)化填料的金屬板片1或金屬網(wǎng)2上均勻涂附一層 奈米涂層3。本實(shí)用新型綜合了金屬板與陶瓷/純碳的優(yōu)點(diǎn),尤其使結(jié)構(gòu)化填料式在技術(shù)運(yùn)用上更加具有彈性,并具有以下優(yōu)點(diǎn)1、 更佳的抗腐蝕力,避免因使用金屬材質(zhì)造成腐蝕與蒸餾物溶解 之問題。2、 其提供了更穩(wěn)定的質(zhì)傳介面環(huán)境,隔離金屬表面與質(zhì)傳物質(zhì),
      避免產(chǎn)生金屬催化現(xiàn)象,可有效解決物質(zhì)因蒸餾程序產(chǎn)生顏色的問 題,亦使高效率的金屬網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)化填充料在工業(yè)上有更寬廣的運(yùn)用空 間,且在工廠新設(shè)或去瓶頸工程的經(jīng)濟(jì)評(píng)估上有明顯的投資價(jià)值,因 可不需使用特殊材質(zhì)的金屬而達(dá)到所需目的。3、 材質(zhì)熱穩(wěn)定可達(dá)300以上。4、 擁有更低的磨擦阻抗,有利于熱敏感物質(zhì)的真空蒸餾更低的AP。5、 材質(zhì)有良好的碳層附著力與彈性。采用上述技術(shù)方案,將特殊的奈米涂層均勻的涂布于金屬片或金 屬網(wǎng)上,厚度可為數(shù)微米至150微米或更厚,其厚度依操作流體腐蝕 性決定,來達(dá)到氣液質(zhì)傳時(shí)隔離金屬接觸的目的,其抗腐蝕、穩(wěn)定性 強(qiáng)更強(qiáng)。
      權(quán)利要求1、表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件,包括結(jié)構(gòu)化填料,其特征在于在所述的結(jié)構(gòu)化填料的金屬板片或金屬網(wǎng)上均勻涂附一層奈米涂層。
      專利摘要表面涂布式蒸餾塔內(nèi)質(zhì)傳元件,包括結(jié)構(gòu)化填料,在所述的結(jié)構(gòu)化填料的金屬板片或金屬網(wǎng)上均勻涂附一層納米涂層,采用上述技術(shù)方案,將特殊的納米涂層均勻的涂布于金屬片或金屬網(wǎng)上,厚度可為數(shù)微米至150微米或更厚,其厚度依操作流體腐蝕性決定,來達(dá)到氣液質(zhì)傳時(shí)隔離金屬接觸的目的,其抗腐蝕、穩(wěn)定性更強(qiáng)。
      文檔編號(hào)B01J19/32GK201040243SQ20072000672
      公開日2008年3月26日 申請(qǐng)日期2007年4月4日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月4日
      發(fā)明者許同慶 申請(qǐng)人:許同慶
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