專利名稱：從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置。
本發(fā)明可用于化學(xué)、冶金、機(jī)械制造、熱力工程、生物工業(yè)以及污水和氣體的凈化方面，特別適用于精細(xì)純化例如冷凝水、循環(huán)水、油、氨、堿、蒸氣、氣體和其他流體介質(zhì)，以除去其中的設(shè)備腐蝕產(chǎn)物、機(jī)器和機(jī)械零件磨損產(chǎn)物、分散的氧化皮等。
在SU，A，1029990中描述了一種從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置。該裝置包括一個(gè)圓柱形的工作室，該室的外部設(shè)置有一個(gè)磁化系統(tǒng)，而其內(nèi)部裝有做成多孔板形式的鐵磁性填充物。工作室具有需凈化流體介質(zhì)的供料管和已凈化流體介質(zhì)的出口管。
在已知的裝置中，多孔板是沿工作室的高度等距分布的。同時(shí)，在多孔板之間形成可讓被凈化的流體介質(zhì)通過的縫隙。在形成不均勻磁場(chǎng)區(qū)的板片上的孔邊緣處產(chǎn)生被凈化介質(zhì)雜質(zhì)的沉淀。但是，不均勻磁場(chǎng)對(duì)這些區(qū)域的雜質(zhì)顆粒的磁力作用并不強(qiáng)。此外，所有不均勻磁場(chǎng)區(qū)在整個(gè)工作室的體積內(nèi)具有大致相同的磁場(chǎng)不均勻性，這樣不能有效地凈化含有不同分散程度、不同磁性的雜質(zhì)的流體介質(zhì)，為了除去這些雜質(zhì)，在工作室的整個(gè)體積內(nèi)必須有不同的磁場(chǎng)不均勻性。
此外，在已知的裝置中，板片與板片之間是剛性連接并且不可能相互移動(dòng)和分開，這使得不能保證有效地再生并相應(yīng)地不能保證良好地洗凈板片以除去它所滯留的雜質(zhì)。
SU，A，1152618還敘述了一種從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置，該裝置包括一個(gè)工作室，在室中設(shè)置有以多塊帶有多個(gè)穿孔的板片形式的鐵磁性填充物，這些穿孔具有花紋狀凸出物，該凸出物的取向與多孔板的平面成一夾角，該裝置還包括用來與鐵磁性填料互相作用并使其磁化的磁化系統(tǒng)，用來把被凈化的流體介質(zhì)輸入工作室的入口管和用于接收通過填充物后已凈化的流體介質(zhì)的出口管。
在已知的裝置中，具有相同尺寸孔隙的板片包含有花紋的凸出部分，該凸出部分形成多個(gè)不均勻磁場(chǎng)區(qū)，在這些區(qū)中的不均勻磁場(chǎng)值通常大于在無凸出部分的多孔板片中的值。該裝置可在凈化含有粒度大小和磁性皆相同的雜質(zhì)顆粒的流體介質(zhì)時(shí)有效地工作。如凈化介質(zhì)形式有變化，即該介質(zhì)含有在粒度大小和性能方面不同的雜質(zhì)，這時(shí)就需要改變板片填充物，該填充物具有不同的尺寸和孔隙分布率以及花紋凸出部分。被凈化介質(zhì)的粘度對(duì)凈化效率和填充物的選擇也有重要的影響。具有相同尺寸的孔隙和凸出物以及相同分布密度的板片的存在導(dǎo)致在凈化流體介質(zhì)時(shí)，在該裝置中沿工作室高度的各部分體積內(nèi)的填充物在凈化工序中工作不一致。填充物體積的下部(接近出口管)很快被雜質(zhì)沾污，其中部的沾污較慢，而上部(近進(jìn)口管處)則更慢。此時(shí)，在再生工序的兩次連續(xù)過程之間的時(shí)間將取決于下層填充物的工作，即過濾循環(huán)將縮短。
同時(shí)，在多數(shù)場(chǎng)合，實(shí)際被凈化的流體介質(zhì)含有其尺寸變化范圍為0.01-10微米及更大的雜質(zhì)顆粒，而對(duì)例如冶金循環(huán)水，熱電站冷凝水等流體介質(zhì)所需達(dá)到的凈化水平必須是殘留雜質(zhì)含量為10-4-10-9(重量)。此外，雜質(zhì)具有不同的磁性從順磁至鐵磁，而被凈化的流體介質(zhì)從氣體至冷凝水、潤(rùn)滑油等多種多樣的變化，這些介質(zhì)具有不同的粘度。現(xiàn)有的裝置由于結(jié)構(gòu)上的特點(diǎn)而不能保證對(duì)含有不同尺寸、不同磁性雜質(zhì)的介質(zhì)達(dá)到所需的凈化水平，也不能保證整個(gè)填充物達(dá)到同樣有效的凈化效率。
本發(fā)明的任務(wù)是研制從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置，該裝置具有的鐵磁性填充物結(jié)構(gòu)能保證在降低電耗的情況下對(duì)不同粘度和含不同大小及不同性能的鐵磁性顆粒的流體介質(zhì)進(jìn)行有效的凈化。
本發(fā)明的實(shí)質(zhì)在于，在從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置中，包括有一個(gè)工作室，在該工作室中設(shè)置有以多塊帶多個(gè)穿孔的板片形式的鐵磁懷填充物，該板片上的穿孔的邊緣具有花紋狀凸出部分。凸出部分的取向與板平面成一夾角，分離裝置還包括一個(gè)用來與鐵磁性填充物相互作用并使其磁化的磁化系統(tǒng)，一根可將欲凈化的流體介質(zhì)輸入工作室的進(jìn)口管和一根可接收通過填充物后已凈化過的流體介質(zhì)的出口管，按照本發(fā)明，板片上孔隙的分布密度、其尺寸、外形，凸出部分的尺寸和形狀，板片之間的間隙，皆根據(jù)需凈化的流體介質(zhì)中雜質(zhì)顆粒的磁性、其尺寸(分散度)、流體介質(zhì)的濃度和粘度，按工作室的體積可變地進(jìn)行選擇。
為了保證將板片之間的間隙調(diào)節(jié)到所需的大小，最好由具有彈性的材料制成板片，使其具有相同的曲線形狀并在它們之間設(shè)置彈性墊片。作為彈性墊片，可以使用形式簡(jiǎn)單的元件，但必須保證在必要時(shí)多層板片有不同程度的壓縮，以及保證在接通或斷開磁場(chǎng)時(shí)花紋狀凸出部分與相鄰的板片表面接觸或不接觸。
為了調(diào)節(jié)板片的壓縮(接近)程度，最好具有一個(gè)較小尺寸的補(bǔ)充磁場(chǎng)源，使磁場(chǎng)源設(shè)置在裝置的工作室的外部以使其在接通或斷開時(shí)保證與板片填充物起磁力作用的磁場(chǎng)矢量沿工作室的軸線定向，在必要時(shí)可使板片調(diào)密至可能的最小間隙，或使板片疏松，即將板片之間的間距增加到所需的大小。
為了便于改變板片之間的距離，特別是為了在再生時(shí)使其分開，最好連續(xù)交替地將它們裝在工作室中一個(gè)凹下，另一個(gè)凸起。
為了保證使例如低濃度液體精細(xì)凈化達(dá)到所需的水平，必需增加高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)目，在此情況下，最好將花紋狀凸出部分制成尖瓣形式，用尺寸較小的尖瓣部分制成補(bǔ)充孔隙，該孔隙的邊緣以其輔助的尖瓣與瓣片平面構(gòu)成一定角度，同時(shí)，設(shè)置有補(bǔ)充孔隙的主要瓣片的數(shù)目最好沿工作室的長(zhǎng)度方向由入口管向出口管逐漸增加。這可以使凈化過程操作中裝置的工作時(shí)間延長(zhǎng)至整個(gè)體積的填料被雜質(zhì)完全均勻地充填為止，同時(shí)，增加了過濾循環(huán)時(shí)間和吸收的容積以及從整體上增加了裝置的經(jīng)濟(jì)性。
可以將每個(gè)前面的鐵磁性填料板片的末端與每個(gè)后面板片的前端連接起來，使得沿工作室的軸線由板片形成鋸齒形的帶。
在很多情況下，可以將板片相互平行設(shè)置并沿入口管到出口管的方向使兩個(gè)相鄰的板片之間的距離逐漸減小。
此時(shí)，應(yīng)該使花紋凸出部分的高度等于兩個(gè)相鄰板片之間的距離，使前面板片的末端與后面板片的表面接觸。
最好是使板片的孔隙尺寸沿入口管到出口管的方向逐漸減小，這樣可使分散度不同的雜質(zhì)在板片填充物的整個(gè)高度上有均勻的沉淀。
為了保證凈化過程的合理性和經(jīng)濟(jì)性，根據(jù)被凈化的流體介質(zhì)中雜質(zhì)顆粒的磁性、它的大小以及流體介質(zhì)的粘度，可以將花紋凸出部分制成截面變化的環(huán)形，其截面從凸出部分的頂部向其底部逐漸增加。
為了增加環(huán)狀凸出部分端部表面上的高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)目，最好是將其制成鋸齒狀。
為了增加供雜質(zhì)沉淀的表面，最好將花紋凸出部分制成沿著孔隙的圓周相對(duì)于孔隙中心向外卷起的凸邊形式。
可以選擇花紋凸出部分的高度小于兩個(gè)相鄰板片的間隙，而將板片本身制成在孔隙分布位置具有凸起或凹下的單元，凹下單元相對(duì)于板片平面有這樣的深度，使它與花紋凸出部分的高度相配合可以保證后者與相鄰的板片表面相接觸。
為增加板片的排布密度，整個(gè)板片層的導(dǎo)磁性及填充物和被凈化介質(zhì)中雜質(zhì)顆粒之間磁力的互相作用，可以給板片增加一種芯桿形的補(bǔ)充花紋凸出物。
在這種情況下，剛性固定在偶數(shù)板片上芯桿的長(zhǎng)度可以等于每?jī)蓚€(gè)最接近的奇數(shù)板片的間距。而在其它情況下，芯桿的長(zhǎng)度可以小于每?jī)蓚€(gè)最接近的奇數(shù)板片的間距。
可以將芯桿制成柔性鐵磁線束的形式。
也可將芯桿制成可變橫截面的形式。
此外，可以將芯桿制成小管形，這樣可以降低填充物的流體阻力。
當(dāng)磁化系統(tǒng)制成螺線管形時(shí)，最好使板片成平面圓盤狀并且使每個(gè)板片的花紋凸出部分的數(shù)量由圓盤的周邊向中心逐漸增加。
如果磁化系統(tǒng)制成雙極電磁體形式，則電磁體的磁極緊貼于工作室的表面，在工作室中，被凈化的流體介質(zhì)的流動(dòng)方向橫交于磁場(chǎng)感應(yīng)矢量方向，最好將板片的花紋凸出部分按這樣分布，使得它在每個(gè)板片最遠(yuǎn)離電磁體磁極區(qū)域的數(shù)量增加。
可以將板片制成工作室的同軸圓柱形表面形式，此時(shí)，應(yīng)使相鄰板片的間隙從入口管向出口管遞減。
也可將板片制成外表為圓柱形，斷面為螺旋狀的形式，此時(shí)，相鄰板片的間隙應(yīng)從入口管向出口管遞減。
按本發(fā)明制得的從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置的優(yōu)點(diǎn)在于，由于在鐵磁性填充物中選擇和制備板片的孔隙分布密度、其尺寸大小、外形、凸出部分的尺寸和形狀時(shí)，皆根據(jù)被凈化的流體介質(zhì)中鐵磁性雜質(zhì)顆粒的磁性、其顆粒大小(分散度)、流體介質(zhì)的濃度和粘度、板片之間的間距，按工作室的體積可變地進(jìn)行選擇，在可容許的低電耗情況下可保證對(duì)含有不同尺寸和不同磁性雜質(zhì)顆粒的物料達(dá)到高水平的凈化，不管該物料是液體還是氣體介質(zhì)，也不管其粘度是大還是小皆無關(guān)系。
在本發(fā)明的裝置中可快速和有效地實(shí)現(xiàn)鐵磁性填充物的再生。由于存在補(bǔ)充的磁場(chǎng)源，故在技術(shù)上很易調(diào)節(jié)填充物的安裝密度，這是借助于安裝在工作室外部并可保證片狀填充物磁力互相作用的補(bǔ)充磁場(chǎng)源來達(dá)到的。
用彈性材料制造曲線形狀的板片，在板片之間設(shè)置有彈性墊片，由于可以壓縮或松散(分開)減少了在改變板片組裝密度時(shí)的電耗，這保證了高質(zhì)量的再生過程。特別是在由板片之間相互連接時(shí)沿工作室軸線形成鋸齒形帶子的一種裝置方案中保證可以很易地在廣泛的例如從0.1至0.6的范圍內(nèi)對(duì)填充物的組裝密度加以改變。
按照本發(fā)明，將做成鐵磁性芯桿形式并安裝和固定在奇數(shù)板片上的補(bǔ)充花紋凸出部分裝配在裝置上，可以增加填充物的組裝密度、填充物中的平均磁場(chǎng)感應(yīng)值、高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量和流體介質(zhì)的凈化水平。根據(jù)被凈休化質(zhì)的類型和對(duì)它要求的凈化水平來選擇芯桿的形狀和尺寸。
有一些裝置方案，即將板片制成同軸圓柱形表面或圓柱形表面的形式，而其斷面為螺旋形，這樣的裝置方案，在其裝配或拆卸時(shí)特別方便。
在本發(fā)明的所有裝置方案中，保證了全部填充物體積被雜質(zhì)顆粒均勻地“淤積”并由此提高了凈化水平，由于對(duì)一些參數(shù)作如下的選擇，從而提高了凈化操作中裝置的連續(xù)工作時(shí)間，這種選擇方法是根據(jù)工作室的高度和直徑來確定凸出部分的數(shù)量，其高度、板片之間的間隙，例如板片之間的間隙做成從入口管向出口管遞減。
下面將根據(jù)本發(fā)明在具體實(shí)施方案中的描述及所帶的附圖來解釋本發(fā)明，但不是對(duì)本發(fā)明的限制

圖1描繪了從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置，它是一個(gè)由多個(gè)平面板片形成鐵磁性填充物的裝置的縱剖面總圖;
圖2是圖1中單元A的放大，主要由尖瓣形的板片構(gòu)成的花紋狀凸出部分具有補(bǔ)充的孔隙，該孔隙的周圍有與尖瓣平面成一定角度卷起的輔助尖瓣;
圖3是圖1中單元B的放大，主要和輔助尖瓣的高度和寬度皆比圖2中的大;
圖4是從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置，它是一個(gè)由多個(gè)曲線形板片形成鐵磁填充物的裝置的縱剖面總圖;
圖5是圖4中單元C的放大，一個(gè)曲線狀板片的尖瓣形花紋狀凸出部分與相鄰的板片表面接觸，該板片的位置相當(dāng)于凈化工序中的位置;
圖6與圖5一樣，板片的位置相當(dāng)于裝置再生過程中的位置;
圖7是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置，它是一個(gè)設(shè)置有連續(xù)交替一個(gè)凹下，另一個(gè)凸起的曲線狀板片的縱剖面總圖;
圖8是圖7中單元D的放大，工作室上部板片上的尖瓣形花紋狀凸出部分包含有補(bǔ)充的孔隙，該孔隙周圍具有輔助的尖瓣;
圖9是圖7中單元E的放大，工作室下部板片上的尖瓣形花紋狀凸出部分包含有補(bǔ)充的孔隙;
圖10是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置的縱剖面總圖，其中板片沿工作室軸線形成鋸齒形帶;
圖11是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置的縱剖面總圖，其中板片是沿工作室軸線連續(xù)交替地定向排列的平面一個(gè)凹下，一個(gè)凸起;
圖12是分離鐵磁性物料裝置的縱剖面總圖，其中板片具有制成芯桿形的補(bǔ)充花紋狀凸出部分;
圖13是圖12中單元F的放大;
圖14是具有帶溝外表的芯桿全圖;
圖15和圖14相同，是它的俯視圖;
圖16是具有削尖圓柱形的上部和下部以及固定到板片位置上的減小直徑的芯桿全圖;
圖17是柔性鐵磁線束形芯桿的全圖;
圖18是具有錐形尖頭上部和下部以及固定到板片位置上的增加截面的芯桿全圖;
圖19是制成在端部帶有切口的小管形芯桿全圖;
圖20與圖10一樣，是它的俯視圖;
圖21是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置的縱剖面總圖，該裝置混合設(shè)置板片，在工作室下部的板片部分是連續(xù)交替地設(shè)置的一個(gè)凹下，一個(gè)凸起，在工作室上部全部板片是凸起的;
圖22是從頂端至底部其截面遞增的環(huán)形花紋狀凸出部分實(shí)施方案的縱剖面;
圖23是在鋸齒端部具有變化斷面的環(huán)形花紋狀凸出部分實(shí)施方案的縱剖面;
圖24是將花紋凸出部分制成相對(duì)于孔隙中心向外卷起的沿孔隙周邊的凸邊形狀的方案縱剖面;
圖25是板片的縱剖面，其中凸出部分的高度小于兩個(gè)相鄰板片的間距，而板片本身在孔隙設(shè)置位置具有凸起或凹下的單元;
圖26是波形板片縱剖面;
圖27是帶有螺線管形磁化系統(tǒng)和由具有平面圓盤形板片構(gòu)成的鐵磁性填充物的裝置方案的橫剖面;
圖28是帶有電磁體型磁化系統(tǒng)的裝置方案的橫剖面圖，該裝置的磁極緊靠地安裝在工作室的側(cè)表面，被凈化的流體介質(zhì)的流動(dòng)方向與磁場(chǎng)感應(yīng)矢量方向相互橫交;
圖29是帶有鐵磁性填充物裝置方案的橫剖面圖，該填充物是由與工作室同軸的圓柱形表面形的板片組成;
圖30是帶有鐵磁性填充物裝置方案的橫剖面圖，填充物是由制成形成螺線圓柱形表面的板片構(gòu)成;
圖31是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料裝置的示意圖，該裝置包括6個(gè)工作室，其中電磁體以其側(cè)表面緊密地附加在工作室上，形成獨(dú)立的組件;
圖32是從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料裝置的示意圖，該裝置包括6個(gè)工作室，其中電磁體以其端表面緊密地附加在工作室上，形成環(huán)形磁路。
在下面的描述和附圖中，同一圖號(hào)表示同一元件。
圖1、2、3中示出所建議的從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置，它包括一個(gè)工作室1。工作室1由帶有端蓋2′的圓柱形主體2構(gòu)成，在其中設(shè)置有鐵磁性填充物3，該填充物以多個(gè)彈性平面板片4形成并帶有穿透孔隙5，孔隙周邊有尖瓣形的花紋凸出部分6，該部分的取向與板片平面構(gòu)成一夾角。此外，花紋凸出部分6具有帶有輔助尖瓣7的輔助穿透孔隙5′。在板片4之間設(shè)置有彈性墊片8，可以使用防水和耐酸的橡膠、天然橡膠、也可使用能實(shí)現(xiàn)彈性墊片功能的其它已知元件和附件作為墊片材料。
裝置還包括磁化系統(tǒng)9，它安裝在工作室1的外部，在給出的實(shí)施方案中，工作室1由分段式構(gòu)成的多層螺線管10做成。為了改變板片4的間距，也就是為了調(diào)節(jié)填充物3的組裝密度，工作室1裝有補(bǔ)充磁場(chǎng)源11，它安裝在工作室1外面的頂蓋2′之上，它可保證與板片填充物3發(fā)生磁力的相互作用。在一個(gè)磁場(chǎng)源11對(duì)板片4的作用不夠的情況下，也就是不能保證板片4的組裝密度產(chǎn)生必要的改變，則在下蓋2′上設(shè)置第二個(gè)補(bǔ)充磁場(chǎng)源(在圖中未示出)。磁場(chǎng)源11制成包括有磁芯12和導(dǎo)電線圈13的電磁體形式。在主體2的直徑尺寸增大，例如為0.5米及更大時(shí)，則磁場(chǎng)源11也可以制成螺線管形。此時(shí)，補(bǔ)充磁場(chǎng)源11設(shè)置在主體2的側(cè)表面，與螺線管10相似，與主體同軸較為方便。為了將被凈化的和已凈化過的流體介質(zhì)輸入和排出工作室1，相應(yīng)地具有入口管14和出口管15。
在圖1、2、3中板片4是相互平行設(shè)置的平面圓盤形，它們之間的間距在從入口管14至出口管15的方向上遞減。主要花紋凸出部分6和輔助瓣片7的數(shù)量，它們的高度及孔隙5與5′的尺寸也是從入口管14向出口管15有所改變。這樣的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)保證在工作時(shí)全部填充物3均勻地“淤積”雜質(zhì)顆粒，提高了在至后續(xù)再生工序前的有效凈化的工作持續(xù)時(shí)間。板片4之間的間距借助于彈性墊片8進(jìn)行改變，該墊片在來自補(bǔ)充磁場(chǎng)源11和螺線管10的加強(qiáng)壓力下可以壓縮或者松開，保證了必要的填充物3的組裝密度并保證了凸出部分6和板片4的表面接觸或不接觸。
如圖2、3所示，當(dāng)凸出部分6的高度減小，孔隙5和5′的分布密度增加，即當(dāng)沿被凈化介質(zhì)的運(yùn)動(dòng)途徑中板片4的單位面積上的孔隙5和5′的數(shù)量增加時(shí)，填充物3中的平均磁場(chǎng)感應(yīng)值和不均勻磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量相應(yīng)增加。如圖1、2、3所示，在單位體積內(nèi)板片4的金屬量相同的情況下，即全部填充物3體積的板片4的組裝密度不變，磁場(chǎng)對(duì)雜質(zhì)顆粒的磁力作用可得到提高，這是由于采取了下面一些措施的緣故，即在主要尖瓣-花紋凸出部分6中形成了補(bǔ)充的孔隙5′，在孔隙5′的邊緣上有和主要尖瓣平面成一定角度卷起的輔助尖瓣7，同時(shí)，帶有補(bǔ)充孔隙5′的主要凸出部分6的數(shù)目沿工作室1的縱向從入口管14向出口管遞增。
按照本發(fā)明，示于圖4、5、6中與圖1、2、3方案相區(qū)別的裝置方案包括有曲線形彈性板片4′和第二個(gè)輔助磁場(chǎng)源16，該磁場(chǎng)源為電磁體形式，它設(shè)置在工作室1外部的下蓋2′處。磁場(chǎng)源16包括有磁芯17和電磁線圈18，它的安裝方式與磁場(chǎng)源11相類似。板片4′具有相同曲率的曲線形狀并沿工作室1的高度均勻地設(shè)置，一個(gè)與另一個(gè)之間的距離相等。在沿被凈化介質(zhì)流動(dòng)途徑的板片4′上花紋凸出部分6具有補(bǔ)充孔隙5′，在孔隙的邊緣上有和凸出部分6的平面成一定角度卷起的輔助瓣片7。同時(shí)，主要凸出部分的數(shù)目沿工作室1的長(zhǎng)度方向從入口管14到出口管而遞增(為了簡(jiǎn)化描圖，在圖4、5、6中未示出孔隙5′和凸出部分7，它們與圖2和圖3中的凸出部分7和孔隙5′的形狀相似)。為了建立裝置的閉合磁路，在螺線管10的外部設(shè)置有鐵磁性外殼19，這樣可以減少磁場(chǎng)損失到周圍介質(zhì)中去。電磁體16的存在保證了對(duì)板片填充物3的密度可進(jìn)行必要的調(diào)節(jié)，也就是把板片4′調(diào)稀和調(diào)密。在填充物層3的厚度達(dá)到1.0米和更大的情況以及在為了消除例如在板片4′表面上的強(qiáng)磁性雜質(zhì)而必須激烈震動(dòng)板片4′的場(chǎng)合下，存在第二個(gè)補(bǔ)充磁場(chǎng)源16特別有利。
圖5、6示出了在凈化工序(圖5)和再生工序(圖6)時(shí)的板片4′的位置。在圖5中，上部板片4′的尖瓣形的花紋凸出部分6處于與下部板片4′的表面接觸狀態(tài)，這樣可在發(fā)生雜質(zhì)沉淀過程的位置上形成高梯度磁場(chǎng)區(qū)。依靠磁場(chǎng)源11、16和彈性墊片8的作用來使花紋凸出部分6與板片4′表面接觸點(diǎn)離開的情況下，進(jìn)行有效的再生。
在圖7、8、9中示出這樣一種設(shè)備方案，其中工作室1中的曲線形板片4′連續(xù)交替地設(shè)置一個(gè)板片4′凹下，一個(gè)凸起，在它們之間是彈性墊片8。這樣交替地設(shè)置具有彈性的曲線形板片4′，可以在寬廣的范圍內(nèi)技術(shù)上易于改變填充物3的組裝密度，實(shí)現(xiàn)增加或減少凸出部分6與板片4′的接觸點(diǎn)以及相應(yīng)地增減不均勻磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量。在工作室1中花紋凸出部分6的數(shù)量沿被凈化介質(zhì)的流動(dòng)途徑遞增。例如，在填充物3的下層中，花紋凸出部分6不包含補(bǔ)充孔隙5′，而從填充物3的層高一半處開始，在花紋凸出部分6中出現(xiàn)補(bǔ)充孔隙5′以及相應(yīng)地出現(xiàn)尖瓣7形式的補(bǔ)充凸出物。
圖10中所示的裝置方案，與圖1方案不同，它包含有帶花紋凸出部分6的板片4，該板片之間這樣連接，每個(gè)在前的板片4以自己的末端與下一個(gè)板片4的開始端相連接，以使沿工作室1的軸線由板片4形成鋸齒形帶。鋸齒帶形的板片狀填充物3保證了有效地分開板片4并疏松沉積的沉淀，這樣能使再生進(jìn)行到所需的水平，特別是在凈化高濃度和沾油的介質(zhì)時(shí)，例如在凈化循環(huán)水時(shí)，此時(shí)組裝的密度必須不高并應(yīng)減少填充物3的層厚。
圖11中給出了按照本發(fā)明的裝置方案，其中彈性曲線形板片4′連續(xù)交替地設(shè)置一個(gè)凹下，一個(gè)凸起，同時(shí)，板片4′的平面沿工作室1軸線定向地排列。在再生工序時(shí)板片4′的分開和振動(dòng)是靠設(shè)置在工作室1側(cè)表面的電磁體20來進(jìn)行的。由沿工作室1高度分布的每個(gè)磁芯21和電磁線圈22組成的電磁體20可以彼此獨(dú)立地工作。在該裝置方案中，螺線管10制成沿工作室1高度分布的單獨(dú)部件的形式。電磁體20的磁芯21的取向垂直于設(shè)置在螺線管10部件間的間隙中的板片4′的平面并以其端面緊密地附加在工作室1的側(cè)表面上。在再生工序中脈沖地接通和斷開電磁體20，保證了對(duì)板片4′進(jìn)行脈沖震蕩，導(dǎo)致將板片4′分開，使雜質(zhì)顆粒沉淀疏松并使得可以容易地將它們除去。
圖12、13中所示的裝置方案與圖1中方案的區(qū)別在于，板片4裝有補(bǔ)充的花紋凸出部分23，該部分制成芯桿形，其長(zhǎng)度等于每?jī)蓚€(gè)最近的奇數(shù)板片4之間的間距，芯桿剛性地固定在偶數(shù)板片4上。鐵磁性芯桿23可以具有在外表面帶有刻紋的尖頭部分24的形狀(圖14、15)或具有截面在中心部分縮小，在端頭部分?jǐn)U大的尖頭部分25的形狀(圖16)，或者象柔性細(xì)線束26(圖17)或者象針狀芯桿27(圖18)，或者象是在端面帶有刻紋的小管28的形狀(圖19、20)。
在利用該裝置來凈化主要含有中等尺寸和粗粒分散雜質(zhì)的高濃度介質(zhì)時(shí)，芯桿23的長(zhǎng)度小于最接近的奇數(shù)板片4之間的距離(圖12、13)。使用與芯桿23組合的板片填充物3的合理性和有效性取決于以下因素。當(dāng)相鄰的孔隙5之間的間距最小時(shí)，在沒有芯桿23的板片4中，板片4表面上孔隙5的密度可達(dá)到最大，這取決于板片4的厚度和材料以及板片4上孔隙5穿孔的條件。在孔隙5之間形成的連接板上可穿補(bǔ)充的孔隙，但要比主要孔隙5的直徑小得多。結(jié)果形成相當(dāng)小尺寸的瓣片，因此，僅靠主要(大的)孔隙5的凸出部分6形成板片4之間的接觸。在圖12、13示出的所建議的裝置方案中，填充物3在板片4之間的接觸點(diǎn)的數(shù)量由于芯桿23和板片4之間的補(bǔ)充接觸點(diǎn)而增加，即雜質(zhì)的有效磁力沉淀區(qū)的數(shù)目增加。
此外，將芯桿23引入板片4中在整體上增加填充物3的組裝密度，即增加在單位體積內(nèi)填充物3的鐵磁性材料濃度，導(dǎo)致在同樣外磁場(chǎng)強(qiáng)度情況下增加填充物3的導(dǎo)磁性(M)，因此，增加磁場(chǎng)感應(yīng)作用，提高磁場(chǎng)對(duì)沉淀雜質(zhì)的磁力作用，而最終導(dǎo)致提高凈化過程的效率，這在凈化含有高分散度雜質(zhì)的介質(zhì)，例如熱力和原子能電站出來的水時(shí)特別有利。
為消除磁場(chǎng)分布的不均勻性(在使用電磁體作為磁化系統(tǒng)時(shí)，在兩極附近和中心區(qū)域中，以及在使用螺線管時(shí)，在器壁附近和中心區(qū)域中)由具有不同磁性的材料制成芯桿23，這些材料抵銷分布在填充物3中的磁場(chǎng)變化，例如，在高磁場(chǎng)強(qiáng)度的填充物3區(qū)域中，由具有低碳含量的軟磁鋼制備芯桿23，而在低磁場(chǎng)強(qiáng)度的區(qū)域中則由導(dǎo)磁性達(dá)5000-50000的材料制備。為了建立不均勻區(qū)和提高導(dǎo)磁性，最好用加粗的方法來制造芯桿25(圖16)上的兩個(gè)端頭。在芯桿25的截面變化位置，產(chǎn)生局部的(地區(qū)的)高梯度磁場(chǎng)區(qū)，這能保證提高磁力凈化過程的水平。為這一目的，芯桿段24(圖14、15)的表面制成帶槽的結(jié)構(gòu)，而小管狀芯桿28(圖19、20)的端面制成帶刻紋的結(jié)構(gòu)，在這些凸出部分上形成不均勻磁場(chǎng)區(qū)。針狀芯桿27(圖18)在和板片4的表面接觸時(shí)形成高度不均勻磁場(chǎng)區(qū)，這保證了對(duì)弱磁性雜質(zhì)的沉淀。此外，針狀芯桿27實(shí)際上不會(huì)對(duì)被凈化介質(zhì)的流動(dòng)造成阻力。
將芯桿23剛性地固定在偶數(shù)板片4上，在一種情況下芯桿以其端部與奇數(shù)板片4接觸，而在另一種情況下沒有接觸，這也取決于是否有必要把在填充物3體積內(nèi)沉淀過程的條件統(tǒng)一起來。例如，為避免芯桿與相鄰最近的板片4接觸，將芯桿23制成短桿并設(shè)置在填充物3的磁場(chǎng)強(qiáng)度最大的區(qū)域中，在另一種場(chǎng)合下，將芯桿23制成較長(zhǎng)的桿以達(dá)到與板片4發(fā)生接觸并將其設(shè)置在填充物3的磁場(chǎng)強(qiáng)度較小的區(qū)域中。
將芯桿制成在端面具有刻槽的小管28形(圖19、20)可增加填充物3組件與凈化介質(zhì)的接觸表面和尖棱的數(shù)量(磁場(chǎng)集中處，在該處建立高梯度磁場(chǎng))。管28中的孔隙也用作降低過濾速度，即為了延長(zhǎng)磁力作用于沉淀雜質(zhì)的持續(xù)時(shí)間，因?yàn)樘畛湮?的有效截面范圍增加了。
在凈化含有高分散弱磁性雜質(zhì)的液體介質(zhì)時(shí)，建立一種在凈化介質(zhì)運(yùn)動(dòng)方向上隨密度而增加的外磁場(chǎng)的強(qiáng)度，為保證這一點(diǎn)，例如可在同樣方向上增加螺線管10的線圈匝數(shù)以及在同一方向上增加填充物3的板片4′的分布密度。
此時(shí)，粗的被凈化介質(zhì)雜質(zhì)顆粒沉淀在與板片4′不接觸的凸出部分6上，而高度分散的雜質(zhì)由沉淀在凸出部分6與板片4′平面接觸的位置上。為了增加高梯度磁場(chǎng)區(qū)，使用具有各種形狀花紋凸出部分6的板片4，例如具有變化環(huán)形截面的花紋凸出部分29(圖22)，該截面從凸出部分29的頂部向底部遞增并沿圓周與相鄰的板片接觸。圖23所示花紋凸出部分30的特點(diǎn)在于，其中在端面上制成鋸齒，因而形成一些凸出部分30與相鄰板片4接觸的圓周，保證了大量不均勻磁場(chǎng)區(qū)。圖24所示的凸出部分31制成沿孔隙5圓周的凸邊形，該凸邊相對(duì)于孔隙5中心向外卷起。這種形狀的凸出部分在制備時(shí)工藝性良好并在凈化嚴(yán)重沾污的含有粗粒分散性雜質(zhì)的介質(zhì)時(shí)應(yīng)用具有花紋凸出部分31的板片4較為有利。圖24中沿孔隙圓周凸邊形式的凸出部分31可保證在與板片4接觸時(shí)具有多個(gè)接觸點(diǎn)，此外還具有在靠近凸邊向外卷起的尖棱的不均勻磁場(chǎng)區(qū)，粗粒分散和強(qiáng)磁性的雜質(zhì)在該處沉淀。
為了提高填充物3的組裝密度和導(dǎo)磁性，板片4上花紋凸出部分32的高度小于兩個(gè)相鄰的板片4之間的距離(圖25)，而板片4本身制成有花紋的形狀并在孔隙5分布位置具有凸起或凹下的單元，凹下單元相對(duì)于板片4平面的深度與花紋凸出部分32的高度相配合，保證凸出部分與下一個(gè)板片4相接觸。此時(shí)，液體介質(zhì)經(jīng)過填充物3的流動(dòng)途徑長(zhǎng)度，也可由于在依次分布的板片4上的孔隙5設(shè)置成交錯(cuò)方式而得到增加。在凈化高濃度強(qiáng)磁性雜質(zhì)的介質(zhì)時(shí)，為保持不均勻磁場(chǎng)區(qū)可使用有槽紋的板片33(圖26)，在板片33之間設(shè)置帶有凸出部分35的補(bǔ)充板片隔板34，可以增加介質(zhì)經(jīng)過填充物3的流動(dòng)途徑。
在大生產(chǎn)率的裝置中使用螺線管10作為磁化系統(tǒng)9時(shí)(圖27)，為了補(bǔ)償體積為20-30%的螺線管軸心區(qū)中磁場(chǎng)感應(yīng)值的降低，使在該區(qū)中每個(gè)板片上具有花紋凸出部分的孔隙密度比板片外圍區(qū)增加20-30%。在使用雙極電磁體36作為磁化系統(tǒng)9時(shí)(圖28)，其磁極緊靠在工作室1的外表面上，其中被凈化介質(zhì)流動(dòng)的方向橫交于磁場(chǎng)感應(yīng)矢量方向，具有花紋凸出物的孔隙5沿每個(gè)板片4按這樣的方式分布，使得在離磁體36磁極最遠(yuǎn)的板片4上的區(qū)域中，孔隙5的數(shù)量比緊靠磁極的區(qū)域增加20-30%。
在圖29所示的裝置方案中的鐵磁填充物3由板片37制成，該板片為同軸圓柱形表面形式，同時(shí)，板片37之間的距離從設(shè)置在工作室1側(cè)面上等于工作室1高度一半的地方的入口管14向設(shè)置在工作室1端面上的出口管15遞減。在圖30所示的裝置方案中，填充物3由板片38組成，該板片制成圓柱形表面形式，其截面為螺旋形，此時(shí)，在螺旋的相鄰線匝之間的距離從入口管14向出口管15遞減，管15的設(shè)置與上面描述圖29的裝置方案時(shí)所指出的一樣。
為了減少磁通量損失到周圍的介質(zhì)中，將按照本發(fā)明裝置的工作室1(圖31)與電磁體36一起每?jī)蓚€(gè)工作室1連結(jié)成組件39，形成例如由三個(gè)獨(dú)立和自主的工作組件39組成的復(fù)合體。例如在凈化流體介質(zhì)的工序中，兩個(gè)組件39在工作，而另一個(gè)進(jìn)行再生。
工作室1也可以按另外方式與電磁體36結(jié)合(圖32)，此時(shí)形成例如由6個(gè)工作室1組成的環(huán)形磁路，其中電磁體36的磁芯以其端面部分緊貼于工作室的主體上。
從流體介質(zhì)中分離鐵磁性物料的裝置以如下方式工作。
欲凈化的液體或氣態(tài)流體介質(zhì)沿入口管14(圖1)進(jìn)入充滿鐵磁性填充物3的工作室1，填充物制成多塊帶多個(gè)穿透孔隙5的板片4形式，沿孔隙5周邊具有花紋凸出部分6。在制成多層螺母管10形的磁性系統(tǒng)9所形成的電場(chǎng)作用下，板片組成的鐵磁性填充物被磁化，此時(shí)，在花紋凸出部分6與板片4的接觸位置上，形成高梯度磁場(chǎng)區(qū)，在該處，在磁力F的作用下雜質(zhì)由被凈化的流體介質(zhì)沉淀出來(F＝HgradH，此處F為磁作用力，H為磁場(chǎng)強(qiáng)度，gradH為該磁場(chǎng)梯度)。
改變花紋凸出部分6和輔助尖瓣7的數(shù)量，可以使凈化流體介質(zhì)過程的水平達(dá)到所需的設(shè)計(jì)值。由于形成補(bǔ)充的輔助尖瓣7，接觸點(diǎn)的數(shù)量可進(jìn)一步增加到3-4倍。高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量也相應(yīng)增長(zhǎng)。在通過填充物3后，已除去雜質(zhì)的凈化流體介質(zhì)沿出口管15排出。同時(shí)，在所建議的裝置中，花紋凸出部分6的數(shù)量、板片4的間距、花紋凸出部分6的高度及其形狀根據(jù)雜質(zhì)顆粒的大小、其磁性和被凈化介質(zhì)的粘度，沿被凈化介質(zhì)的流動(dòng)途徑，從入口管14向出口管15可在廣泛的范圍內(nèi)變化。例如，填充物組裝密度可在0.05至0.6或更大范圍內(nèi)變化。此外，花紋凸出部分6的孔隙5的尺寸，不僅根據(jù)工作室1的高度，而且還根據(jù)單獨(dú)板片4的平面可變地設(shè)置在裝置中(圖27、28)。
例如，對(duì)于具有弱磁性和高分散性的雜質(zhì)，使用在圖1、2、3、12中所繪出的，以在每單位體積填充物3中有較大量花紋凸出部分6的裝置方案較為有利。同時(shí)，所推薦的對(duì)填充物3的組裝密度變化范圍為0.4至0.6。在該情況下，在填充物3中的平均磁場(chǎng)感應(yīng)值達(dá)到1.2-1.6T。對(duì)于具有強(qiáng)磁性和粗粒分散雜質(zhì)的流體介質(zhì)，使用在圖7、8、9、10、11、21上所繪出的裝置方案較為有利。此處，填充物3的密度最好在0.1-0.3的范圍內(nèi)變化。填充物3中的平均磁場(chǎng)感應(yīng)值達(dá)到0.4-0.7T。
在凈化粘的介質(zhì)的工藝中，當(dāng)有必要進(jìn)行有效的震蕩、振動(dòng)以分開板片4時(shí)，使用具有曲線形彈性板片4′和具有連結(jié)成鋸齒形帶的板片4的裝置方案較為有利(圖4、7、、10、11、21)。
為了使填充物3再生，斷開磁化系統(tǒng)9，此時(shí)，將已凈化的介質(zhì)轉(zhuǎn)送入備用工作室1(圖31中組件39)。在再生工作室1中，周期性地，脈沖式地接通和斷開補(bǔ)充磁場(chǎng)源11、16、20。在短時(shí)間強(qiáng)磁場(chǎng)作用下，板片4被吸引至磁場(chǎng)源的磁極11、20、16處，在斷開線圈13、18、22磁場(chǎng)源時(shí)，板片4在彈力和重力作用下返回開始位置。重復(fù)這樣的接通和斷開數(shù)次。結(jié)果，造成凸出部分6與相鄰板片4的接觸點(diǎn)的位置分離，此時(shí)，雜質(zhì)沉淀被疏松。板片4的彈性變形降低了其殘余的磁化率，使其大小達(dá)到工作條件下的磁場(chǎng)感應(yīng)值。通過導(dǎo)管15通入壓縮空氣，或水-空氣混合物，將疏松的雜質(zhì)沉淀沖洗入排放系統(tǒng)。
實(shí)施例1對(duì)熱力和原子能電站的冷凝水進(jìn)行凈化，該冷凝水含有相對(duì)地濃度不高的雜質(zhì)，即20-200微克/公斤(所需的凈化水平為10微克/公斤)。此時(shí)，雜質(zhì)的范圍(尺寸)從0.1至5微米變化，雜質(zhì)具有不同的磁性。試驗(yàn)確定，過濾這些冷凝水的最佳速度為150-300米/小時(shí)，填充物3的最佳長(zhǎng)度為0.8-1.2米。為凈化這些比較“純”的冷凝水必須在接觸位置形成達(dá)到400-800千安/米的磁場(chǎng)強(qiáng)度。為使雜質(zhì)沿填充物3的全部長(zhǎng)度同等均勻地“淤積”于填充物3上，在沿填充物3的長(zhǎng)度方向上，設(shè)置可變組裝密度和可變高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量，即沿被凈化介質(zhì)的流動(dòng)途徑使組裝密度和高梯度磁場(chǎng)區(qū)的數(shù)量逐漸增加。
在這種情況下，填充物3層有條件地沿填充物3層的高度方向分成3-4個(gè)區(qū)。在沿流體介質(zhì)流動(dòng)途徑的第一區(qū)中確定組裝密度為0.3，在第二區(qū)中為0.4，在第三區(qū)中為0.5，在第四區(qū)中為0.6。如把組裝密度提高到0.6以上，勢(shì)必要增加在孔隙通道中液體流動(dòng)的速度(增加流體力學(xué)的作用)，這樣就會(huì)降低了由于提高組裝密度和相應(yīng)地，提高整個(gè)填充物3的導(dǎo)磁性所帶來的影響。根據(jù)設(shè)計(jì)的組裝密度用模具在板片4上沖出孔隙5(圓形或三角形、多邊形)。在所建議的場(chǎng)合下，將它們制成這樣形狀，使花紋凸出部分6是尖的并且有各種不同的長(zhǎng)度。例如，用具有5或6邊形的模具沖出孔隙5，或在孔隙5周圍用點(diǎn)焊焊接具有刻紋的大小不同的圓環(huán)。在第三和第四區(qū)中，在板片4上的花紋凸出部分6中制備帶有瓣片7的補(bǔ)充孔隙5′。在該情況下，在填充物3的下層中沉淀有粗粒分散的雜質(zhì)，為沉淀該雜質(zhì)，在第四區(qū)中的磁場(chǎng)強(qiáng)度應(yīng)象在第一區(qū)中那樣高;在填充物3的中間區(qū)中沉淀中等粒度的雜質(zhì)，而在填充物3的上層區(qū)中沉淀粒度最小的，微米級(jí)的雜質(zhì)。此時(shí)，造成雜質(zhì)在全部填充物3的體積內(nèi)有大致均一的“淤積”，同樣也導(dǎo)致延長(zhǎng)了過濾循環(huán)(即兩次連續(xù)再生過程之間的時(shí)間)，減少再生時(shí)空裝置的無效時(shí)間。
在填充物3再生時(shí)斷開磁場(chǎng)，此時(shí)板片4在彈性墊片8的作用下松開。在脈沖式地接通電磁體11時(shí)，板片4產(chǎn)生上、下脈沖式的移動(dòng)，因此使沉淀的雜質(zhì)疏松，同時(shí)通過管15通入水-空氣介質(zhì)，將雜質(zhì)顆粒沉淀沖洗入排放系統(tǒng)。
實(shí)施例2在凈化雜質(zhì)濃度為6000-120000微克/公斤的冶金生產(chǎn)軋機(jī)循環(huán)水時(shí)，填充物3的組裝密度必須比上述實(shí)施例中的小，選擇在0.1-0.35的范圍;介質(zhì)流動(dòng)的速度確定為400-1200米/小時(shí)，填充物3的長(zhǎng)度等于0.2-0.4米。由此，用計(jì)算的方式確定在板片4上，相應(yīng)地是確定在工作室1內(nèi)填充物3區(qū)域中的花紋凸出部分6的數(shù)量此時(shí)在工作室1中被凈化介質(zhì)的流動(dòng)方向上設(shè)置具有一種外形的花紋凸出部分6的板片4，例如在下部為具有圓環(huán)形凸出部分30(圖22)，在中間部分為具有凸邊形31的凸出部分6的板片4(圖24)，在上部是具有尖頭扇形凸出部分32的板片4(圖25)，結(jié)果比常規(guī)形式的過濾循環(huán)和吸收容積增加30-40%，相應(yīng)地凈化效率提高30-40%。
權(quán)利要求
1.從流體介質(zhì)分離鐵磁性物料的裝置，該裝置包括一個(gè)工作室(1)，在該室中設(shè)置有磁鐵填充物(3)，其形式為多塊帶有多個(gè)穿透孔隙(5)的板片(4)，沿孔隙周邊有花紋凸出部分(6)，凸出部分的取向與板片平面成一定角度，裝置還包括一個(gè)用來與鐵磁性填充物(3)相互作用并使其磁化的磁化系統(tǒng)(9)，一個(gè)用來將欲凈化的流體介質(zhì)輸入工作室(1)的進(jìn)口管(14)和一個(gè)用來接收通過填充物(3)后已凈化的流體介質(zhì)的出口管(15)，其特征在于板片(4)上孔隙(5)的分布密度、其尺寸、外形、凸出部分(6)的外形，板片(4)之間的間距，根據(jù)欲凈化流體介質(zhì)的雜質(zhì)顆粒的磁性、其尺寸、流體介質(zhì)的濃度和粘度按工作室(1)的體積可變地進(jìn)行選擇。
2.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于板片(4′)是由彈性的材料制成，板片(4′)有相同的曲線形狀并且在板片(4′)之間設(shè)置有彈性墊片(18)。
3.按照權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于花紋凸出部分(6)為尖瓣形，至少有一部分尖瓣構(gòu)成的部件開有補(bǔ)充孔隙(5′)，該孔隙周圍具有與瓣片平面成一定角度卷起的輔助瓣片(7)，同時(shí)，設(shè)置有補(bǔ)充孔隙(5)的主要瓣片的數(shù)目，沿著流體介質(zhì)的流動(dòng)方向從入口管(14)向出口管遞增。
4.按照權(quán)利要求2的裝置，其特征在于工作室(1)中的曲線形板片(4′)以連續(xù)交替方式設(shè)置一個(gè)凹下，一個(gè)凸起。
5.按照權(quán)利要求1或2或3的裝置，其特征在于它至少設(shè)置一個(gè)補(bǔ)充磁場(chǎng)源(11)，該磁場(chǎng)源設(shè)置在工作室(1)的外部以使其磁場(chǎng)矢量沿工作室(1)的軸線定向。
6.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于鐵磁性填充物(3)的每個(gè)在前的板片(4)以其末端與每個(gè)在后的板片(4)的前端連接，使得由板片(4)沿工作室(1)的軸線形成鋸齒形帶。
7.按照權(quán)利要求1或2或3的裝置，其特征在于板片(4)相互平行設(shè)置，兩個(gè)相鄰的板片之間的距離選擇在從入口管(14)向出口管的方向上遞減。
8.按照權(quán)利要求7的裝置，其特征在于選擇花紋凸出部分(6)的高度等于兩個(gè)相鄰板片(4)之間的距離，此時(shí)，在前的板片(4)的凸出部分(6)的末端處于和在后的板片(4)表面接觸的位置上。
9.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于板片(4)上孔隙(5)的尺寸在從入口管(14)向出口管的方向上遞減。
10.按照權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于花紋凸出部分(29)具有從凸出部分(29)的頂端向其底部截面遞增的圓環(huán)形。
11.按照權(quán)利要求10的裝置，其特征在于圓環(huán)形凸出部分(30)的端面具有鋸齒。
12.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于將花紋凸出部分(31)制成沿孔隙(5)的圓周相對(duì)于孔隙(5)中心向外卷起的凸邊形式。
13.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于選擇花紋凸出部分(32)的高度小于兩個(gè)相鄰板片(4)之間的間距，兩板片(4)本身在孔隙(5)分布的位置具有凸起和凹下的單元，凹下單元相對(duì)于板片(4)平面的深度使得它與花紋凸出部分(32)的高度相配合可保證后者與相鄰的板片(4)表面相接觸。
14.按照權(quán)利要求1或2的裝置，其特征在于板片(4)設(shè)置有制成芯桿(23)形的補(bǔ)充花紋凸出部分。
15.按照權(quán)利要求14的裝置，其特征在于芯桿(23)剛性地固定在偶數(shù)板片(4)上并且芯桿的長(zhǎng)度等于兩個(gè)最接近的奇數(shù)板片(4)之間的距離。
16.按照權(quán)利要求14的裝置，其特征在于芯桿(23)剛性地固定在偶數(shù)板片(4)上并且芯桿的長(zhǎng)度小于兩個(gè)最接近的奇數(shù)板片(4)之間的距離。
17.按照權(quán)利要求14的裝置，其特征在于芯桿制成柔性鐵磁線束(26)形。
18.按照權(quán)利要求14的裝置，其特征在于芯桿(25)制成變化的截面形。
19.按照權(quán)利要求14的裝置，其特征在于芯桿制成小管(28)形。
20.按照權(quán)利要求1的裝置，其中磁化系統(tǒng)制成螺線管(10)形，其特征在于板片(4)為平面圓盤形，每個(gè)板片(4)上的花紋凸出部分(6)的數(shù)量從圓盤的周邊向中心遞增。
21.按照權(quán)利要求1的裝置，其中磁化系統(tǒng)制成兩極電磁體(36)形，磁體的磁極緊貼在工作室(1)的側(cè)表面上，其中被凈化介質(zhì)的流動(dòng)方向與磁場(chǎng)感應(yīng)矢量相橫交，其特征在于凸出部分(6)在板片(4)上這樣來設(shè)置，使其在每個(gè)板片(4)上離電磁體磁極最遠(yuǎn)的區(qū)域中的數(shù)量增加。
22.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于板片(37)制成工作室(1)的同軸圓柱形表面形式，同時(shí)，相鄰的板片(37)間的距離從入口管(14)向出口管遞減。
23.按照權(quán)利要求1的裝置，其特征在于板片(38)制成其截面為螺旋的圓柱形表面形式，此時(shí)，相鄰板片間的距離從入口管(14)向出口管遞減。
全文摘要
分離鐵磁性物料的裝置，包括一個(gè)充滿鐵磁性填充物3的工作室1，填充物制成帶孔隙5的板片4的形式，孔隙5的周邊有花紋狀凸出部分6，該裝置還包括一個(gè)磁化系統(tǒng)9，一個(gè)流體介質(zhì)入口管14和出口管15。板片4上孔隙5的分布密度、其尺寸、形狀、凸出部分6的尺寸和兩塊板片4之間的間距根據(jù)欲凈化流體介質(zhì)鐵磁性雜質(zhì)顆粒的磁性、其尺寸和流體介質(zhì)粘度，按工作室1的體積變化地選擇。
文檔編號(hào)B01D35/06GK1041703SQ8810728
公開日1990年5月2日 申請(qǐng)日期1988年10月8日 優(yōu)先權(quán)日1985年5月29日
發(fā)明者弗耶切斯拉夫·伊萬(wàn)諾維奇·蓋拉斯琴科, 阿歷克山德·萬(wàn)西里那維奇·山杜爾雅克, 伊高·芙賽弗洛多維奇·弗爾科夫 申請(qǐng)人:烏克蘭水利工程學(xué)院