用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型的目的是提供一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)電積鎳時氯氣濃度檢測不方便使真空度不能及時調(diào)節(jié)的問題，它包括主管，所述主管上設(shè)有至少一組外排管，所述外排管包括支管一和支管二，所述主管的端部依次設(shè)有取樣閥、真空調(diào)節(jié)閥，本實用新型操作方便、簡單，根據(jù)檢測的氯氣濃度及時通過真空調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)真空度大小，從而控制含氯廢氣及陽極液流速，使電積槽的真空度均衡一致，提高電積鎳的質(zhì)量；通過設(shè)置支管一和支管二，使含氯廢氣及陽極液流動順暢，不堵塞，氯氣不外溢；在支管一和支管二分別設(shè)置密封件，提高了密封性能。
【專利說明】用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及氯化電積鎳生產(chǎn)領(lǐng)域，具體涉及一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]氯化電積鎳生產(chǎn)過程中陽極產(chǎn)生的含氯氣體通過真空系統(tǒng)收集至余氯吸收處理。通常，一臺液環(huán)式真空泵要配套幾十臺電積槽，每臺槽分配的真空度將不均衡，有的電積槽真空度小，導(dǎo)致陽極液循環(huán)不好，含氯廢氣外排不及時，槽面氯氣逸散，操作環(huán)境差，影響電積鎳質(zhì)量。
[0003]為了判斷電積槽內(nèi)陽極組件是否完好，真空泵運行是否正常，氯氣濃度是否達標，需經(jīng)常取樣化驗分析，通常是在管道上鉆孔取樣，每次取樣后需把孔洞修補好，操作不方便，同時取樣不及時造成生產(chǎn)效率低。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的是提供一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中生產(chǎn)電積鎳時氯氣濃度檢測不方便使真空度不能及時調(diào)節(jié)的問題。
[0005]為此本實用新型采用如下技術(shù)方案:一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，包括主管，所述主管上設(shè)有至少一組外排管，所述外排管包括支管一和支管二，所述主管的端部依次設(shè)有取樣閥、真空調(diào)節(jié)閥。
[0006]進一步地，所述支管一和支管二的端部均設(shè)有密封件。
[0007]本實用新型的有益效果是:操作方便、簡單，根據(jù)檢測的氯氣濃度及時通過真空調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)真空度大小，從而控制含氯廢氣及陽極液流速，使電積槽的真空度均衡一致，提高電積鎳的質(zhì)量；通過設(shè)置支管一和支管二，使含氯廢氣及陽極液流動順暢，不堵塞，氯氣不外溢；在支管一和支管二分別設(shè)置密封件，提高了密封性能。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0009]下面結(jié)合附圖對本實用新型做進一步詳細說明。
[0010]如圖1所示，一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，包括主管，主管5上設(shè)有至少一組外排管，外排管包括支管一 I和支管二 2，主管5的端部依次設(shè)有取樣閥6、真空調(diào)節(jié)閥7。
[0011]支管一 I和支管二 2的端部均設(shè)有密封件3，進一步提高了密封性能。
[0012]電積鎳生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的含氯廢氣在液環(huán)式真空泵作用下通過支管一 I進入主管5，陽極液通過支管二 2進入主管5中，只要打開取樣閥6就能隨時方便的對氯氣濃度進行檢測，根據(jù)檢測的氯氣濃度及時通過真空調(diào)節(jié)閥7調(diào)節(jié)真空度大小，從而控制含氯廢氣及陽極液流速，使電積槽的真空度均衡一致，保證氯氣濃度，提高電積鎳的質(zhì)量。
【權(quán)利要求】
1.一種用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，包括主管，其特征在于:所述主管(5)上設(shè)有至少一組外排管，所述外排管包括支管一(I)和支管二(2)，所述主管(5)的端部依次設(shè)有取樣閥(6)、真空調(diào)節(jié)閥(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于電積鎳生產(chǎn)的真空度控制裝置，其特征在于:所述支管一(I)和支管二( 2 )的端部均設(shè)有密封件(3 )。
【文檔編號】C25C7/00GK203715741SQ201420089240
【公開日】2014年7月16日 申請日期:2014年2月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月28日
【發(fā)明者】辛懷達, 鄭軍福, 周通, 劉航, 王德祥, 丁慶華, 曹康學(xué), 來進平 申請人:金川集團股份有限公司