一種凈化廢硫酸銅電解液的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種凈化電解液的方法,特別涉及一種凈化廢硫酸銅電解液的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]脫除銅電解液中超量銅和其他雜質(zhì)的過程,為現(xiàn)代銅電解精煉流程的重要組成部分。在銅電解過程中,陽極板中的銅和雜質(zhì)砷、銻、鉍不斷溶解并在電解液中積累,雜質(zhì)砷、銻、鉍進(jìn)入銅電解液后,As3+和Sb 3+可逐漸被溶解在電解液中的O 2氧化成As 5+和Sb 5+,但As3+的氧化速度較Sb 3+的氧化速度快得多,因此在正常情況下,銅電解液中的砷90-95%是以As5+的形式存在,而銻則90%以上是以Sb3+的形式存在。鉍在銅電解液中無價(jià)態(tài)變化,均以Bi3+的形式存在。由于這些雜質(zhì)的析出電位與銅的析出電位接近,當(dāng)電解液中雜質(zhì)砷、銻、鉍積累到一定程度,就會(huì)與銅一起在陰極上析出,影響陰極銅的質(zhì)量。為使電解液中各成分含量比例保持在規(guī)定的范圍內(nèi),以確保電解銅產(chǎn)品質(zhì)量,必須定期定量抽取部分電解液進(jìn)行凈化處理,然后返回電解生產(chǎn)系統(tǒng)。目前銅電解液凈化的主要采用脫銅電解的方式。
[0003]脫銅電解的原理是在直流電作用下,除去循環(huán)電解液中的過量銅和其他雜質(zhì)的過程。所用陽極材料為鉛基銀(銻)合金,陰極為銅。主要電化學(xué)反應(yīng)為:
CuS04+H20==Cu+H2S04+1/202
鉛基合金陽極板在硫酸酸性電解液中電解時(shí),在陽極放電生成的Pb2+極易氧化成Pb4+,后者的硫酸鹽水解時(shí)生成PbO2,此氧化物沉積在陽極表面上形成一層致密保護(hù)膜,使鉛基合金陽極成為不溶性陽極。溶液中的Cu2+濃度隨著Cu2+在陰極上的不斷析出,而逐漸下降。當(dāng)降到一定濃度時(shí),溶液中的砷、銻、鉍等雜質(zhì)也會(huì)在陰極上析出而從銅電解液中除去。
[0004]目前傳統(tǒng)廢電解液凈化主要采取兩段電積脫銅法,第一段廢電解液(Cu:約50g/L)進(jìn)入并聯(lián)電解槽進(jìn)行電解,電解液Cu濃度小于18g/L進(jìn)入第二段工序;第二段采用串聯(lián)階梯式電解槽進(jìn)行誘導(dǎo)法脫銅脫雜,當(dāng)Cu濃度小于5g/L,脫銅脫雜電積終液經(jīng)過脫鎳工序凈化后返回銅電解精煉系統(tǒng)。在傳統(tǒng)的脫銅電解方法中,第一段并聯(lián)電解槽產(chǎn)出陰極板往往越往后雜質(zhì)含量越高,廢電解液中約64%的銅轉(zhuǎn)化為黑銅板,不能達(dá)到陰極銅標(biāo)準(zhǔn),附加值低;第二段串聯(lián)階梯式電解槽則主要產(chǎn)生黑銅粉,廢電解液中約26%的銅轉(zhuǎn)化為黑銅粉。傳統(tǒng)的脫銅電解方法砷、銻、鉍脫除率約為55%、73%、79%,產(chǎn)出黑銅板(或黑銅粉)銅砷比約為 6.6。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]本發(fā)明的目的是克服傳統(tǒng)廢電解液凈化脫銅效率不高,提供一種方法簡(jiǎn)單、脫銅脫雜效率高、運(yùn)行成本低的凈化廢硫酸銅電解液的方法。
[0006]本發(fā)明一種凈化廢硫酸銅電解液的方法,采用下述步驟予以實(shí)現(xiàn):
步驟1,廢電解液蒸發(fā)濃縮、冷卻結(jié)晶及重溶工序:廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽中廢硫酸銅電解液經(jīng)3#高位槽至蒸發(fā)釜,將蒸發(fā)釜內(nèi)的廢硫酸銅電解液于真空的條件下蒸發(fā)濃縮,經(jīng)濃縮的廢硫酸銅電解液去結(jié)晶釜冷卻結(jié)晶,所得結(jié)晶漿料經(jīng)過濾機(jī)進(jìn)行液固分離,其中所得粗硫酸銅經(jīng)重溶槽重溶后送至1#高位槽,所得硫酸銅結(jié)晶母液經(jīng)泵送至2#高位槽;一次電積補(bǔ)液槽中硫酸濃度多180g/L的補(bǔ)充液直接去1#高位槽;
步驟2,一次電積脫銅工序:上述經(jīng)重溶槽重溶后送至1#高位槽中的粗硫酸銅與來自一次電積補(bǔ)液槽中的補(bǔ)充液在1#高位槽混合后進(jìn)入一次電積脫銅系統(tǒng)進(jìn)行一次電積脫銅,所得電積銅入銅收集庫(kù),脫銅液經(jīng)低位槽一部分經(jīng)泵入重溶槽,另一部分返回精煉系統(tǒng);
步驟3,結(jié)晶母液二次電積脫銅工序:于步驟一中所得暫儲(chǔ)在2#高位槽(5 )中的硫酸銅結(jié)晶母液,進(jìn)入二次電積脫銅系統(tǒng)(6)進(jìn)行二次電積脫銅,所得的黑銅板去熔煉系統(tǒng),所得的二次脫銅終液經(jīng)低位槽(7)進(jìn)入脫鎳工序(8)回收鎳;
采用上述凈化廢硫酸銅電解液的方法,步驟I中所述蒸發(fā)釜的工作壓力為_70KPa,工作溫度為80 -900C ;所得濃縮后的廢硫酸銅電解液的密度為:1.204 ~ 1.208kg/m3;步驟I中的過濾機(jī)為帶式真空過濾機(jī);步驟I中的過濾機(jī)為帶式真空過濾機(jī),其中帶式真空過濾機(jī)的工作壓力為真空度0.053MPa。
[0007]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),一次電積補(bǔ)液槽中的補(bǔ)充液為與廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽成分相同的硫酸銅溶液或稀硫酸溶液中的一種或其組合。優(yōu)選與廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽成分相同的硫酸銅溶液。
[0008]作為本發(fā)明的優(yōu)選技術(shù)方案,采用上述技術(shù)方案的步驟2中的一次電積脫銅系統(tǒng)包括加熱器、高位槽和一次脫銅電解槽,其中:經(jīng)重溶槽重溶后送至1#高位槽中的粗硫酸銅與來自一次電積補(bǔ)液槽中的補(bǔ)充液在1#高位槽混合后進(jìn)入加熱器加熱后進(jìn)入高位槽,自流入一次脫銅電解槽,進(jìn)行一次電積脫銅。
[0009]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),采用上述技術(shù)方案的步驟3中的二次電積系統(tǒng)包括加熱器,主、輔給液器和二次脫銅電解槽,其中來自2#高位槽中的硫酸銅結(jié)晶母液進(jìn)入加熱器加熱后依次先后進(jìn)入主、輔給液器,二次脫銅電解槽,其中二次脫銅電解槽依據(jù)主、輔給液器的給液量進(jìn)行誘導(dǎo)法脫銅脫雜。
[0010]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),采用上述技術(shù)方案的步驟3中的二次電積脫銅系統(tǒng)包括加熱器,主、輔給液器和二次脫銅電解槽,其中來自2#高位槽中的硫酸銅結(jié)晶母液進(jìn)入加熱器加熱后依次先后進(jìn)入主、輔給液器,二次脫銅電解槽,所述二次脫銅電解槽依據(jù)主、輔給液器的給液量進(jìn)行誘導(dǎo)法脫銅脫雜。
[0011]采用上述技術(shù)方案的步驟3中的脫鎳工序包括冷凍結(jié)晶槽和壓濾機(jī),其中:進(jìn)入脫鎳工序的二次脫銅終液經(jīng)泵送至冷凍結(jié)晶槽進(jìn)行冷凍結(jié)晶,所得的結(jié)晶漿料被泵送至壓濾機(jī)壓濾,所得的母液經(jīng)加熱后返回電解系統(tǒng),所得的粗品硫酸鎳打包入庫(kù)。
[0012]綜上所述,采用本發(fā)明所述的廢硫酸銅的凈化方法,廢硫酸銅電解液通過濃縮結(jié)晶,將雜質(zhì)富集到二次電積液中,硫酸銅經(jīng)過重溶與硫酸濃度多180g/L的補(bǔ)充液配制成一次電積液,可以達(dá)到一段電積全部產(chǎn)出標(biāo)準(zhǔn)陰極銅,占廢電解液脫銅總量的65%以上,并且通過蒸發(fā)濃縮,使得二次電積脫銅的溶液體積減少,減少了硫酸鎳工序的處理量,降低了運(yùn)行成本。
【附圖說明】
[0013]圖1是本發(fā)明的工藝流程示意圖; 圖中,I廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽;2 3#高位槽;3蒸發(fā)釜;4 過濾機(jī);5 2#高位槽;6 二次電積脫銅系統(tǒng);7 2#低位槽;8 脫鎳工序;9重溶槽;10 —次電積脫銅系統(tǒng);11 1#低位槽;12精煉系統(tǒng);13 結(jié)晶釜;14 1#高位槽;15銅收集庫(kù);16一次電積補(bǔ)液槽。
【具體實(shí)施方式】
[0014]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說明:
本實(shí)例蒸發(fā)濃縮采用的廢硫酸銅電解液量為154m3,其中溶液中主要成分的質(zhì)量體積濃度分別為:Cu:49g/L,H2SO4:180 g/L,As:8 g/L,Sb:0.5 g/L,B1:0.5 g/L,N1:15 g/L。
[0015]實(shí)施實(shí)例一:
將154 m3廢硫酸銅電解液泵送至廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽I中,并控制于2h內(nèi)將一部分廢硫酸銅電解液暫儲(chǔ)槽I中的廢硫酸銅電解液經(jīng)3#高位槽2自流入搪瓷蒸發(fā)釜3,通過水力噴射器使得蒸發(fā)釜3內(nèi)的真空維持在-70KPa,控制蒸發(fā)釜3內(nèi)的溫度為87°C進(jìn)行真空蒸發(fā)濃縮16h,其中蒸發(fā)水量70m3,濃縮后的廢硫酸銅電解液的密度為:1.206kg/m3。濃縮結(jié)束后放料至4臺(tái)1m3不銹鋼結(jié)晶釜13,放料時(shí)間2h,經(jīng)