內(nèi)燃機(jī)的排氣系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種內(nèi)燃機(jī)排氣系統(tǒng)（1），包括氧化催化轉(zhuǎn)化器（2）、顆粒過濾器（3）、用于噴射還原劑的噴射器（4）、靜態(tài)混合器-蒸發(fā)器（5）、SCR催化轉(zhuǎn)化器（6）和殼體（8），其中氧化催化轉(zhuǎn)化器（2）設(shè)置在顆粒過濾器（3）的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器（6）的上游，其中，噴射器（4）設(shè)置在混合器-蒸發(fā)器（5）的上游，且混合器-蒸發(fā)器（5）在SCR催化轉(zhuǎn)化器（6）的上游。當(dāng)殼體（8）包括中心設(shè)置的內(nèi)部通道（9）、繞內(nèi)部通道（9）同心設(shè)置的環(huán)形通道（10）、偏心設(shè)置的外部通道（11）、連接外部通道（11）與環(huán)形通道（10）的第一偏轉(zhuǎn)腔（12）和連接內(nèi)部通道（9）與環(huán)形通道（10）的第二偏轉(zhuǎn)腔（13），當(dāng)混合器-蒸發(fā)器（5）設(shè)置在內(nèi)部通道（9）中且當(dāng)氧化催化轉(zhuǎn)化器（2）或顆粒過濾器（3）或SCR催化轉(zhuǎn)化器（6）環(huán)形配置并設(shè)置在環(huán)形通道（10）中時，獲得了緊湊的設(shè)計(jì)。
【專利說明】內(nèi)燃機(jī)的排氣系統(tǒng)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種內(nèi)燃機(jī)的排氣系統(tǒng)。

【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)代內(nèi)燃機(jī)的排氣系統(tǒng)實(shí)行相對復(fù)雜的排氣再處理，其中使用了不同的排氣再處理設(shè)備。例如，使用氧化催化轉(zhuǎn)化器以利用殘留的氧轉(zhuǎn)換未消耗的烴。同樣地，一氧化碳可以在其中轉(zhuǎn)化成二氧化碳。此外，特別是在柴油發(fā)動機(jī)的情況下，設(shè)置顆粒過濾器以過濾掉廢氣中攜帶的顆粒，尤其是煙灰。此外，可設(shè)置SCR系統(tǒng)，優(yōu)選在柴油發(fā)動機(jī)的情況下，其中SCR是指選擇性催化還原。這樣的SCR系統(tǒng)通常包括噴射還原劑的噴射器和SCR催化轉(zhuǎn)化器。對于還原劑，通常使用氨或水狀尿素溶液。通過熱分解和水解，含水尿素中能產(chǎn)生出氨，其在SCR催化轉(zhuǎn)化器中可以用于將氮氧化物還原成氮?dú)夂投趸?。為了使通常以液體形式噴射到排氣流體中的還原劑在通向SCR催化轉(zhuǎn)化器的路徑上能夠蒸發(fā)并與排氣混合，需要一定的混合部件。為了改善蒸發(fā)和/或混合，并為了縮短這種混合部件，能夠使用靜態(tài)混合器-蒸發(fā)器，它們設(shè)置在噴射器和SCR催化轉(zhuǎn)化器之間。這樣的混和器-蒸發(fā)器不同于傳統(tǒng)的靜態(tài)混合器，因?yàn)橥瑫r使用混合器-蒸發(fā)器的導(dǎo)向面或?qū)蛉~片以蒸發(fā)其上沖擊的液體還原劑。特別地，這樣的混合器-蒸發(fā)器可以構(gòu)造成基本上不透光的行式，以便在必要的流體中攜帶的液滴撞擊在導(dǎo)向葉片上，并可在其上蒸發(fā)。在使用液態(tài)還原劑的SCR系統(tǒng)的情況下，這樣的混合器-蒸發(fā)器因此總是不得不設(shè)置在用于噴射液體還原劑的噴射器的下游。
[0003]在車輛應(yīng)用的情況下，還出現(xiàn)了普遍的問題，即只能獲得相對較小的容納排氣系統(tǒng)的安裝空間。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明通過提出開始部分提及的那種類型的排氣系統(tǒng)改進(jìn)實(shí)施方式解決了上述問題，其特征特別在于緊湊的設(shè)計(jì)。
[0005]根據(jù)本發(fā)明，這一問題通過獨(dú)立權(quán)利要求的主題加以解決。優(yōu)選的實(shí)施方式是從屬權(quán)利要求的主題。
[0006]本發(fā)明基于的總體思想在于提供一種用于容納排氣系統(tǒng)多個組件的共同殼體，其包括中心設(shè)置的內(nèi)部通道、圍繞內(nèi)部通道同心設(shè)置的環(huán)形通道和在環(huán)形通道外部成偏心設(shè)置的外部通道。該殼體還包括連接外部通道與環(huán)形通道的第一偏轉(zhuǎn)腔和連接內(nèi)部通道與環(huán)形通道的第二偏轉(zhuǎn)腔。前面提到的靜態(tài)混合器-蒸發(fā)器現(xiàn)在可設(shè)置在內(nèi)部通道中，而在環(huán)形通道中，可設(shè)置氧化催化轉(zhuǎn)化器或顆粒過濾器和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器，其目的在于將氧化催化轉(zhuǎn)化器或顆粒過濾器或SCR催化轉(zhuǎn)化器呈環(huán)狀配置。其余的組件設(shè)置在排氣系統(tǒng)內(nèi)，使氧化催化轉(zhuǎn)化器位于顆粒過濾器的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器的上游。此外，噴射器或者噴射點(diǎn)位于混合器-蒸發(fā)器的上游，而混合器-蒸發(fā)器設(shè)置在SCR催化轉(zhuǎn)化器的上游。通過提出的設(shè)計(jì)，獲得了共同殼體內(nèi)排氣系統(tǒng)多個元件非常緊湊的配置。通過兩個偏轉(zhuǎn)腔內(nèi)部的流體偏轉(zhuǎn)，排氣系統(tǒng)另外實(shí)現(xiàn)了極短的設(shè)計(jì)，因?yàn)橥ㄟ^共同殼體內(nèi)的偏轉(zhuǎn)，能夠?qū)崿F(xiàn)較長的流體部分，其中至少設(shè)置了混合器-蒸發(fā)器和氧化催化轉(zhuǎn)化器或顆粒過濾器。
[0007]根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施方式，殼體入口形成在外部通道上，同時這種情況下噴射器在第二偏轉(zhuǎn)腔內(nèi)與內(nèi)部通道同軸設(shè)置。穿過殼體的流體從而從外部向內(nèi)部發(fā)生，以使在排氣系統(tǒng)操作過程中，排氣因此通過外部通道進(jìn)入第一偏轉(zhuǎn)腔室，從那里通過環(huán)形通道到達(dá)第二偏轉(zhuǎn)腔并從那里流入到內(nèi)部通道。
[0008]對于另一實(shí)施方式，氧化催化轉(zhuǎn)化器可以設(shè)置在環(huán)形通道內(nèi)，而混合器-蒸發(fā)器設(shè)置在顆粒過濾器的上游，且噴射器將還原劑噴射到第二偏轉(zhuǎn)腔中。在此噴射還原劑到第二偏轉(zhuǎn)腔中是有利的，因?yàn)闊o論如何在偏轉(zhuǎn)腔中發(fā)生了強(qiáng)烈的流體偏轉(zhuǎn)，這促進(jìn)了還原劑與排氣的混合。此外，因?yàn)檫@樣，能夠?qū)⒒旌掀?蒸發(fā)器直接設(shè)置在內(nèi)部通道的入口處，使得在混合器-蒸發(fā)器的下游，內(nèi)部通道中能夠獲得額外的空間。這個空間可以用作混合部分。這個空間同樣可用于容納SCR催化轉(zhuǎn)化器或顆粒過濾器。還可以想到將SCR催化轉(zhuǎn)化器的功能集成到顆粒過濾器中，因?yàn)轭w粒過濾器的基片具有合適的SCR催化劑涂層。
[0009]因此，對應(yīng)于進(jìn)一步的改進(jìn)，顆粒過濾器可設(shè)置在內(nèi)部通道中混合器-蒸發(fā)器的下游?？蛇x擇地，SCR催化轉(zhuǎn)化器可設(shè)置在內(nèi)部通道中混合器-蒸發(fā)器的下游。正如所提到的，具有SCR催化劑涂層的顆粒過濾器也可設(shè)置在內(nèi)部通道中混合器-蒸發(fā)器的下游。
[0010]此外，顆粒過濾器可以設(shè)置在殼體外部內(nèi)部通道下游的獨(dú)立顆粒過濾器殼體中。與此類似，SCR催化轉(zhuǎn)化器可設(shè)置在殼體外部內(nèi)部通道下游的獨(dú)立SCR催化轉(zhuǎn)化器殼體中。同樣地，這里也可能的實(shí)施方式是，其中顆粒過濾器，其配備有SCR催化劑涂層，設(shè)置在殼體外部內(nèi)部通道下游的獨(dú)立殼體中。
[0011]對于可選擇的實(shí)施方式，殼體入口形成在內(nèi)部通道上，而噴射器設(shè)置在內(nèi)部通道上。通過這樣的結(jié)構(gòu)，獲得了從內(nèi)部向外部通過共同殼體的流體，使得在排氣系統(tǒng)操作期間，排氣因此經(jīng)由殼體入口進(jìn)入內(nèi)部通道，從那里到達(dá)第二偏轉(zhuǎn)腔，并通過環(huán)形通道被引導(dǎo)到第一偏轉(zhuǎn)腔，使得排氣可以通過外部通道最終排出。該實(shí)施方式也是相對緊湊的設(shè)計(jì)。
[0012]另外地或可選擇地，目前可以提供的是，顆粒過濾器和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器設(shè)置在環(huán)形通道中，而混合器-蒸發(fā)器設(shè)置在顆粒過濾器或SCR催化轉(zhuǎn)化器的上游，且噴射器將還原劑噴射到內(nèi)部通道中。在此還可以想到的是，在環(huán)形通道中，或者設(shè)置顆粒過濾器，或者設(shè)置SCR催化轉(zhuǎn)化器，或者設(shè)置具有SCR催化劑涂層的顆粒過濾器，以實(shí)現(xiàn)在此盡可能緊湊的設(shè)計(jì)。
[0013]根據(jù)優(yōu)選的進(jìn)一步改進(jìn)，氧化催化轉(zhuǎn)化器可以設(shè)置在殼體外部內(nèi)部通道上游的獨(dú)立氧化劑殼體中。
[0014]對于另一優(yōu)選的實(shí)施方式，混合器-蒸發(fā)器相對于流體可以設(shè)置在氧化催化轉(zhuǎn)化器和顆粒過濾器之間，或氧化催化轉(zhuǎn)化器和SCR催化轉(zhuǎn)化器之間。在此還構(gòu)想出一個實(shí)施方式，其中使用了包含SCR催化劑涂層的顆粒過濾器。
[0015]根據(jù)另一實(shí)施方式，噴射器能夠相對于流體將還原劑噴射到氧化催化轉(zhuǎn)化器和顆粒過濾器之間。在這種情況下，實(shí)際上可以設(shè)置的是，SCR催化轉(zhuǎn)化器與顆粒過濾器分開設(shè)置，并在這種情況下SCR催化轉(zhuǎn)化器設(shè)置在共同殼體內(nèi)部或外部的顆粒過濾器的下游。在這種情況下，顆粒過濾器從而用來實(shí)現(xiàn)混合部分或用于實(shí)現(xiàn)還原劑和排氣的充分混合。
[0016]根據(jù)實(shí)際的實(shí)施方式，在第一偏轉(zhuǎn)腔內(nèi)可發(fā)生高達(dá)180°，優(yōu)選約180°的流體偏轉(zhuǎn)。對于另一優(yōu)選的實(shí)施方式，在第二偏轉(zhuǎn)腔內(nèi)可發(fā)生高達(dá)180°，優(yōu)選約180°的流體偏轉(zhuǎn)。特別實(shí)用的結(jié)構(gòu)是，其中殼體入口和殼體出口限定了流體的平行方向。在這種情況下，連同雙向流體偏轉(zhuǎn)約180° ,還實(shí)現(xiàn)了排氣離開殼體的方向與其進(jìn)入殼體的方向相同。通過流體偏轉(zhuǎn)，實(shí)現(xiàn)了殼體相對緊湊的設(shè)計(jì)。
[0017]為了實(shí)現(xiàn)這里介紹的共同殼體，環(huán)形通道可在內(nèi)管和消音器之間徑向延伸，其中，內(nèi)管同軸地伸入消音器中。內(nèi)部通道然后在該內(nèi)管中延伸，而外部通道在獨(dú)立的外管中延伸，其設(shè)置在消音器的外部上或消音器的外部。
[0018]實(shí)際上，對于根據(jù)另一改進(jìn)的這種實(shí)施方式，第一偏轉(zhuǎn)腔設(shè)置在消音器蓋中，消音器蓋連接消音器與外管。與之相比，第二偏轉(zhuǎn)腔可設(shè)置在消音器底部區(qū)域中的消音器內(nèi)。這產(chǎn)生了共同殼體的簡單得以實(shí)現(xiàn)的結(jié)構(gòu)，降低了制造排氣系統(tǒng)的成本。
[0019]根據(jù)從屬權(quán)利，附圖和借助于附圖的相關(guān)附圖描述，獲得了本發(fā)明進(jìn)一步的重要特征和優(yōu)點(diǎn)。
[0020]應(yīng)當(dāng)理解的是，上述特征以及下面還要解釋的特征，不僅可以在指出的各自組合下使用，而且可在其他組合中或獨(dú)立地使用，而不脫離本發(fā)明的保護(hù)范圍。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]本發(fā)明的優(yōu)選示例性實(shí)施方式在附圖中示出，并在下面的描述中詳細(xì)說明，其中相同的附圖標(biāo)記指代相同或類似或功能相同的部件。
[0022]每種情況下，示意性地顯示了:
[0023]圖1-3是各種實(shí)施方式的高度簡化的通過排氣系統(tǒng)的各個縱向剖面圖；
[0024]圖4是排氣系統(tǒng)的等軸視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0025]根據(jù)圖1-3，排氣系統(tǒng)1，其用于排放并經(jīng)受內(nèi)燃機(jī)(此處未示出)的運(yùn)轉(zhuǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣再處理廢氣，包括氧化催化轉(zhuǎn)化器2、顆粒過濾器3、噴射器4、靜態(tài)混合器-蒸發(fā)器5和SCR催化轉(zhuǎn)化器6。噴射器4用于噴射還原劑，其中在圖1-3中顯示了噴射器7。
[0026]排氣系統(tǒng)I還包括殼體8,下面也可稱為共同殼體8或主殼體8,殼體8包括中心設(shè)置的內(nèi)部通道9，與內(nèi)部通道9同心設(shè)置的環(huán)形通道10，和相對內(nèi)部通道9偏心設(shè)置的外部通道11。此外，殼體8包括第一偏轉(zhuǎn)腔12，其連接外部通道與環(huán)形通道10，以及第二偏轉(zhuǎn)腔13，其連接內(nèi)部通道9與環(huán)形通道10。目前，殼體8設(shè)置用于容納排氣系統(tǒng)I的多個組件的目的。特別地，在此處顯示的所有實(shí)施方式中，將混合器-蒸發(fā)器5在這種情況下設(shè)置在內(nèi)部通道9中。此外，在圖1和圖2的實(shí)施方式的情況下，將氧化催化轉(zhuǎn)化器2設(shè)置在環(huán)形通道10中，其目的是將氧化催化轉(zhuǎn)化器2環(huán)狀配置。與之相比，在圖3所示的實(shí)施方式情況下，顆粒過濾器3呈環(huán)狀配置，并設(shè)置在環(huán)形通道10中。此外，排氣系統(tǒng)I的部件彼此呈一定關(guān)系設(shè)置。特別地，氧化催化轉(zhuǎn)化器2總是設(shè)置在顆粒過濾器3的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器6的上游。與之相比，噴射器4設(shè)置在混合器-蒸發(fā)器5的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器6的上游。在圖1和圖3所示實(shí)施方式的情況下，顆粒過濾器3和SCR催化轉(zhuǎn)化器6被設(shè)計(jì)為獨(dú)立的元件。與之相比，圖2示例性地顯示了一實(shí)施方式，其中的SCR催化轉(zhuǎn)化器6的功能集成在顆粒過濾器3中。為此，顆粒過濾器3的基片可具有催化活性的涂層，這實(shí)現(xiàn)了 SCR催化轉(zhuǎn)化器的功能。
[0027]圖1中所示的顆粒過濾器3和SCR催化轉(zhuǎn)化器6的設(shè)置也可以反向，使得SCR催化轉(zhuǎn)化器6位于顆粒過濾器3的上游。
[0028]殼體8包括殼體入口 14，以及殼體出口 15。在圖1和圖2所示的實(shí)施方式的情況下，殼體入口 14形成在外部通道11上，使得在排氣系統(tǒng)I的操作期間或相關(guān)內(nèi)燃機(jī)的操作期間，排氣在外部通道11進(jìn)入殼體8。殼體出口 15位于內(nèi)部通道9上。對于這些實(shí)施方式，噴射器4設(shè)置在與內(nèi)部通道9同軸的第二偏轉(zhuǎn)腔13上。此外，在這種情況下，氧化催化轉(zhuǎn)化器2設(shè)置在環(huán)形通道10中?；旌掀?蒸發(fā)器5位于SCR催化轉(zhuǎn)化器6的上游和顆粒過濾器3的上游。噴射器4噴射還原劑到第二偏轉(zhuǎn)腔13中?；旌掀?蒸發(fā)器5設(shè)置在內(nèi)部通道9的入口，即在面向第二偏轉(zhuǎn)腔13的內(nèi)部通道9的面端上。
[0029]此外，對于圖1所示的實(shí)施方式，顆粒過濾器3設(shè)置在內(nèi)部通道9中混合器-蒸發(fā)器5的下游。另外，在這種情況下，SCR催化轉(zhuǎn)化器6另外設(shè)置在內(nèi)部通道9，即殼體出口 15的上游。
[0030]與之相比，圖2顯示了實(shí)施方式，其中顆粒過濾器3設(shè)置在內(nèi)部通道9下游的獨(dú)立顆粒過濾器殼體16中，即殼體出口 15的下游?？蛇x擇地，SCR催化轉(zhuǎn)化器6也可以設(shè)置在殼體8外部的獨(dú)立SCR催化轉(zhuǎn)化器殼體16’中。對于圖2中所示的實(shí)施方式，SCR催化轉(zhuǎn)化器的功能，如上所述，集成在顆粒過濾器3中。此處同樣可以想到的是為共同殼體8或獨(dú)立殼體16、16’中的顆粒過濾器3和SCR催化轉(zhuǎn)化器6提供兩個獨(dú)立的元件。
[0031]此外，可以想到圖1和2所示的實(shí)施方式的組合，其中顆粒過濾器3設(shè)置在內(nèi)部通道9以及其后SCR催化轉(zhuǎn)化器6獨(dú)立設(shè)置的殼體16’中。同樣可以想到的是反向的設(shè)計(jì)，其中SCR催化轉(zhuǎn)化器6設(shè)置在內(nèi)部通道9中，而顆粒過濾器3設(shè)置在殼體8外部，內(nèi)部通道9下游的獨(dú)立殼體16中。
[0032]對于圖3中所示的實(shí)施方式，殼體入口 14形成在內(nèi)部通道9上，而殼體出口 15位于外部通道11上。在這種情況下，噴射器4設(shè)置在內(nèi)部通道9上。盡管這樣，為了能在混合器-蒸發(fā)器5的上游噴射，混合器-蒸發(fā)器5在這種情況下設(shè)置為遠(yuǎn)離內(nèi)部通道9的入口端，在圖3的實(shí)施例中，顆粒過濾器3設(shè)置在環(huán)形通道10中。類似于圖2，SCR催化轉(zhuǎn)化器可設(shè)置在獨(dú)立的SCR催化轉(zhuǎn)化器殼體16’中或在外部通道11中，它在圖3中由虛線表示。原則上，此處也可想到顆粒過濾器3和SCR催化轉(zhuǎn)化器6的反向設(shè)置，使得SCR催化轉(zhuǎn)化器6呈環(huán)狀配置，并設(shè)置在環(huán)形通道10中，而顆粒過濾器3設(shè)置在下面的獨(dú)立殼體16或外部通道11中。在這兩種情況下，混合器-蒸發(fā)器5在這種情況下設(shè)置在顆粒過濾器3的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器6的上游。對于可選擇的實(shí)施方式，在此可提供的是將SCR催化轉(zhuǎn)化器功能集成在顆粒過濾器3中。
[0033]對于圖3中所示的實(shí)施方式，另外可提供的是將殼體8外部的內(nèi)部通道9上游的氧化催化轉(zhuǎn)化器2容納在獨(dú)立的氧化劑殼體17中，其在殼體入口 14后面。
[0034]此外，值得注意的是，所有實(shí)施方式的混合器-蒸發(fā)器5相對于流體在氧化催化轉(zhuǎn)化器2和顆粒過濾器3之間進(jìn)行設(shè)置。借助于噴射器4，還原劑的噴射也可相對于流體在氧化催化轉(zhuǎn)化器2和顆粒過濾器3之間發(fā)生。
[0035]所示實(shí)施例中的外部通道11和內(nèi)部通道9彼此平行取向。在原則上，對于其他實(shí)施方式，外部通道11和內(nèi)部通道9彼此相對傾斜類似的任何角度。此外，所示實(shí)施例中的殼體入口 14和殼體出口 15的設(shè)置使得排氣流體的平行方向23、24在其中形成。特別地，流體23和24的這些方向也平行于內(nèi)部通道9的水平中心軸25。第一偏轉(zhuǎn)腔12引起了在外部通道11和環(huán)形通道10之間的180°的流體偏轉(zhuǎn)。同樣，第二偏轉(zhuǎn)腔13引起了從環(huán)形通道10向內(nèi)部通道9的180°的流體偏轉(zhuǎn)。
[0036]殼體8包括消音器18，內(nèi)管19和消音器蓋20。內(nèi)管19同軸地伸進(jìn)消音器18中。在這種情況下，環(huán)形通道10徑向形成在內(nèi)管19和消音器18之間。內(nèi)部通道9由內(nèi)管19包圍。與之相比，外部通道11容納在獨(dú)立的外管21中。這種情況下，第一偏轉(zhuǎn)腔12位于消音器蓋20中，其連接消音器18與外管21。第二偏轉(zhuǎn)室13位于消音器底部22區(qū)域中的消音器18內(nèi)部。對于圖1和圖2的實(shí)施方式，噴射器4設(shè)置在消音器的底部22上。
【權(quán)利要求】
1.一種內(nèi)燃機(jī)的排氣系統(tǒng)，具有 氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)， 顆粒過濾器(3)， 用于噴射還原劑的噴射器(4 ), 靜態(tài)混合器-蒸發(fā)器(5)， SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)， 殼體(8)，所述殼體(8)包括中心設(shè)置的內(nèi)部通道(9)、與內(nèi)部通道(9)同心設(shè)置的環(huán)形通道(10)、偏心設(shè)置的外部通道(11 )、連接外部通道(11 )與環(huán)形通道(10)的第一偏轉(zhuǎn)腔(12)和連接內(nèi)部通道(9)與環(huán)形通道(10)的第二偏轉(zhuǎn)腔(13)，其中，氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)設(shè)置在顆粒過濾器(3)的上游和SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)的上游， 其中，所述噴射器(4)設(shè)置在混合器-蒸發(fā)器(5)的上游，且混合器-蒸發(fā)器(5)在SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)的上游， 其中，所述混合器-蒸發(fā)器(5 )設(shè)置在內(nèi)部通道(9 )中， 其中，所述氧化催化轉(zhuǎn)化器(2 )或顆粒過濾器(3 )或SCR催化轉(zhuǎn)化器(6 )環(huán)狀配置并設(shè)置在環(huán)形通道(10)中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于， 殼體入口( 14)形成在外部通道(11)上， 噴射器(4)設(shè)置在與內(nèi)部通道(9)同軸的第二偏轉(zhuǎn)腔室(13)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于， 所述氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)設(shè)置在環(huán)形通道(10)中， 所述混合器-蒸發(fā)器(5)設(shè)置在顆粒過濾器(3)和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)的上游， 所述噴射器(4)將還原劑噴射到第二偏轉(zhuǎn)腔(13)中。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，所述顆粒過濾器(3)和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)設(shè)置在內(nèi)部通道(9)中混合器-蒸發(fā)器(5)的下游。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，所述顆粒過濾器(3)和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器(6)設(shè)置在殼體(8)外部、內(nèi)部通道(9)下游的獨(dú)立殼體(16)中。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于， 殼體入口( 14)形成在內(nèi)部通道(9)上， 所述噴射器(4)設(shè)置在內(nèi)部通道(9)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或6所述的排氣系統(tǒng),其特征在于， 所述顆粒過濾器(3 )和/或SCR催化轉(zhuǎn)化器(6 )設(shè)置在環(huán)形通道(10 )中， 所述混合器-蒸發(fā)器(5)設(shè)置在顆粒過濾器(3)的上游， 所述噴射器(4)將還原劑噴射到內(nèi)部通道(9)中。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，所述氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)設(shè)置在殼體(8)外部、內(nèi)部通道(9)上游的獨(dú)立殼體(16)中。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，所述混合器-蒸發(fā)器(5)相對于流體設(shè)置在氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)和顆粒過濾器(3)之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，所述噴射器(4)相對于流體將還原劑噴射到氧化催化轉(zhuǎn)化器(2)和顆粒過濾器(3)之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，在所述第一偏轉(zhuǎn)腔(12)中發(fā)生高達(dá)180°的流體偏轉(zhuǎn)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，在所述第二偏轉(zhuǎn)腔(13)中發(fā)生高達(dá)180°的流體偏轉(zhuǎn)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，殼體入口(14)和殼體出口(15)限定了流體(23、24)的平行方向。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13任一項(xiàng)所述的排氣系統(tǒng)，其特征在于，環(huán)形通道(10)在內(nèi)管(19)和消音器(18)之間徑向延伸，內(nèi)管(19)同軸地伸入消音器(18)中， 所述內(nèi)部通道(9)在內(nèi)管(19)中延伸， 所述外部通道(11)在外管(21)中延伸，所述外管(21)設(shè)置在消音器(18)的外部。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的排氣系統(tǒng),其特征在于， 所述第一偏轉(zhuǎn)腔(12)設(shè)置在消音器蓋(20 )中，所述消音器蓋(20 )連接消音器(18)與外管(21)， 所述第二偏轉(zhuǎn)腔(13 )設(shè)置在消音器底部(22)區(qū)域的消音器(18)中。
【文檔編號】F01N3/035GK104234792SQ201410234131
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月10日
【發(fā)明者】菲利克斯·哈克倫德 申請人:埃貝斯佩歇廢氣技術(shù)合資公司