一種用于生產(chǎn)光學薄膜的涂布系統(tǒng)的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種TFT-LCD平板顯示用背光源中光學膜的精密涂覆技術領域。
【背景技術】
[0002] 在TFT-LCD液晶顯示領域中，為了得到能滿足要求的光學膜，如反射膜、擴散膜、 增亮膜、復合DBEF膜等，需要在不同的光學支持體薄膜的正面或背面涂覆含有光學粒子的 涂料，在涂覆生產(chǎn)中，需要涂覆裝置將涂料均勻的涂覆在不同的光學支持體薄膜上。由于涂 料中含有各種不同粒經(jīng)的光學粒子，為了保證光學粒子均勻地涂覆在光學支持體薄膜上， 通常采用輥涂、凹版涂覆或微凹版涂覆裝置進行。
[0003] 在實際應用中，以上涂覆方式均存在有以下不足，主要是在涂覆過程中，涂布槽供 液單點或多點的不均勻供料，涂料在涂布槽中分布、流速不均勻，產(chǎn)生渦旋，造成光學粒子 的聚集后，無法及時清除，導致涂料在涂布過程中而形成質(zhì)量弊病，如拉絲、暗紋、條道等， 需要經(jīng)常停機清洗涂布頭和涂布槽，造成涂覆生產(chǎn)中斷，無法進行連續(xù)生產(chǎn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明所要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種用于生產(chǎn)光學薄膜 的涂布系統(tǒng)，它可以解決光學粒子在涂布槽中分布不均勻和聚集粒子聚集后無法清除的問 題，實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)。
[0005] 為解決上述技術問題，本發(fā)明采用如下技術方案： 一種用于生產(chǎn)光學薄膜的涂布系統(tǒng)，包括儲料部分，供液部分和涂布部分，所述儲料部 分包括回流管、涂料補液管、攪拌裝置、供液槽、球閥、循環(huán)泵、過濾器、供液管、接液盤，供液 部分包括涂布槽、進料口、涂料均化器出口，涂布部分包括涂布輥，刮刀裝置，基膜，在涂布 槽的底部設有至少一個聚集粒子收集槽，聚集粒子收集槽的寬度與深度的比值為1?5,在 涂布槽側(cè)面設有涂料均化器和涂料流速控制裝置，涂料均化器的截面為梯形。
[0006] 上述涂布系統(tǒng)中，涂料均化器的導流面與垂直面的夾角β為10°?80°，涂料均 化器的截面積與進料口截面積的比值為2?10 ;優(yōu)選涂料均化器的截面積與進料口截面積 的比值為3-6。
[0007] 上述涂布系統(tǒng)中，涂料均化器出口的間隙為0· 5mm?5mm ;優(yōu)選為I mm?3mm。
[0008] 上述涂布系統(tǒng)中，在涂布槽底部設有1-3個聚集粒子收集槽。
[0009] 上述涂布系統(tǒng)中，在涂布槽兩端設有沖洗控制裝置。
[0010] 上述涂布系統(tǒng)中，沖洗控制裝置的控制級數(shù)為1-3級。
[0011] 上述涂布系統(tǒng)中，涂料均化器的表面粗糙度Ra小于0. 05,聚集粒子收集槽的表面 粗糙度Ra小于0. 05。
[0012] 本發(fā)明的有益效果為，在單點和多點供料體系中，利用供料流體在涂料均化器進 行混合，消除供料界面沖突后，通過流量控制裝置，均勻的將涂料送入涂布槽中，由于涂布 輥轉(zhuǎn)動造成離心力和重力的作用，聚集粒子和大粒徑粒子更容易被分離到涂布槽的底部， 聚集粒子和大粒徑粒子在沿涂布槽底部運動后，落入聚集粒子收集槽并將其收集，由于聚 集粒子收集槽至少設置了一個收集槽，可以充分收集大粒徑粒子和聚集粒子，避免了聚集 粒子或大粒徑粒子在溢流或旋轉(zhuǎn)中進入涂布輥造成質(zhì)量弊病，如拉絲、暗紋、條道等，避免 了需要反復停機清洗涂布槽和涂布輥造成生產(chǎn)效率的降低；同時通過聚集粒子沖洗裝置 將聚集粒子或大粒徑粒子沖洗返回供料槽，在通過球閥、循環(huán)泵輸送，過濾器將其中的大部 分過濾掉。本發(fā)明實現(xiàn)了長周期的連續(xù)生產(chǎn)，解決了涂覆光學膜存在的質(zhì)量弊病如拉絲、暗 紋、條道等質(zhì)量問題，實現(xiàn)了光學膜的不停機連續(xù)生產(chǎn)。
【附圖說明】
[0013] 圖1是本發(fā)明提供的連續(xù)生產(chǎn)光學膜的涂布系統(tǒng)示意圖。
[0014] 圖2是本發(fā)明涂料均化器局部放大圖。
[0015] 圖3-1-圖3-5是本發(fā)明沖洗控制裝置的原理示意圖。
[0016] 圖中各標號表示為：涂料回流管1、涂料補液管2、攪拌裝置3、供液槽4、球閥5、循 環(huán)泵6、過濾器7、供液管8、接液盤9、涂布槽10、聚集粒子收集槽11、進料口 12、涂料均化 器13、流速控制裝置14、涂料均化器出口 15、涂布輥16、刮刀裝置17、基膜18、沖洗控制裝 置19。
【具體實施方式】
[0017] 以下結(jié)合附圖及實施例對發(fā)明作進一步闡述，但這些實施例僅用于說明本發(fā)明、 而不用于限制本發(fā)明的保護范圍。
[0018] 本發(fā)明提供的生產(chǎn)光學薄膜的涂布系統(tǒng)，包括儲料部分，供液部分和涂布部分，如 附圖1所示，其中，儲料部分包括回流管1、涂料補液管2、攪拌裝置3、供液槽4、球閥5、循環(huán) 泵6、過濾器7、供液管8、接液盤9。供液槽4與球閥5、循環(huán)泵6、過濾器7、供液管8相連 接，將涂料供至進料口 12,經(jīng)涂料均化器進入涂布槽，涂布槽10中的涂料通過涂布輥17不 斷將涂料涂敷在基膜18的表面，由涂布槽溢流的涂料經(jīng)接液盤9、回流管1返回供料槽，從 而實現(xiàn)了一個循環(huán)。
[0019] 本發(fā)明中，設置在涂布槽10側(cè)面的涂料均化器的截面為梯形，底部出口導流面與 垂直面的夾角β為10?80°，優(yōu)選30?60°，涂料均化器13的截面積與進料口 12截面 積的比值為2?10,優(yōu)選為3-6 ;涂料均化器出口 15的間隙為0· 5mm?5mm，優(yōu)選為I mm? 3mm ;在涂布槽底部至少設有1個聚集粒子收集槽11，優(yōu)選為2?3個，收集槽的形狀可以 是梯形、半圓形、矩形等，優(yōu)選為梯形截面，聚集粒子收集槽11的寬度與深度的比值為1? 5,優(yōu)選2?4,寬度優(yōu)選為6mm?12mm，深度優(yōu)選為3 mm?6mm ;沖洗控制裝置19為階梯 設計控制，控制級數(shù)優(yōu)選為2-3個。
[0020] 本發(fā)明中，涂布槽10、涂料均化器13和沖洗控制裝置19的內(nèi)部表面為光滑表面， 內(nèi)部過渡均為圓滑過渡。
[0021] 本發(fā)明中，在流速控制裝置14和涂布槽10上，刻有調(diào)節(jié)刻度標尺。
[0022] 本發(fā)明中，循環(huán)泵可以選自市售的螺桿泵、齒輪泵、蠕動泵、柱塞泵；帶馬達的攪拌 裝置3上的攪拌槳可以選自漿式、旋漿式、渦輪式或錨式攪拌槳，馬達可以是正反旋轉(zhuǎn)的調(diào) 速防爆馬達或氣動馬達，攪拌裝置安裝在可以調(diào)節(jié)的裝置上，可以調(diào)節(jié)攪拌槳葉的位置。
[0023] 以下給出幾個實施例。
[0024] 實施例1 : 如附圖1所示，其中，儲料部分包括回流液管1、補液管2、帶馬達的攪拌裝置3、供液槽 4、球閥5、循環(huán)泵6、過濾器7、供液管8,供液管8與涂布槽進料口連接。帶馬達的攪拌裝置 3安裝在一個可以升降的裝置上，它可以根據(jù)工藝條件調(diào)整攪拌槳葉的深度；供液部分包 括接液盤9、涂布槽10,進料口 12、涂料均化器13、流速控制裝置14、涂料均化器出口 15、涂 覆輥16、刮刀17,涂布部分包括涂布輥16、刮刀裝置17、涂布輥16、基膜18,進料口 12與涂 料均化器13連接，將涂料供至涂料均化器13的腔體后，通過流速控制裝置14調(diào)節(jié)，經(jīng)涂料 均化器出口 15均勻的進入涂布槽10,涂料不斷經(jīng)涂布輥16帶料，經(jīng)刮刀17刮平后，將涂料 均勻的涂覆在基膜13上，經(jīng)涂布槽10中溢出的涂料通過回流管1連接回流到供液槽4,從 而實現(xiàn)了一個循環(huán)。
[0025] 進料口 12的數(shù)量為2個，進料口 12的直徑為12mm，涂料均化器13的截面積與進 料口 12總截面積的比值為4,涂料均化器13的導流面與垂直面的夾角β為45°，涂料均 化器13的表面粗糙度Ra小于0. 05,涂料均化器出口 15的間隙為2_。涂布槽10底部的 聚集粒子收集槽11的數(shù)量為3個，截面為光滑過渡的梯形，寬度為10mm，深度為5mm，沖洗 控制裝置19調(diào)節(jié)為開度為33%，1個聚集粒子收集槽中的集聚粒子可以通過沖洗控制裝置 19流入接液盤9,聚集粒子收集槽11的表面粗糙度Ra小于0. 05。
[0026] 連續(xù)運行4個小時后，