本發(fā)明涉及打蠟設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備。

背景技術(shù)：

瓷磚是日常裝修過(guò)程中常用的材料，瓷磚能使整個(gè)裝修更為光亮整潔并且便于清洗，瓷磚使用過(guò)程中人們常常會(huì)對(duì)瓷磚表面進(jìn)行打蠟，瓷磚打蠟后形成的薄膜可以起到防潮、防塵的作用，同時(shí)可以增強(qiáng)瓷磚的美觀性。另外還有一種保護(hù)型的臘，可以有效防止瓷磚使用或者運(yùn)輸過(guò)程中表面被損傷，影響瓷磚的美觀，現(xiàn)有的在瓷磚上打蠟主要是依靠人工手動(dòng)完成的，存在打蠟不均勻的缺點(diǎn)，以及打蠟效率低下，尤其在應(yīng)對(duì)大批量的瓷磚在出廠前對(duì)其進(jìn)行打蠟保護(hù)，防止后續(xù)運(yùn)輸過(guò)程中瓷磚表面損傷時(shí)，效率低的缺點(diǎn)更為明顯。

申請(qǐng)?zhí)枮?01610666061.0的一篇中國(guó)發(fā)明專(zhuān)利公開(kāi)了一種馬賽克瓷磚均勻打蠟裝置，該裝置利用利用扇形齒輪的轉(zhuǎn)動(dòng)規(guī)律，使擦塊按規(guī)律移動(dòng)，從而進(jìn)行有規(guī)律地打蠟并且通過(guò)繞線輪在打蠟的同時(shí)帶動(dòng)風(fēng)機(jī)擺動(dòng)對(duì)瓷磚表面的臘進(jìn)行吹干；但是該設(shè)備存在以下問(wèn)題：

1.該設(shè)備需要人工將瓷磚防止到電動(dòng)吸盤(pán)上，完成打蠟后有需要關(guān)閉吸盤(pán)人工地拖住瓷磚將瓷磚拿下來(lái)，耗費(fèi)人力和體力，不能實(shí)現(xiàn)瓷磚生產(chǎn)以及打蠟的連續(xù)性，并且瓷磚需與擦塊位置對(duì)應(yīng)，人工放置的時(shí)候容易出現(xiàn)位置不準(zhǔn)確導(dǎo)致打蠟時(shí)瓷磚表面不能完全覆蓋。

2.該設(shè)備打蠟效率低，擦塊上的臘在用完后需停機(jī)，人工往擦塊上加蠟后才能繼續(xù)工作，并且瓷磚在下擦塊在上容易產(chǎn)生蠟滴落到瓷磚上的情況，導(dǎo)致瓷磚表面打蠟不均勻。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足之處，克服了瓷磚打蠟不能實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化連續(xù)性，打蠟效率低耗費(fèi)人力以及臘容易低落到瓷磚上，打蠟不均勻的問(wèn)題。

一種瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備，包括夾持定位部分，所述夾持定位部分包括用于對(duì)待翻轉(zhuǎn)打蠟的瓷磚進(jìn)行定位支撐的支撐機(jī)構(gòu)以及用于對(duì)所述支撐機(jī)構(gòu)內(nèi)的瓷磚進(jìn)行夾持的夾緊機(jī)構(gòu)；

滑動(dòng)噴蠟部分，所述滑動(dòng)噴蠟部分用于對(duì)夾持定位部分的瓷磚表面進(jìn)行打蠟，該滑動(dòng)噴蠟部分包括噴蠟機(jī)構(gòu)和傳動(dòng)機(jī)構(gòu)；

轉(zhuǎn)動(dòng)部分，所述轉(zhuǎn)動(dòng)部分用于帶動(dòng)所述夾持定位部分和瓷磚一起翻轉(zhuǎn)的同時(shí)通過(guò)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)所述噴蠟機(jī)構(gòu)沿前后方向上移動(dòng)對(duì)翻轉(zhuǎn)過(guò)程中的瓷磚進(jìn)行打蠟，所述轉(zhuǎn)動(dòng)部分包括支撐座、與所述支撐機(jī)構(gòu)固定連接的翻轉(zhuǎn)裝置以及用于帶動(dòng)翻轉(zhuǎn)裝置沿所述支撐座滑動(dòng)并翻轉(zhuǎn)的升降裝置；

所述噴蠟機(jī)構(gòu)包括噴蠟座以及沿噴蠟座長(zhǎng)度方向上陣列設(shè)置的若干噴蠟頭。

作為一種優(yōu)選，所述支撐機(jī)構(gòu)包括框架以及設(shè)置在框架兩側(cè)并沿框架的寬度方向上滑動(dòng)的支撐塊a和支撐塊b；

所述夾緊機(jī)構(gòu)包括動(dòng)力裝置和夾緊塊，所述夾緊塊在動(dòng)力裝置的驅(qū)動(dòng)下沿框架的寬度方向上滑動(dòng)對(duì)瓷磚兩側(cè)進(jìn)行夾緊的同時(shí)帶動(dòng)支撐塊a和支撐塊b同步向框架兩側(cè)滑動(dòng)離開(kāi)瓷磚表面。

作為一種優(yōu)選，所述翻轉(zhuǎn)裝置包括與所述框架固定連接的轉(zhuǎn)動(dòng)桿以及設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)桿兩端部的輥輪；

所述支撐座上設(shè)置有供所述輥輪滑動(dòng)的滑軌，所述滑軌的上方設(shè)置有限制板，所述限制板的兩端分別留有供輥輪離開(kāi)滑軌的出口以及供輥輪進(jìn)入滑軌的入口；所述入口處還設(shè)置有用于限制輥輪從入口處離開(kāi)滑軌的滑動(dòng)限制裝置；所述支撐座的內(nèi)側(cè)面開(kāi)設(shè)有滑道a和滑道b；所述滑軌的中心位置到出口之間設(shè)置有中心位置處高出口處低的斜面；

所述升降裝置包括液壓缸、一端與所述液壓缸的頂桿端部固定連接另一端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿可轉(zhuǎn)動(dòng)連接的傳動(dòng)件。

作為一種優(yōu)選，所述噴蠟座包括儲(chǔ)料主體以及設(shè)置在該儲(chǔ)料主體兩端并沿所述滑道a前后滑動(dòng)的滾動(dòng)裝置a；

所述噴蠟機(jī)構(gòu)還包括用于向儲(chǔ)料主體內(nèi)補(bǔ)料的供料箱以及連接所述供料箱和儲(chǔ)料主體的供料管；

所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括沿所述滑道b前后移動(dòng)的拉動(dòng)件、兩端分別固定在左右支撐座上的固定軸、可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在固定軸上的滑輪a以及繞過(guò)滑輪a且一端與所述噴蠟機(jī)構(gòu)固定連接另一端與所述拉動(dòng)件固定連接的拉繩。

作為一種優(yōu)選，所述框架的上設(shè)置有滑動(dòng)座，所述滑動(dòng)座上開(kāi)設(shè)有滑槽a、滑槽b和滑槽c，所述支撐塊a與所述滑槽a配合滑動(dòng)，所述支撐塊b與所述滑槽b配合滑動(dòng)，所述夾緊塊與所述滑槽c配合滑動(dòng)；

所述滑動(dòng)座上還設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)支撐塊a和支撐塊b復(fù)位的復(fù)位裝置a和復(fù)位裝置b，所述復(fù)位裝置a和復(fù)位裝置b均包括固定座以及一端固定在固定座上另一端與支撐塊a和支撐塊b分別固定連接的彈性件；

所述框架的兩側(cè)還設(shè)置有固定桿，所述動(dòng)力裝置包括固定在固定桿上的底座以及端部與所述夾緊塊接觸式連接的伸縮桿。

作為一種優(yōu)選，所述滑動(dòng)限制裝置包括設(shè)置在限制板端部的滑槽、沿滑槽滑動(dòng)的斜塊以及設(shè)置在滑槽內(nèi)的用于使斜塊復(fù)位的彈簧。

作為一種優(yōu)選，所述框架的前后端設(shè)置有進(jìn)出通道，所述進(jìn)出通道的寬度等于待翻轉(zhuǎn)瓷磚的寬度。

作為一種優(yōu)選，所述夾緊塊通過(guò)滑輪機(jī)構(gòu)與所述支撐塊a和支撐塊b聯(lián)動(dòng)，所述滑輪機(jī)構(gòu)包括可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在固定桿上的滑輪b、繞過(guò)滑輪b且兩端分別與夾緊塊和支撐塊a固定連接的牽拉繩a，滑輪c、以及繞過(guò)滑輪c且兩端分別與夾緊塊和支撐塊b固定連接的牽拉繩b。

作為一種優(yōu)選，所述拉動(dòng)件包括支撐體以及設(shè)置在支撐體兩端并沿所述滑道b滾動(dòng)的滾動(dòng)裝置b，所述框架上還設(shè)置有用于推動(dòng)拉動(dòng)件移動(dòng)的勾塊。

作為一種優(yōu)選，所述噴蠟機(jī)構(gòu)與所述支撐座之間還設(shè)置有用于帶動(dòng)噴蠟機(jī)構(gòu)和拉動(dòng)件復(fù)位的彈性件，所述彈性件一端固定在噴蠟機(jī)構(gòu)的儲(chǔ)料主體固定連接另一端與支撐座的內(nèi)側(cè)面固定連接，所述彈性件沿儲(chǔ)料主體的長(zhǎng)度方向上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有兩個(gè)。

本發(fā)明的有益效果：

(1)本發(fā)明中通過(guò)設(shè)置滑動(dòng)噴蠟部分實(shí)現(xiàn)對(duì)瓷磚表面的快速均勻打蠟，當(dāng)瓷磚在翻轉(zhuǎn)過(guò)程中翻轉(zhuǎn)過(guò)90度后，瓷磚的一端向下移另一端向前滑移時(shí)，該滑動(dòng)噴蠟部分的噴蠟機(jī)構(gòu)在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的帶動(dòng)下朝瓷磚滑移的相反方向移動(dòng)并對(duì)瓷磚成傾斜狀的從一端往另一端噴涂蠟水，當(dāng)瓷磚再次完全放平時(shí)噴蠟機(jī)構(gòu)剛好對(duì)瓷磚的整個(gè)表面完成打蠟，打蠟效率高并且該種打蠟方式瓷磚表面的臘較為均勻，不會(huì)出現(xiàn)蠟水滴落到瓷磚上的情況，多余的臘水會(huì)自行掉落到下方。

(2)本發(fā)明中通過(guò)設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)部分實(shí)現(xiàn)瓷磚的平穩(wěn)翻轉(zhuǎn)，瓷磚在未打蠟前為了防止瓷磚光滑面被損傷，一般傳輸過(guò)程中都是光滑面也就是待打蠟的面朝上，若是打蠟過(guò)程中不對(duì)瓷磚翻轉(zhuǎn)，直接從上往下對(duì)瓷磚面進(jìn)行噴蠟的話(huà)會(huì)導(dǎo)致噴涂不均勻，蠟水滴落在瓷磚表面形成坑坑洼洼的情況，該轉(zhuǎn)動(dòng)部分通過(guò)升降裝置帶動(dòng)翻轉(zhuǎn)裝置使瓷磚平穩(wěn)翻轉(zhuǎn)，滑動(dòng)限制裝置的設(shè)置使得翻轉(zhuǎn)裝置能復(fù)位的同時(shí)又能實(shí)現(xiàn)每次翻轉(zhuǎn)都按同一轉(zhuǎn)動(dòng)方向，升降裝置的液壓缸在翻轉(zhuǎn)過(guò)90度時(shí)自動(dòng)釋放，翻轉(zhuǎn)裝置能帶著瓷磚緩緩勻速低下降傾斜，一方面保證翻轉(zhuǎn)的平穩(wěn)另一方面也保證了噴蠟過(guò)程的均勻性。

(3)本發(fā)明中通過(guò)設(shè)置夾持定位部分實(shí)現(xiàn)了瓷磚在打蠟前的定位以及固定夾緊機(jī)構(gòu)和支撐機(jī)構(gòu)設(shè)置為聯(lián)動(dòng)，使得支撐的時(shí)候夾緊機(jī)構(gòu)的夾緊塊退出不工作，夾緊的時(shí)候支撐機(jī)構(gòu)的支撐塊a和支撐塊b退出不工作，夾緊翻轉(zhuǎn)打蠟的過(guò)程中使得瓷磚的表面完全暴露狀態(tài)，不會(huì)出現(xiàn)由于支撐塊的干涉而導(dǎo)致的邊緣噴涂不到的情況，該夾持定位部分配合轉(zhuǎn)動(dòng)部分使得瓷磚在轉(zhuǎn)動(dòng)的過(guò)程中同樣能被穩(wěn)定地夾持，且其與轉(zhuǎn)動(dòng)部分相互不干涉，使得瓷磚在完成翻面過(guò)程中同步實(shí)現(xiàn)對(duì)其整個(gè)待噴涂表面的全面噴涂，穩(wěn)定性更好，進(jìn)一步確保噴涂質(zhì)量。

(4)本發(fā)明中通過(guò)設(shè)置拉動(dòng)件、滑輪以及連接拉動(dòng)件和噴蠟機(jī)構(gòu)并繞過(guò)滑輪的拉繩使得拉動(dòng)件往一個(gè)方向移動(dòng)時(shí)帶動(dòng)噴蠟機(jī)構(gòu)往相反方向移動(dòng)，并且通過(guò)在框架上設(shè)置勾塊，使得框架翻轉(zhuǎn)過(guò)90度之后其勾塊帶動(dòng)拉動(dòng)件沿相同方向滑動(dòng)，而噴蠟機(jī)構(gòu)往相反方向移動(dòng)，不僅實(shí)現(xiàn)了噴蠟的自動(dòng)化而且也實(shí)現(xiàn)了瓷磚翻轉(zhuǎn)與噴蠟的同步性，保證噴涂的效果好，當(dāng)完成一次噴涂后等到下一次翻轉(zhuǎn)時(shí)勾塊和拉動(dòng)件能自動(dòng)滑離，通過(guò)設(shè)置的彈性件使噴蠟機(jī)構(gòu)和拉動(dòng)件復(fù)位。

綜上所述，該設(shè)備具有噴涂均勻，加工效率高以及自動(dòng)化程度高等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

為了更清楚的說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他附圖。

圖1為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的正視示意圖。

圖3為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的俯視示意圖。

圖4為滑動(dòng)噴蠟部分以及支撐座的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5為滑動(dòng)限制裝置的放大結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備翻轉(zhuǎn)過(guò)程中的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7為復(fù)位裝置a或復(fù)位裝置b的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖8為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備翻轉(zhuǎn)過(guò)程中輥輪將要接觸滑動(dòng)限制裝置時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖9為持定位部分夾持瓷磚時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖10為夾緊塊與瓷磚之間的相對(duì)位置關(guān)系放大示意圖。

圖11為滑輪機(jī)構(gòu)的放大示意圖。

圖12為噴蠟機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖13為拉動(dòng)件的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖14為翻轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖15為支撐座的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地說(shuō)明。

實(shí)施例一

圖1為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的正視示意圖，圖3為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備的俯視示意圖，圖4為滑動(dòng)噴蠟部分以及支撐座的結(jié)構(gòu)示意圖，圖5為滑動(dòng)限制裝置的放大結(jié)構(gòu)示意圖，圖6為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備翻轉(zhuǎn)過(guò)程中的結(jié)構(gòu)示意圖，圖7為復(fù)位裝置a或復(fù)位裝置b的結(jié)構(gòu)示意圖，圖8為瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備翻轉(zhuǎn)過(guò)程中輥輪將要接觸滑動(dòng)限制裝置時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖9為持定位部分夾持瓷磚時(shí)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖10為夾緊塊與瓷磚之間的相對(duì)位置關(guān)系放大示意圖，圖11為滑輪機(jī)構(gòu)的放大示意圖，圖12為噴蠟機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖，圖13為拉動(dòng)件的結(jié)構(gòu)示意圖，圖14為翻轉(zhuǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，圖15為支撐座的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10、圖11、圖12、圖13、圖14以及圖15所示，一種瓷磚翻轉(zhuǎn)自動(dòng)打蠟設(shè)備，包括夾持定位部分1，所述夾持定位部分1包括用于對(duì)待翻轉(zhuǎn)打蠟的瓷磚10進(jìn)行定位支撐的支撐機(jī)構(gòu)11以及用于對(duì)所述支撐機(jī)構(gòu)11內(nèi)的瓷磚10進(jìn)行夾持的夾緊機(jī)構(gòu)12；

滑動(dòng)噴蠟部分2，所述滑動(dòng)噴蠟部分2用于對(duì)夾持定位部分1的瓷磚10表面進(jìn)行打蠟，該滑動(dòng)噴蠟部分2包括噴蠟機(jī)構(gòu)21和傳動(dòng)機(jī)構(gòu)22；

轉(zhuǎn)動(dòng)部分3，所述轉(zhuǎn)動(dòng)部分3用于帶動(dòng)所述夾持定位部分1和瓷磚10一起翻轉(zhuǎn)的同時(shí)通過(guò)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)22帶動(dòng)所述噴蠟機(jī)構(gòu)21沿前后方向上移動(dòng)對(duì)翻轉(zhuǎn)過(guò)程中的瓷磚10進(jìn)行打蠟，所述轉(zhuǎn)動(dòng)部分3包括支撐座31、與所述支撐機(jī)構(gòu)11固定連接的翻轉(zhuǎn)裝置32以及用于帶動(dòng)翻轉(zhuǎn)裝置32沿所述支撐座31滑動(dòng)并翻轉(zhuǎn)的升降裝置33；所述噴蠟機(jī)構(gòu)21包括噴蠟座211以及沿噴蠟座211長(zhǎng)度方向上陣列設(shè)置的若干噴蠟頭212。

通過(guò)設(shè)置滑動(dòng)噴蠟部分2實(shí)現(xiàn)對(duì)瓷磚10表面的快速均勻打蠟，當(dāng)瓷磚10在翻轉(zhuǎn)過(guò)程中翻轉(zhuǎn)過(guò)90度后，瓷磚10的一端向下移另一端向前滑移時(shí)，該滑動(dòng)噴蠟部分2的噴蠟機(jī)構(gòu)21在傳動(dòng)機(jī)構(gòu)22的帶動(dòng)下朝瓷磚10滑移的相反方向移動(dòng)并對(duì)瓷磚10成傾斜狀的從一端往另一端噴涂蠟水，當(dāng)瓷磚10再次完全放平時(shí)噴蠟機(jī)構(gòu)21剛好對(duì)瓷磚10的整個(gè)表面完成打蠟，打蠟效率高并且該種打蠟方式瓷磚10表面的臘較為均勻，不會(huì)出現(xiàn)蠟水滴落到瓷磚10上的情況，多余的臘水會(huì)自行掉落到下方。

進(jìn)一步地，所述支撐機(jī)構(gòu)11包括框架111以及設(shè)置在框架111兩側(cè)并沿框架111的寬度方向上滑動(dòng)的支撐塊a112和支撐塊b113；所述夾緊機(jī)構(gòu)12包括動(dòng)力裝置121和夾緊塊122，所述夾緊塊122在動(dòng)力裝置121的驅(qū)動(dòng)下沿框架111的寬度方向上滑動(dòng)對(duì)瓷磚10兩側(cè)進(jìn)行夾緊的同時(shí)帶動(dòng)支撐塊a112和支撐塊b113同步向框架111兩側(cè)滑動(dòng)離開(kāi)瓷磚10表面。

進(jìn)一步地，所述翻轉(zhuǎn)裝置32包括與所述框架111固定連接的轉(zhuǎn)動(dòng)桿321以及設(shè)置在轉(zhuǎn)動(dòng)桿321兩端部的輥輪322；所述支撐座31上設(shè)置有供所述輥輪322滑動(dòng)的滑軌311，所述滑軌311的上方設(shè)置有限制板312，所述限制板312的兩端分別留有供輥輪322離開(kāi)滑軌311的出口313以及供輥輪322進(jìn)入滑軌311的入口314；所述入口314處還設(shè)置有用于限制輥輪322從入口314處離開(kāi)滑軌311的滑動(dòng)限制裝置315；所述支撐座31的內(nèi)側(cè)面開(kāi)設(shè)有滑道a316和滑道b317；所述滑軌311的中心位置到出口313之間設(shè)置有中心位置處高出口313處低的斜面3111，該斜面3111的設(shè)置使得翻轉(zhuǎn)裝置32轉(zhuǎn)動(dòng)到90度時(shí)液壓缸331釋放時(shí)輥輪322能順著斜面3111滑動(dòng)，使翻轉(zhuǎn)裝置32按指定方向轉(zhuǎn)動(dòng)，完成瓷磚的180度轉(zhuǎn)動(dòng)；所述升降裝置33包括液壓缸331、一端與所述液壓缸331的頂桿3311端部固定連接另一端與所述轉(zhuǎn)動(dòng)桿321可轉(zhuǎn)動(dòng)連接的傳動(dòng)件332。

進(jìn)一步地，所述噴蠟座211包括儲(chǔ)料主體2111以及設(shè)置在該儲(chǔ)料主體2111兩端并沿所述滑道a316前后滑動(dòng)的滾動(dòng)裝置a2112；所述噴蠟機(jī)構(gòu)21還包括用于向儲(chǔ)料主體2111內(nèi)補(bǔ)料的供料箱213以及連接所述供料箱213和儲(chǔ)料主體2111的供料管214；所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)22包括沿所述滑道b317前后移動(dòng)的拉動(dòng)件221、兩端分別固定在左右支撐座31上的固定軸222、可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在固定軸222上的滑輪a223以及繞過(guò)滑輪a223且一端與所述噴蠟機(jī)構(gòu)21固定連接另一端與所述拉動(dòng)件221固定連接的拉繩224。

進(jìn)一步地，所述框架111的上設(shè)置有滑動(dòng)座114，所述滑動(dòng)座114上開(kāi)設(shè)有滑槽a1141、滑槽b1142和滑槽c1143，所述支撐塊a112與所述滑槽a1141配合滑動(dòng)，所述支撐塊b113與所述滑槽b1142配合滑動(dòng)，所述夾緊塊122與所述滑槽c1143配合滑動(dòng)；所述滑動(dòng)座114上還設(shè)置有用于驅(qū)動(dòng)支撐塊a112和支撐塊b113復(fù)位的復(fù)位裝置a115和復(fù)位裝置b116，所述復(fù)位裝置a115和復(fù)位裝置b116均包括固定座1151以及一端固定在固定座1151上另一端與支撐塊a112和支撐塊b113分別固定連接的彈性件1152；所述框架111的兩側(cè)還設(shè)置有固定桿117，所述動(dòng)力裝置121包括固定在固定桿117上的底座1211以及端部與所述夾緊塊122接觸式連接的伸縮桿1212。

通過(guò)設(shè)置夾持定位部分1實(shí)現(xiàn)了瓷磚在打蠟前的定位以及固定，夾緊機(jī)構(gòu)12和支撐機(jī)構(gòu)11設(shè)置為聯(lián)動(dòng)，使得支撐的時(shí)候夾緊機(jī)構(gòu)12的夾緊塊122退出不工作，支撐塊在復(fù)位裝置的作用下頂出工作，夾緊的時(shí)候夾緊塊122頂出夾緊的同時(shí)帶動(dòng)支撐機(jī)構(gòu)11的支撐塊a112和支撐塊b113退出不工作，夾緊翻轉(zhuǎn)打蠟的過(guò)程中使得瓷磚的表面完全暴露狀態(tài)，不會(huì)出現(xiàn)由于支撐塊的干涉而導(dǎo)致的邊緣噴涂不到的情況。

進(jìn)一步地，所述滑動(dòng)限制裝置315包括設(shè)置在限制板312端部的滑槽3151、沿滑槽3151滑動(dòng)的斜塊3152以及設(shè)置在滑槽3151內(nèi)的用于使斜塊3152復(fù)位的彈簧3153。

進(jìn)一步地，所述框架111的前后端設(shè)置有進(jìn)出通道1111，所述進(jìn)出通道1111的寬度等于待翻轉(zhuǎn)瓷磚10的寬度。

通過(guò)設(shè)置轉(zhuǎn)動(dòng)部分3實(shí)現(xiàn)瓷磚的平穩(wěn)翻轉(zhuǎn)，瓷磚在未打蠟前為了防止瓷磚光滑面被損傷，一般傳輸過(guò)程中都是光滑面也就是待打蠟的面朝上，若是打蠟過(guò)程中不對(duì)瓷磚翻轉(zhuǎn)，直接從上往下對(duì)瓷磚面進(jìn)行噴蠟的話(huà)會(huì)導(dǎo)致噴涂不均勻，蠟水滴落在瓷磚表面形成坑坑洼洼的情況，該轉(zhuǎn)動(dòng)部分3通過(guò)升降裝置33帶動(dòng)翻轉(zhuǎn)裝置32使瓷磚平穩(wěn)翻轉(zhuǎn)，滑動(dòng)限制裝置315的設(shè)置使得翻轉(zhuǎn)裝置32能復(fù)位的同時(shí)又能實(shí)現(xiàn)每次翻轉(zhuǎn)都按同一轉(zhuǎn)動(dòng)方向，升降裝置33的液壓缸331在翻轉(zhuǎn)過(guò)90度時(shí)自動(dòng)釋放，翻轉(zhuǎn)裝置32能帶著瓷磚緩緩勻速低下降傾斜，一方面保證翻轉(zhuǎn)的平穩(wěn)另一方面也保證了噴蠟過(guò)程的均勻性。

進(jìn)一步地，所述拉動(dòng)件221包括支撐體2211以及設(shè)置在支撐體2211兩端并沿所述滑道b317滾動(dòng)的滾動(dòng)裝置b2212，所述框架111上還設(shè)置有用于推動(dòng)拉動(dòng)件221移動(dòng)的勾塊118。

進(jìn)一步地，所述噴蠟機(jī)構(gòu)21與所述支撐座31之間還設(shè)置有用于帶動(dòng)噴蠟機(jī)構(gòu)21和拉動(dòng)件221復(fù)位的彈性件5，所述彈性件5一端固定在噴蠟機(jī)構(gòu)21的儲(chǔ)料主體2111固定連接另一端與支撐座31的內(nèi)側(cè)面固定連接，所述彈性件5沿儲(chǔ)料主體2111的長(zhǎng)度方向上對(duì)稱(chēng)設(shè)置有兩個(gè)。

通過(guò)設(shè)置拉動(dòng)件221、滑輪a223以及連接拉動(dòng)件221和噴蠟機(jī)構(gòu)21并繞過(guò)滑輪a223的拉繩224使得拉動(dòng)件221往一個(gè)方向移動(dòng)時(shí)帶動(dòng)噴蠟機(jī)構(gòu)21往相反方向移動(dòng)，并且通過(guò)在框架111上設(shè)置勾塊118，使得框架111翻轉(zhuǎn)過(guò)90度之后其勾塊118帶動(dòng)拉動(dòng)件332沿相同方向滑動(dòng)，而噴蠟機(jī)構(gòu)21往相反方向移動(dòng)，不僅實(shí)現(xiàn)了噴蠟的自動(dòng)化而且也實(shí)現(xiàn)了瓷磚翻轉(zhuǎn)與噴蠟的同步性，保證噴涂的效果好，當(dāng)完成一次噴涂后等到下一次翻轉(zhuǎn)時(shí)勾塊118和拉動(dòng)件221能自動(dòng)滑離，通過(guò)設(shè)置的彈性件5使噴蠟機(jī)構(gòu)21和拉動(dòng)件221復(fù)位。

此外，在所述升降裝置33上還設(shè)置有感應(yīng)發(fā)生器，在所述噴蠟機(jī)構(gòu)21上設(shè)置有信號(hào)接收器，感應(yīng)發(fā)生器與信號(hào)接收器信號(hào)連接，用于控制噴蠟機(jī)構(gòu)21的噴蠟以及停止噴蠟，當(dāng)升降裝置33升降到最高點(diǎn)并開(kāi)始下降時(shí)發(fā)出信號(hào)控制噴蠟機(jī)構(gòu)21工作，當(dāng)升降裝置33下降到最低點(diǎn)時(shí)也就是瓷磚放平時(shí)控制噴蠟機(jī)構(gòu)21停止工作，該種信號(hào)傳輸控制方式作為一種現(xiàn)有技術(shù)在附圖中未做詳細(xì)示出，在此也不做贅述。

實(shí)施例二

如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5、圖6、圖7、圖8、圖9、圖10、圖11、圖12、圖13、圖14以及圖15所示，其中與實(shí)施例一中相同或相應(yīng)的部件采用與實(shí)施例一相應(yīng)的附圖標(biāo)記，為簡(jiǎn)便起見(jiàn)，下文僅描述與實(shí)施例一的區(qū)別點(diǎn)。該實(shí)施例二與實(shí)施例一的不同之處在于：所述夾緊塊122通過(guò)滑輪機(jī)構(gòu)4與所述支撐塊a112和支撐塊b113聯(lián)動(dòng)，所述滑輪機(jī)構(gòu)4包括可轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置在固定桿117上的滑輪b41、繞過(guò)滑輪b41且兩端分別與夾緊塊122和支撐塊a112固定連接的牽拉繩a42，滑輪c43、以及繞過(guò)滑輪c43且兩端分別與夾緊塊122和支撐塊b113固定連接的牽拉繩b44。

通過(guò)滑輪機(jī)構(gòu)4來(lái)實(shí)現(xiàn)夾緊塊122和支撐塊a112和支撐塊b113的聯(lián)動(dòng)，該結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且實(shí)現(xiàn)效果較好，保證夾緊塊122和支撐塊a112和支撐塊b113工作的同步性。

工作時(shí)，瓷磚10經(jīng)進(jìn)出通道1111進(jìn)入到框架111內(nèi)，此時(shí)支撐塊a112和支撐塊b113處于工作狀態(tài)，即支撐塊a112和支撐塊b113分別在復(fù)位裝置a115和復(fù)位裝置b116的作用下伸出框架111的內(nèi)側(cè)邊緣，瓷磚順著支撐塊a112和支撐塊b113之間的空間滑行(當(dāng)支撐塊a112處于下方時(shí)，瓷磚10貼合支撐塊a112的表面滑行且支撐塊a112對(duì)瓷磚10起支撐作用；當(dāng)支撐塊b113處于下方時(shí)，瓷磚10貼合支撐塊b113的表面滑行且支撐塊b113對(duì)瓷磚10起支撐作用)，瓷磚完全進(jìn)入框架111后，處于支撐塊a112和支撐塊b113之間的夾緊塊122在動(dòng)力裝置121的作用下對(duì)瓷磚10的左右邊緣進(jìn)行夾緊，夾緊的同時(shí)通過(guò)滑輪機(jī)構(gòu)4帶動(dòng)支撐塊a112和支撐塊b113向框架111兩側(cè)滑動(dòng)，當(dāng)完成夾緊時(shí)支撐塊a112和支撐塊b113剛好離開(kāi)瓷磚10表面，此時(shí)瓷磚10的表面處于完全暴露狀態(tài)，啟動(dòng)升降裝置33帶動(dòng)翻轉(zhuǎn)裝置32向上運(yùn)動(dòng)，翻轉(zhuǎn)裝置32靠滑動(dòng)限制裝置315一側(cè)的輥輪322受滑動(dòng)限制裝置315的限制不能往上運(yùn)動(dòng)只能順著支撐座31的滑軌311滑動(dòng)，而靠出口313的輥輪322經(jīng)出口313向上轉(zhuǎn)動(dòng)，達(dá)到翻轉(zhuǎn)裝置32帶動(dòng)框架111以及框架111內(nèi)的瓷磚翻轉(zhuǎn)的效果，當(dāng)翻轉(zhuǎn)到90度位置時(shí)，釋放升降裝置33的液壓缸331，由于滑軌311的中心位置到出口313之間設(shè)置有中心位置處高出口處低的斜面3111，使的輥輪322能順著斜面3111下滑，完成瓷磚10的180度翻轉(zhuǎn)，在從90度翻轉(zhuǎn)到180度之間時(shí)，框架111上的勾塊118勾住拉動(dòng)件221向瓷磚10進(jìn)入的方向滑動(dòng)，與此同時(shí)拉動(dòng)件221通過(guò)拉繩224以及滑輪a223帶動(dòng)噴蠟機(jī)構(gòu)21往相反的方向滑動(dòng)并對(duì)瓷磚10的表面進(jìn)行噴蠟，整個(gè)噴蠟的過(guò)程中瓷磚10處于傾斜的狀態(tài)，噴涂均勻且不會(huì)出現(xiàn)蠟水滴落堆積到瓷磚10上的情況，當(dāng)框架111放平時(shí)噴蠟機(jī)構(gòu)21剛好從瓷磚10的一端移動(dòng)相對(duì)移動(dòng)到瓷磚10的另一端完成整個(gè)面的噴涂，效率高，下一個(gè)瓷磚10進(jìn)入時(shí)自行將前面噴涂好的瓷磚10頂出，框架111再次翻轉(zhuǎn)時(shí)，勾塊118與拉動(dòng)件221自動(dòng)脫離，拉動(dòng)件221和噴蠟機(jī)構(gòu)21在彈性件5的作用下自動(dòng)復(fù)位。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ)“前后”、“左右”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的設(shè)備或部件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)發(fā)明的限制。

當(dāng)然在本技術(shù)方案中，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解的是，術(shù)語(yǔ)“一”應(yīng)理解為“至少一個(gè)”或“一個(gè)或多個(gè)”，即在一個(gè)實(shí)施例中，一個(gè)元件的數(shù)量可以為一個(gè)，而在另外的實(shí)施例中，該元件的數(shù)量可以為多個(gè)，術(shù)語(yǔ)“一”不能理解為對(duì)數(shù)量的限制。

以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明的技術(shù)提示下可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求書(shū)的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。