專利名稱：一種真空度調(diào)節(jié)控制器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種真空度調(diào)節(jié)控制器，尤其涉及一種在有機合成實驗室中進行真空 操作時對真空度進行調(diào)節(jié)和控制的真空度調(diào)節(jié)控制器。
背景技術(shù)：
真空操作是實驗室中最常用的一種操作之一，主要用于氣體置換，固體抽濾，液體 減壓蒸餾(包括分餾和精餾)等。特別是對含有高沸點組分進行減壓蒸餾操作時，因為要 根據(jù)體系中不同組分蒸汽壓之間的差異來選擇溫度和真空度實驗參數(shù)，所以能對真空度進 行有效的調(diào)節(jié)和控制是十分重要的?，F(xiàn)有實驗室真空度調(diào)節(jié)和控制的方法是在與體系相連的T或Y型管的一端上連接 一條乳膠管，通過調(diào)節(jié)螺旋夾來調(diào)節(jié)真空度。這不僅調(diào)節(jié)粗糙，經(jīng)常會發(fā)生的是在體系真空 度較高時乳膠管會吸合在一起，使螺旋夾失去調(diào)節(jié)功能。為了防止于此，有時在乳膠管中放 一根細金屬絲，但這會使真空度很難精細調(diào)節(jié)和控制。

發(fā)明內(nèi)容
針對上述缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)合理、操作方便、生產(chǎn)容易、能有 效地調(diào)節(jié)和控制真空度的真空度調(diào)節(jié)控制器。本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容為，一種真空度調(diào)節(jié)控制器，其特征是它包括T型三通、外筒、 內(nèi)管和支墊，外筒套在內(nèi)管上，在外筒內(nèi)的內(nèi)管的一端設(shè)有一密封圈，在內(nèi)管的另一端設(shè)有 支撐片；在與支撐片對應(yīng)的外筒一端上設(shè)有外撐片，T型三通連接在外筒的另一端，；支墊設(shè) 在支撐片和外撐片中間；在靠近τ型三通連接處的外筒上設(shè)有2個以上小孔；小孔的直徑 為0 = 0. 1 0. 5 mm:相鄰兩小孔的間距L = 3 7mm，支墊的高度H = W+M+(N-l/2) L，其 中M =內(nèi)管完全插入外筒后內(nèi)管的支撐片與外筒的外撐片的間距，W為與離外筒連接T型 三通端最近的小孔到外筒該端處的距離，N為用于與大氣相通的小孔的個數(shù)。本發(fā)明真空度調(diào)節(jié)控制器的材料可用金屬，朔料，玻璃等；密封圈可用橡膠， TEFLON等；支墊可用金屬，朔料，橡膠，木材等。本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有的優(yōu)點是1、本發(fā)明結(jié)構(gòu)合理，操作方便；2、本發(fā)明可有效地調(diào)節(jié)真空度，并能定量地控制真空度；
四

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本發(fā)明中內(nèi)管完全插入外筒后的結(jié)構(gòu)示意圖。
五具體實施例方式如圖1和圖2所示，一種真空度調(diào)節(jié)控制器，其特征是它包括T型三通1、外筒2、內(nèi)管3和支墊4，外筒2套在內(nèi)管3上，在外筒2內(nèi)的內(nèi)管3的一端設(shè)有一密封圈3. 1，在內(nèi) 管3的另一端設(shè)有支撐片3. 2 ；在與支撐片3. 2對應(yīng)的外筒2 —端上設(shè)有外撐片2. 1，T型 三通1連接在外筒2的另一端，；支墊4設(shè)在支撐片3. 2和外撐片2. 1中間；在靠近T型三 通1連接處的外筒2上設(shè)有5個小孔2. 2 ；小孔2. 2的直徑為0 = 0. 4 mm;相鄰兩小孔的間 距L = 5mm，支墊的高度H = W+M+(N-1/2) L，其中M =內(nèi)管完全插入外筒后內(nèi)管的支撐片與 外筒的外撐片的間距=20mm，W為與離外筒連接T型三通端最近的小孔到外筒該端處的距 離為5mm，N為用于與大氣相通的小孔的個數(shù)。 本發(fā)明的工作原理為當(dāng)通過支撐片3.2向外拉內(nèi)管3時，可依次使外筒2的小 孔2. 2與真空體系相連而破空，降低和定量控制真空度，T型三通1用于與體系相連；支 墊4用于支撐內(nèi)管3因真空拉力向內(nèi)移動；連接好系統(tǒng)，啟動真空泵，當(dāng)真空度達到ImmHg 時，向外拉內(nèi)管使第1個小孔與大氣相通，N= 1，支墊的高度為H = W+M+(N-1/2)L = 5+20+(1-1/2) X5 = 27. 5mm，墊好支墊，1分鐘后真空度變?yōu)?mmHg左右；穩(wěn)定后向外拉內(nèi) 管3至第2個孔，使第1和第2個小孔與大氣相通，N = 2，支墊的高度為H = ff+M+(N-l/2) L = 5+20+(2-1/2) X5 = 32. 5mm，墊好支墊，1分鐘后真空度變?yōu)镮OmmHg左右；穩(wěn)定后向 外拉內(nèi)管3至第3個孔，使第1、第2和第3個小孔與大氣相通，N = 3,支墊的高度為H = ff+M+(N-l/2)L = 5+20+(3-1/2) X5 = 37. 5mm，墊好支墊，1 分鐘后真空度變?yōu)?15mmHg左右； 穩(wěn)定后向外拉內(nèi)管3至第4個孔，使第1、第2、第3和第4個小孔與大氣相通，N = 4，支墊 的高度為H = ff+M+(N-l/2)L = 5+20+(4-1/2) X5 = 42. 5mm，墊好支墊，1分鐘后真空度變 為20mmHg左右；穩(wěn)定后向外拉內(nèi)管3至第5個孔，使第1、第2、第3、第4和第5個小孔與 大氣相通，N = 5，支墊的高度為 H = ff+M+(N-l/2)L = 5+20+(5-1/2) X5 = 47. 5mm，墊好支 墊，1分鐘后真空度變?yōu)?5mmHg左右。
權(quán)利要求
一種真空度調(diào)節(jié)控制器，其特征是它包括T型三通(1)、外筒(2)、內(nèi)管(3)和支墊(4)，外筒(2)套在內(nèi)管(3)上，在外筒(2)內(nèi)的內(nèi)管(3)的一端設(shè)有一密封圈(3.1)，在內(nèi)管(3)的另一端設(shè)有支撐片(3.2)；在與支撐片(3.1)對應(yīng)的外筒(2)一端上設(shè)有外撐片(2.1)，T型三通(1)連接在外筒(2)的另一端，；支墊(4)設(shè)在支撐片(3.2)和外撐片(2.1)中間；在靠近T型三(1)通連接處的外筒(2)上設(shè)有2個以上小孔(2.2)，小孔(2.2)的直徑為相鄰兩小孔(2.2)的間距L＝3～7mm；支墊(4)的高度H＝W+M+(N 1/2)L，其中M＝內(nèi)管(3)完全插入外筒(2)后內(nèi)管(3)的支撐片(3.2)與外筒(2)的外撐片(2.1)的間距，W為與離外筒(2)連接T型三通(1)端最近的小孔(2.2)到外筒(2)該端處的距離，N為用于與大氣相通的小孔(2.2)的個數(shù)。FSA00000201063500011.tif
全文摘要
本發(fā)明涉及一種真空度調(diào)節(jié)控制器，其特征是它包括T型三通、外筒、內(nèi)管和支墊，外筒套在內(nèi)管上，在外筒內(nèi)的內(nèi)管的一端設(shè)有一密封圈，在內(nèi)管的另一端設(shè)有支撐片；在與支撐片對應(yīng)的外筒一端上設(shè)有外撐片，T型三通連接在外筒的另一端；支墊設(shè)在支撐片和外撐片中間；在靠近T型三通連接處的外筒上設(shè)有2個以上小孔。本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)合理、操作方便、生產(chǎn)容易、能有效地調(diào)節(jié)和控制真空度的優(yōu)點。
文檔編號F16K11/07GK101907181SQ20101023381
公開日2010年12月8日 申請日期2010年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月22日
發(fā)明者李剛 申請人:無錫貝塔醫(yī)藥科技有限公司