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      一種附加吸附單元的低溫等離子凈化裝置的制作方法

      文檔序號:12758636閱讀:496來源:國知局

      本實(shí)用新型涉及一種附加吸附單元的低溫等離子凈化裝置。



      背景技術(shù):

      低溫等離子體技術(shù)采用了介質(zhì)阻擋花冠放電技術(shù)和大流量電頻高壓電暈放電技術(shù),大大提高了正離子的數(shù)量,顯著提高了其氧化能力。在外加電場的作用下,介質(zhì)放電可產(chǎn)生大量的高能電子,這些電子轟擊污染物分子,使其電離、解離和激發(fā),然后通過一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹唵涡》肿影踩镔|(zhì),或使有毒有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無毒無害或低毒低害的物質(zhì),從而使污染物得以降解去除。

      雖然低溫等離子體技術(shù)在除臭應(yīng)用上可達(dá)到優(yōu)良的效果,但在低濃度涂裝VOCs廢氣中的處理效果仍不理想,處理效率只有70%左右。主要原因是廢氣分子或活性物種在等離子中的停留時(shí)間較短,放電能量的有效利用率較低。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種對低濃度涂裝VOCs廢氣處理效果的附加了吸附單元的低溫等離子凈化裝置。

      本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:一種附加吸附單元的低溫等離子凈化裝置,包括殼體,所述殼體的兩端分別設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口,殼體內(nèi)沿進(jìn)氣口往出氣口方向上依次設(shè)有擾流風(fēng)扇、初次過濾器、干式過濾器和低溫等離子產(chǎn)生裝置,所述擾流風(fēng)扇包括風(fēng)扇支架和固定于所述風(fēng)扇支架上的風(fēng)扇主體,所述風(fēng)扇支架為錐形框架并固定于所述進(jìn)氣口的內(nèi)側(cè),所述初次過濾器和干式過濾器的側(cè)邊與所述殼體內(nèi)壁之間設(shè)有密封圈,所述初次過濾器和干式過濾器之間還設(shè)有多片擾流板,多片所述擾流板上密布錐形的導(dǎo)流圈,各相互臨近的擾流板上的導(dǎo)流圈相間隔反向設(shè)置,所述低溫等離子產(chǎn)生裝置包括固定架、固定于固定架上筒狀陰極以及穿插在陰極內(nèi)的陽極組成,所述陰極內(nèi)還填充有多孔吸附層。

      進(jìn)一步地,所述殼體為筒狀,所述進(jìn)氣口和所述出氣口都為錐形。

      優(yōu)選地,所述擾流板有兩片。

      具體地,所述多孔吸附層由γ-Al2O3顆粒、TiO2顆粒、分子篩中的一種或多種組成。

      本實(shí)用新型的有益效果是:本實(shí)用新型設(shè)計(jì)了初次過濾器、干式過濾器和低溫等離子產(chǎn)生裝置三重過濾裝置,初次過濾器、干式過濾器之前的廢氣都經(jīng)擾流風(fēng)扇及擾流板擾流,充分保證廢氣與過濾裝置的接觸;廢氣經(jīng)過低溫等離子產(chǎn)生裝置時(shí),多孔吸附層有效延長了VOCs廢氣分子或活性物種在等離子反應(yīng)器中的停留時(shí)間,使反應(yīng)物種在反應(yīng)器中充分反應(yīng),大大提高了放電能量的利用率,從而提高廢氣的降解效率;本實(shí)用新型非常適用于低濃度涂裝VOCs廢氣處理,處理效率可達(dá)90%以上。

      附圖說明

      圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

      具體實(shí)施方式

      下面通過實(shí)施例,并結(jié)合附圖,對本實(shí)用新型的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明。

      如圖1所示,一種附加吸附單元的低溫等離子凈化裝置,包括殼體1,所述殼體1的兩端分別設(shè)有進(jìn)氣口2和出氣口3,殼體1內(nèi)沿進(jìn)氣口2往出氣口3方向上依次設(shè)有擾流風(fēng)扇、初次過濾器4、干式過濾器5和低溫等離子產(chǎn)生裝置,所述擾流風(fēng)扇包括風(fēng)扇支架6和固定于所述風(fēng)扇支架6上的風(fēng)扇主體7,所述風(fēng)扇支架6為錐形框架并固定于所述進(jìn)氣口2的內(nèi)側(cè),所述初次過濾器4和干式過濾器5的側(cè)邊與所述殼體1內(nèi)壁之間設(shè)有密封圈8,所述初次過濾器4和干式過濾器5之間還設(shè)有多片擾流板9,多片所述擾流板9上密布錐形的導(dǎo)流圈10,各相互臨近的擾流板9上的導(dǎo)流圈10相間隔反向設(shè)置,所述低溫等離子產(chǎn)生裝置包括固定架11、固定于固定架11上筒狀陰極12以及穿插在陰極12內(nèi)的陽極13組成,所述陰極12內(nèi)還填充有多孔吸附層14。

      進(jìn)一步地,所述殼體1為筒狀,所述進(jìn)氣口2和所述出氣口3都為錐形。

      優(yōu)選地,所述擾流板9有兩片。

      具體地,所述多孔吸附層14由γ-Al2O3顆粒、TiO2顆粒、分子篩中的一種或多種組成。

      以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本實(shí)用新型,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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