旋轉(zhuǎn)壓縮機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實用新型涉及壓縮設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種旋轉(zhuǎn)壓縮機。
【背景技術(shù)】
[0002]旋轉(zhuǎn)壓縮機中，電機帶動轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)，使得其內(nèi)的氣缸進行壓縮。
[0003]請參考圖1，圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種旋轉(zhuǎn)壓縮機的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0004]轉(zhuǎn)軸02上設(shè)置有轉(zhuǎn)子組件01，轉(zhuǎn)軸02的偏心部位于氣缸04內(nèi)，偏心部的兩端分別與上法蘭03及下法蘭05接觸。其中，轉(zhuǎn)子組件01及轉(zhuǎn)軸02的重力均施加于下法蘭05上。這就使得轉(zhuǎn)軸02與下法蘭05之間產(chǎn)生較大的摩擦力，使得轉(zhuǎn)軸02旋轉(zhuǎn)力矩增加，降低了旋轉(zhuǎn)壓縮機的能效。并且，轉(zhuǎn)軸02與下法蘭05的接觸面上的磨損量增加，縮短了旋轉(zhuǎn)壓縮機栗體的使用壽命。
[0005]因此，如何提高旋轉(zhuǎn)壓縮機能效及使用壽命，是本技術(shù)領(lǐng)域人員亟待解決的問題?！緦嵱眯滦蛢?nèi)容】
[0006]有鑒于此，本實用新型提供了一種旋轉(zhuǎn)壓縮機，以提高旋轉(zhuǎn)壓縮機能效及使用壽命ο
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:
[0008]從上述的技術(shù)方案可以看出，本實用新型提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機，包括殼體及設(shè)置于殼體內(nèi)的轉(zhuǎn)軸，還包括:
[0009]設(shè)置于所述轉(zhuǎn)軸底端的上磁體裝置；
[0010]設(shè)置于所述殼體內(nèi)的底部的下磁體裝置，所述上磁體裝置與所述下磁體裝置對齊且磁極為同極相對。
[0011]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體裝置包括上磁體支架及設(shè)置于所述上磁體支架遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)軸的一側(cè)的上磁體；
[0012]所述上磁體支架的另一側(cè)為小于或等于所述轉(zhuǎn)軸底端的圓形連接端。
[0013]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體支架的另一側(cè)設(shè)置有錐形凸起，其小直徑端為與所述轉(zhuǎn)軸底端連接的圓形連接端。
[0014]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體支架遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)軸的一側(cè)設(shè)置有上凹槽，所述上磁體內(nèi)嵌于所述上凹槽中。
[0015]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述下磁體裝置包括下磁體支架及設(shè)置于所述下磁體支架遠(yuǎn)離所述殼體的底部的一側(cè)的下磁體；
[0016]所述下磁體支架的另一側(cè)設(shè)置有與所述殼體的底部固定連接的支腳。
[0017]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述下磁體支架遠(yuǎn)離所述殼體底部的一側(cè)設(shè)置有下凹槽，所述上磁體內(nèi)嵌于所述下凹槽中。
[0018]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體裝置中的上磁體與所述下磁體裝置中的下磁體的結(jié)構(gòu)相同。
[0019]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體裝置中的上磁體與所述下磁體裝置中的下磁體為圓形磁體。
[0020]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體裝置中的上磁體與所述下磁體裝置中的下磁體為環(huán)形磁體。
[0021]優(yōu)選地，上述旋轉(zhuǎn)壓縮機中，所述上磁體裝置為沿所述轉(zhuǎn)軸底端的軸段的軸線對稱的結(jié)構(gòu)。
[0022]本實用新型提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機，由于上磁體裝置與下磁體裝置對齊且磁極為同極相對，使得二者之間形成相互排斥力。由于下磁體裝置設(shè)置于殼體內(nèi)的底部，上磁體裝置設(shè)置于轉(zhuǎn)軸底端，上磁體裝置與下磁體裝置產(chǎn)生的排斥力帶動轉(zhuǎn)軸向遠(yuǎn)離殼體的底部移動，進而抵消了一部分或全部轉(zhuǎn)子組件及轉(zhuǎn)軸的重量，減少或完全消除了轉(zhuǎn)軸與下法蘭之間的摩擦力，有效降低了轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)的摩擦阻力，提高了旋轉(zhuǎn)壓縮機的能效;并且，減少了轉(zhuǎn)軸與下法蘭之間的磨損量，提高了使用壽命。
【附圖說明】
[0023]為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0024]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種旋轉(zhuǎn)壓縮機的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為本實用新型實施例提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖3為圖2中I部分的局部放大圖；
[0027]圖4為本實用新型實施例提供的上磁體的第一種結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖5為本實用新型實施例提供的上磁體的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0029]本實用新型公開了一種旋轉(zhuǎn)壓縮機，以提高旋轉(zhuǎn)壓縮機能效及使用壽命。
[0030]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0031]請參考圖2和圖3，圖2為本實用新型實施例提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖2中I部分的局部放大圖。
[0032]本實用新型實施例提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機，包括殼體10、設(shè)置于殼體10內(nèi)的轉(zhuǎn)軸2、上磁體裝置及下磁體裝置，上磁體裝置設(shè)置于轉(zhuǎn)軸2底端；下磁體裝置設(shè)置于殼體10內(nèi)的底部，上磁體裝置與下磁體裝置對齊且磁極為同極相對。
[0033]本實用新型實施例提供的旋轉(zhuǎn)壓縮機，由于上磁體裝置與下磁體裝置對齊且磁極為同極相對，使得二者之間形成相互排斥力。由于下磁體裝置設(shè)置于殼體10內(nèi)的底部，上磁體裝置設(shè)置于轉(zhuǎn)軸2底端，上磁體裝置與下磁體裝置產(chǎn)生的排斥力帶動轉(zhuǎn)軸2向遠(yuǎn)離殼體10的底部移動，進而抵消了一部分或全部轉(zhuǎn)子組件及轉(zhuǎn)軸2的重量，減少或完全消除了轉(zhuǎn)軸2與下法蘭5之間的摩擦力，有效降低了轉(zhuǎn)軸2旋轉(zhuǎn)的摩擦阻力，提高了旋轉(zhuǎn)壓縮機的能效;并且，減少了轉(zhuǎn)軸2與下法蘭5之間的磨損量，提高了使用壽命。
[0034]可以理解的是，上磁體裝置與下磁體裝置之間形成相互排斥力與二者之間的間隙成反比，二者越靠近排斥力越大。間隙的具體尺寸依實際需求而定。本實施例中，轉(zhuǎn)子組件1位于轉(zhuǎn)軸2上，轉(zhuǎn)軸2的偏心部位于氣缸4內(nèi)，兩端分別與上法蘭3及下法蘭5之間，轉(zhuǎn)子組件1的重力由轉(zhuǎn)軸2施加于下法蘭5與轉(zhuǎn)軸2的偏心部的接觸面上。
[0035]如圖3所示，轉(zhuǎn)軸2穿過下法蘭5后與上磁體裝置連接。為了避免上磁體裝置與下法蘭5發(fā)生干涉，上磁體裝置與轉(zhuǎn)軸2的連接處不能大于轉(zhuǎn)軸2底端。為了確保排斥力及便于安裝的考慮，上磁體裝置包括上磁體支架6及設(shè)置于上磁體支架6遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)軸2的一側(cè)的上磁體7;上磁體支架6的另一側(cè)為小于或等于轉(zhuǎn)軸2底端的圓形連接端。由于上磁體支架6遠(yuǎn)