專利名稱：流體流動控制裝置的噪聲減少流體通道的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及流體流動控制裝置，及更確切地，涉及流體流動控制裝置的改進的噪 聲減少機構。本發(fā)明還涉及用于這種流體流動控制裝置的調整盤組件。
背景技術：
在很多工業(yè)領域，減少管道內的流體(液體及氣體)壓力經常是必要的。流體流 動控制閥系統(tǒng)經常由于這個目而使用。流體流動控制閥系統(tǒng)的各種設計在本技術領域內已 呈現(xiàn)。例如，多個曲折流體流動路徑可以提供于流體流動控制閥內。當流體通過曲折流體 流動路徑時，造成流體多次改變方向。另外，當流體行進通過曲折流體流動路徑時，可以增 加流體流動路徑的整個截面區(qū)域，以提供流動路徑內流體速度的減少。這些裝置一般指“曲 折路徑調整裝置”已提供的曲折路徑調整裝置包括多個基本平的圓盤，一個在另一個頂部地堆放， 以提供中空的圓柱結構。這種結構一般指“閥調整盤組件”。各個圓盤通常包括通過圓盤形 成的多個空隙。圓盤可以對齊及堆放在一起，以通過圓盤上的空隙提供多個連續(xù)的、曲折的 流體路徑，流體路徑從中空的圓柱閥調整圓盤組件的中心區(qū)域延伸至閥調整圓盤組件的外 部。閥調整圓盤組件通常提供于流體流動控制閥的本體內。流體流動控制閥的本體配 置為引導流體從入口朝向中空的、圓柱閥調整圓盤組件。閥還可以配置為引導流體通過閥 調整圓盤組件朝向流體出口至其外部。流體流動控制閥可以包括活塞，配置為插入閥調整 圓盤組件的中心區(qū)域，從而中斷通過閥調整圓盤組件的流體流動，并關閉閥。加壓的液體包含存儲的機械勢能。閥調整圓盤組件通過減少流體的壓力和速度消 耗這種能量。當流體流動通過流體通道時，流體流動可能是洶涌的。洶涌的流體聯(lián)合作用 于導管和流體控制裝置的結構元件上的壓力和速度波動，流體在導管和流體控制裝置內流 動。這些壓力和速度波動造成振動和噪聲。在很多應用中，噪聲是流體流動控制裝置的不 合需要的或不被接受的特征。因此，本技術領域內已呈現(xiàn)的閥調整組件具有易于在其內產生抑制噪聲的特征的 設計。但是，基本無聲的閥仍然有待發(fā)掘，及希望得到噪聲抑制方面的增加的改進。

發(fā)明內容
本發(fā)明在多個代表性的實施例中提供成本低的組件，通過該組件，可以改進流體 流動控制裝置內的壓力減少構件，以減少傳輸噪聲。根據本發(fā)明的一種實施例，用于裝置內的調整圓盤組件用于控制流體流動，調整 圓盤組件包括基本平的第一圓盤及基本平的第二圓盤。第一圓盤具有第一主要表面及第二 主要表面。第一圓盤還包括細長空隙，其在第一主要表面及第二主要表面中的一個上至少 部分地通過第一圓盤而形成。第二圓盤鄰近第一圓盤設置，并也具有第一主要表面和第二 主要表面。第二圓盤還包括細長空隙，其在第一主要表面及第二主要表面中的一個上至少 部分地通過第二圓盤而形成。第二圓盤上的空隙具有的形狀和尺寸與第一圓盤上的空隙的 形狀和尺寸基本相似。第二圓盤與第一圓盤對齊，以提供在第一圓盤的空隙與第二圓盤的 空隙之間的流體流通。第一圓盤的空隙從第二圓盤的空隙偏移。第一圓盤的空隙與第二圓 盤的空隙一起至少部分地限定具有截面的流體通道，其特征是增加或減少限定細長的流體 通道的擴張/收縮機構的截面區(qū)域。根據本發(fā)明的另一實施例，控制流體流動的裝置包括流體入口、流體出口、及調整 圓盤組件，調整圓盤組件配置為提供設置在流體入口的流體與設置在流體出口的流體之間 的壓力差。調整圓盤組件包括基本平的第一圓盤，包括第一主要表面和第二主要表面。第一 圓盤還包括細長空隙，在第一主要表面和第二主要表面中的一個上至少部分通過第一圓盤 而形成。第二圓盤鄰近第一圓盤設置，并包括第一主要表面和第二主要表面。第二主要表 面還包括細長空隙，在第一主要表面及第二主要表面中的一個上至少部分地通過第二圓盤 而形成。第二圓盤的空隙具有的形狀和尺寸與第一圓盤上的空隙的形狀和尺寸基本相似。 第二圓盤與第一圓盤對齊，提供在第一圓盤空隙與第二圓盤空隙之間的流體流通。第一圓 盤的空隙從第二圓盤的空隙偏移。第一圓盤的空隙與第二圓盤的空隙一起至少部分地限定 具有截面的流體通道，其特征是增加或減少限定細長的流體通道的擴張/收縮機構的截面 區(qū)域。仍然在另一實施中，本發(fā)明包括用于控制流體流動的裝置，包括流體入口、流體出 口、及多個流體通道，延伸于流體入口和流體出口之間。各個流體通道具有截面區(qū)域，特征 是至少兩個鄰接的、偏移的形狀。截面區(qū)域通過流體通道的壁部限定的多個側面完全界定， 多個側面中的兩個側面在第一點上相接，第一點限定在第一點上相接的側面之間的第一角 的頂點。多個側面中的兩個側面在第二點上相接，第二點限定在第二點上相接的側面之間 的第二角的頂點。第一角等于第二角，及第一角和第二角各超過180度。通過考慮下面結合附圖的詳細描述，本發(fā)明的特征、優(yōu)點、及可選方面對于本技術 領域的那些技術人員是顯而易見的。


雖然說明書由權利要求做出結論，權利要求特別指出并明確地主張認本發(fā)明內 容，當與附圖聯(lián)合理解時，本發(fā)明的優(yōu)點從下面的本發(fā)明的描述中可以更容易確定，其中圖1為合并本發(fā)明教導的代表性的流體流動控制裝置的垂直截面視圖；圖2為一組調整圓盤的垂直側視圖，其可以用作代表性的調整圓盤組件，其具體 實施圖1所示的流體流動控制裝置中本發(fā)明的另一教導。
圖3為代表性間隔圓盤的平面圖，可以一體合成于一組調整圓盤內；圖4為圖1-圖2所示的該組調整圓盤的代表性的第一調整圓盤的平面圖；圖5為圖1-圖2所示的該組調整圓盤的代表性的第二調整圓盤的平面圖；圖6為圖3所示的第一調整圓盤的平面圖，與圖4所示的第二調整圓盤相鄰并對 齊設置。圖7為圖6所示的部分流體通道的局部放大平面圖；圖8為圖7所示的部分流體通道沿剖面線8-8的部分截面圖；圖9為相似于圖8的局部截面圖，還舉例說明了設置于相鄰的調整圓盤之上及之 下的間隔圓盤；及圖IOa-IOc示出了可選的流體通道的局部截面圖，流體通道可以提供于具體實施 本發(fā)明教導的代表性的調整圓盤組件內。
具體實施例方式雖然前面的描述包含很多細節(jié)，這些不應該解釋為本發(fā)明范圍的限制，而是僅僅 作為提供的一些代表性實施例的舉例說明。相似地，可以設計本發(fā)明的其它實施例而不脫 離本發(fā)明的精神或范圍。不同實施例的特征可以結合采用。從而，本發(fā)明的范圍僅僅通過 所附的權利要求及它們的法律等同指示并限制，而不是通過前面的描述。落在權利要求的 意圖和范圍內的所有本發(fā)明的增加、刪除、及改動，如此處所公開，均被包含于此。圖1為具體實施本發(fā)明教導的代表性的流體流動控制裝置10的垂直截面圖。流 體流動控制裝置10包括流體入口 12、流體出口 14、及調整圓盤組件20。另外，流體流動控 制裝置10可以包括活塞機構16，配置為選擇地中斷流體入口 12與流體出口 14間的流體流 通。在流動控制裝置10的運作期間，流體入口 12上的流體壓力可能高于出口 14上的流體 壓力?；钊麢C構16在圖1中以在兩個不同位置上的分裂圖示示出。圖1左邊上示出的 活塞機構16在關閉的第一選擇位置，其中，流體入口 12與流體出口 14間的流體流通已經 由活塞18物理中斷。圖1右邊上示出的活塞機構16在開啟的第二選擇位置，其中，活塞18 縮進，以在流體入口 12與流體出口 14間提供流體流通。當活塞機構16在開啟的第二選擇 位置上，響應于提供在流體入口 12與流體出口 14間的壓力差，允許流體從流體入口 12向 上流動進入調整圓盤組件20的內部空隙22中。如此處隨后將會詳細描述，通過調整圓盤 組件20內的流體通道至流體通道和流體出口 14的外部而提供流體連通。流動控制裝置10 的本體內的間隔或過道19可以環(huán)繞調整圓盤組件20，以接收或收集經過調整圓盤組件20 的流體。間隔或過道19可以配置為朝向流體出口 14引導流體。示于圖1中的調整圓盤組件20可以包括多個基本上平的圓盤，一個鄰近于另一個 堆放，以提供三維結構。另外，調整圓盤組件20可以包括一個鄰近于另一個堆放的基本上 平的圓盤的多個基本上同樣的組，圓盤組一個鄰近于另一個堆放，以提供三維結構。圖2為代表性的一個鄰近于另一個堆放的基本上平的圓盤組24的側視圖。多個 組24可能一個鄰近于另一個堆放并固定，以提供圖1所示的調整圓盤組件20。如圖2所 示，圓盤組24可以包括第一間隔圓盤26a、第一流體通道圓盤30、第二流體通道圓盤40、及 第二間隔圓盤26b。第一流體通道圓盤30及第二流體通道圓盤40 —個鄰近于另一個堆放并固定。第一流體通道圓盤30可以為基本上平的，并可以具有第一主要表面31a及第二主 要表面31b。相似地，第二流體通道圓盤40可以為基本上平的，并可以具有第一主要表面 41a及第二主要表面41b。 第一間隔圓盤26a可以鄰近于第一主要表面31a上的對立于第二流體通道圓盤40 的第一流體通道圓盤30提供并固定，及第二間隔圓盤26b可以鄰近于第二主要表面41b上 的對立于第一流體通道圓盤30的第二流體通道圓盤40提供并固定。通過提供的螺釘或銷 釘(未示出)穿過孔25，第一間隔圓盤26a、第一流體通道圓盤30、第二流體通道圓盤40、 及第二間隔圓盤26b可以彼此對齊并固定，孔25可以通過在被選位置上的各個變化的圓盤 提供?；蛘?，除了通過螺釘或銷釘?shù)姆绞剑梢酝ㄟ^例如銅焊或焊接將圓盤彼此固定?，F(xiàn)在，進一步詳細描述圖2中所示的各組圓盤24。第一間隔圓盤26a及第二間隔圓盤26b可以是相同的。圖3為第一間隔圓盤26a 及第二間隔圓盤26b的特別實施例的平面圖。如此處所示，各個第一間隔圓盤26a及第二 間隔圓盤26b可以為基本上平的并可以具有圓柱形的形狀。如前所述，可以通過第一間隔 圓盤26a及第二間隔圓盤26b在其上的被選位置提供孔25。在各個第一間隔圓盤26a及第 二間隔圓盤26b上可以提供更大的孔，以在調整圓盤組件20 (示于圖1)內提供部分內部空 隙22。圖4為具體實施本發(fā)明教導的代表性的第一流體通道圓盤30的平面圖。參照圖 2，如前所述，可以通過第一流體通道圓盤30在其被選的位置上提供孔25。可以在第一流 體通道圓盤30的中心上提供更大的孔，以在調整圓盤組件20 (示于圖1)內提供部分內部 空隙22。第一流體通道圓盤30還可以包括至少一個空隙32，空隙32具有基本上呈環(huán)形的 形狀。另外，第一流體通道圓盤30還可以包括多個細長的通路或空隙34。細長空隙34可 以在緊接于內部空隙22與空隙32的區(qū)域之間的大體上徑向的方向上延伸。各個細長空隙 34可以包括至少兩個直的、細長段，段為端對端連接，并指向彼此相對的角，以在細長空隙 34內提供多個呈V字形的轉向。例如，各個細長空隙34可以包括四個或更多直的、細長段，段為端對端連接，并指 向彼此相對的角，以在空隙34內提供三個或更多的呈V字形的轉向。在這種配置中，各個 細長空隙34可以呈Z字形側向后及側向前，如細長空隙34在大體徑向方向延伸。各個細 長空隙34可以與空隙32相接續(xù)。而且，各個細長空隙34的寬度可以增加，如在徑向向外 方向上延伸的空隙。在本發(fā)明的可選實施例中，細長空隙34除了 Z字形配置，可以包括方向上的改變， 或它們可以為直線的。再次參照圖2，空隙32與細長空隙34可以從其第一主要表面31a延伸通過第一流 體通道圓盤30至其第二主要表面31b?；蛘?，空隙32與細長空隙34可以僅部分地延伸通 過第一流體通道圓盤30進入其第二主要表面31b。圖5為第二流體通道圓盤40的代表性實施例的平面圖。參照圖2，如前所述，可 以通過第二流體通道圓盤40在其不同的被選位置上提供孔25?？梢栽诘诙黧w通道圓盤 40的中心上提供更大的孔，以在調整圓盤組件20 (示于圖1)內提供部分內部空隙22。第 二流體通道圓盤40還可以包括至少一個空隙42，空隙42具有基本上呈環(huán)形的形狀。另外， 第二流體通道圓盤40包括多個細長的通路或空隙44。各個細長空隙44具有的形狀和尺寸與前述的圖4的第一流體通道圓盤30的形狀和尺寸基本相似。例如，細長空隙44可以在緊接于內部空隙22及空隙42的區(qū)域之間的大體徑向的 方向上延伸。各個細長空隙44可以包括至少兩個直的、細長段，段為端對端連接，并指向彼 此相對的角，以在細長空隙44內提供多個呈V字形的轉向。例如，各個細長空隙44可以包 括四個或更多直的、細長段，段為端對端連接，并指向彼此相對的角，以在細長空隙44內提 供三個或更多的呈V字形的轉向。在這種配置中，各個細長空隙44可以呈Z字形側向后及 側向前，如細長空隙44在大體徑向的方向上延伸。各個細長空隙44可以與空隙42相接續(xù)。 而且，各個細長空隙44的寬度可以增加，如在徑向向外方向上延伸的空隙。再次參照圖2，空隙42與細長空隙44可以從其第一主要表面41a延伸通過第一流 體通道圓盤40至其第二主要表面41b?；蛘?，空隙42與細長空隙44可以僅部分地延伸通 過第一流體通道圓盤40進入其第二主要表面41b。第二流體通道圓盤40，還包括多個流體入口空隙46及多個流體出口空隙48。流 體入口空隙46可以與在圓盤40中心上的更大空隙接續(xù)，其形成調整圓盤組件20的部分內 部空隙22。各個流體入口空隙46可以聯(lián)合并相應于一個細長空隙44。在這種配置中，各 個流體入口空隙46可以配置為允許流體從內部空隙22通過進入調整圓盤組件20內的通 道(沒有示于圖5中)，及各個流體出口空隙48可以配置為允許流體從調整圓盤組件20通 過流出至其外部。調整圓盤組件20的運作將于下面更詳細地描述。圖6為舉例說明示于圖4的第一流體通道圓盤30的平面圖，其與圖5所示的第二 流體通道圓盤40鄰近并對齊地設置。示出的第二流體通道圓盤40設置于第一流體通道圓 盤30的下面，以清楚地示出各個分別的圓盤的特征之間的對齊及相互作用。如在圖6中可見，第一流體通道圓盤30的細長空隙34及第二流體通道圓盤40的 細長空隙44彼此相對交錯或偏移。細長空隙34與細長空隙44之間提供流體流通。細長 空隙34與細長空隙44 一起至少部分地限定流體通道50。第一流體通道圓盤30的環(huán)形空隙32及第二流體通道圓盤的環(huán)形空隙42 —起限 定聲腔55，聲腔55也具有環(huán)形形狀。聲腔55可以配置為減少、削弱、消除、改道、抑止、或其 它的方式克服產生于流體通道50內的聲音干擾。聲腔55可以配置為一體合并克服聲音干 擾的很多特別的特征。例如，聲腔55可以配置為與相應的產生于流體通道50內的聲波的 一個或多個頻率共振。而且，調諧的頻率可以超出具有進入聲腔55的至少一些聲音的相位 大約180度。當縮進流體流動控制裝置10的活塞18時，如示于圖1的右側，及壓力差應用于流 體入口 12與流體出口 14之間，流體可以流進調整圓盤組件20的內部空隙22。通過第二流 體通道圓盤40的流體入口空隙46，在流體通道50與調整圓盤組件20的內部空隙22之間 提供流體流通。流體以徑向向外的方向流過流體通道50，進入聲腔55。通過第二流體通道 圓盤40的流體出口空隙48，在聲腔55與調整圓盤組件20的外部之間提供流體流通。流體出口空隙48可以配置為噪聲頻率位移通道，其增加與流過調整圓盤組件20 的流體相聯(lián)合的聲音干擾的聲頻。流體出口空隙的截面區(qū)域和長度可以為使通過流體出口 空隙48傳輸?shù)娜魏温曇舾蓴_具有比和流體流動控制裝置10的其它部分相關聯(lián)的聲音干擾 明顯更高的頻率。圖7為示于圖6的部分流體通道50的局部放大平面圖。示出的流體流過流體通道50，流體通道50由第一流體通道圓盤30的細長空隙34及第二流體通道圓盤40的細長 空隙44提供。流體可以從內部空隙22以大體徑向向外的方向朝向調整圓盤組件20的外 部通過流體通道50，該方向由示于流體通道50內的方向箭頭表示。如圖7所示，流體通道 50可以包括多個直的、細長段52，段52為端對端連接，并指向彼此相對的角，以在流體通道 50內提供多個呈V字形的轉向。在這種配置中，細長的流體通道50具有的截面的特征為，沿流體通道50長度上的 截面的尺寸的增加和減少。當流體流過流體通道50時，流體通道50的截面的尺寸增加，變 成V字形轉向54，從而造成流體的擴張。當來自V字形轉向54的流體流動時，流體通道50 的截面區(qū)域的尺寸減少，從而造成流體收縮。在這個方式中，流體擴張/收縮機構可以通過 流體通道50提供。而且，流體通道50的截面區(qū)域的波動可以配置為在流體通道內在徑向向外的方 向上提供大體增加的截面區(qū)域。在這個配置中，當流體在徑向向外的方向上流動時，流過流 體通道50的流體流動的速度可以漸漸減少。在這個方式中，通過流體通道50提供流體速 度控制機構。在示于圖6-圖7的流體通道50中，通過流體通道50的共有部分限定速度控制機 構及擴張/收縮機構。在具體實施本發(fā)明教導的可選流體通道中，可以在流體通道的不同 段上提供速度控制機構及擴張/收縮機構。具體實施本發(fā)明教導并包括大體呈V字形彎曲(如示于圖7內的流體通道50)的 流體通道或流體流動路徑的其它改變的流體通道造成個別的流體分子向很多不同的且不 可預知的方向移動，結果導致壓力、流體速度、及幾何特征及通道尺寸、表面影響及動蕩的 其它影響。然而，流體將大體沿流體通道以從較高流體壓力的區(qū)域離開的路徑并朝向較低 流體壓力的區(qū)域被引導。這樣，用于此處的“流體流動的總路徑”指大體通過圖7的箭頭方 向所示流體通道50的接續(xù)部分限定的路徑。雖然描述于此處的特別的實施例包括具有基本呈V字形彎曲或轉向的流體通道， 如示于圖7中的V字形轉向54，可以理解，本發(fā)明的其它實施例可以包括具有各種其它彎曲 或轉向配置的流體通道，例如，弓形彎曲。圖8為示于圖7的部分流體通道沿剖面線8-8的局部截面圖。如圖8所示，第一 流體通道圓盤30的細長空隙34及第二流體通道圓盤40的細長空隙44各自可以包括具有 矩形形狀的截面區(qū)域。而且，第一流體通道圓盤30的細長空隙34可以從第一主要表面31a 通過圓盤30延伸至其第二主要表面31b。相似地，第二流體通道圓盤40的細長空隙44可 以從第一主要表面41a通過圓盤40延伸至其第二主要表面41b。圖9為相似于圖8的局部截面圖，還示出了在第二流體通道圓盤40的對立側的鄰 近第一流體通道圓盤30提供并固定的第一間隔圓盤26a，及在第一流體通道圓盤30的對立 側的鄰近第二流體通道圓盤40提供并固定的第二間隔圓盤26b。如圖9所示，接續(xù)的部分 流體通道50可以具有未分開的截面，其通過至少兩個鄰接的、錯列的(分別通過細長空隙 34及細長空隙44限定)的空隙限定?？障犊梢跃哂写篌w呈矩形的形狀。流體通道50可以包括多個壁部，壁部通過各個第一間隔圓盤26a、第二間隔圓盤 26b、第一流體通道圓盤30、及第二流體通道圓盤40的部分表面至少部分地限定。例如，可 以通過第一間隔圓盤26a的部分表面提供流體通道的壁部56a?？梢酝ㄟ^第一流體通道圓盤30的部分表面提供壁部56b、56c、及56d?？梢酝ㄟ^第二流體通道圓盤40的部分表面提 供壁部56e、56f、及56g。最后，可以通過第二間隔圓盤26b的部分表面提供壁部56h。流體通道50的截面區(qū)域由流體通道50的壁部56a_56h限定的側面完全界定。由 壁部56b和56d限定的截面區(qū)域的側面在第一點58a上相接，其限定第一角60a的頂點。 由壁部56f和56g限定的截面區(qū)域的側面在第二點58b上相接，其限定第二角60b的頂點。 第一角60a可以等于第二角60b，及各個第一角60a和第二角60b可以超過180°。例如， 各個第一角60a和第二角60b可以為大約270°。第一角60a可以相對于第二角60b反向 指向。在具體實施本發(fā)明教導的可選調整圓盤組件中，細長的通路或空隙可以設計成僅 部分地通過流體通道圓盤，以使流體通道的界定的接續(xù)部分形成于僅堆疊的流體通道圓盤 之上，從而排除間隔圓盤的需要(如示于圖3的間隔圓盤26a及26b)。圖IOa-IOc示出了 可選的流體通道的局部截面圖，流體通道可以提供于具體實施本發(fā)明教導的代表性的調整 圓盤組件內。圖IOa示出了具體實施本發(fā)明教導的另一代表性的調整圓盤組70。調整圓盤組 70包括第一流體通道圓盤72，其與前述關于圖4中的第一流體通道圓盤30基本相似，并包 括第一主要表面75a及第二主要表面75b。調整圓盤組70還包括第二流體通道圓盤76，其 與前述關于圖5中的第二流體通道圓盤40基本相似，并包括第一主要表面79a及第二主要 表面79b。第一流體通道圓盤72可以與第二流體通道圓盤76對齊并固定，以使第一流體通 道圓盤72的第二主要表面75b與第二流體通道圓盤76的第一主要表面79a鄰近并鄰接。第一流體通道圓盤72可以包括具有矩形截面區(qū)域的細長空隙74，細長空隙74在 第二主要表面75b內部分地通過圓盤72而形成。第二流體通道圓盤76可以包括具有矩形 截面區(qū)域的細長空隙78，細長空隙78在第一主要表面79a內部分地通過圓盤76而形成。 第一流體通道圓盤72和第二流體通道圓盤76可以對齊，以使細長空隙74自細長空隙78 錯列或偏移。而且，流體流通可以提供于細長空隙74和細長空隙78之間。細長空隙74和細長空隙78 —起限定流體通道80。流體通道80可以具有的截面 特征是截面區(qū)域的增加或減少，增加或減少的截面區(qū)域以與前述示于圖7的相關流體通道 50相同的方式可以限定細長的流體通道80的擴張/收縮機構。通過示例但非限定的方法， 流體通道80可包括多個直的、細長段(未示出)，段為端對端連接，并指向彼此相對的角，以 在流體通道80內提供多個呈V字形的轉向(未示出)。在這個配置中，與圖3所示的那些相同的間隔圓盤不需要至少部分地限定在流體 通道80。多個調整圓盤組同樣指調整圓盤組70可以堆放在一起，以提供具體實施本發(fā)明教 導的調整圓盤組件。圖IOb示出具體實施本發(fā)明教導的另一仍代表性的調整圓盤組84。調整圓盤組 84可以與前述于圖IOA中的調整圓盤組70基本相同，并包括第一流體通道圓盤85、第二流 體通道圓盤87、及流體通道89。第一流體通道圓盤85可以包括具有半圓形截面區(qū)域的細 長空隙86，細長空隙86部分地通過圓盤85而形成。第二流體通道圓盤87可以包括具有 半圓形截面區(qū)域的細長空隙88，細長空隙88部分地通過圓盤87而形成。第一流體通道圓 盤85可以與第二流體通道圓盤87對齊，以使細長空隙86自細長空隙88錯列或偏移。細 長空隙86與細長空隙88 —起限定流體通道89。
圖IOc示出具體實施本發(fā)明教導的仍具代表性的調整圓盤組94。調整圓盤組94 可以與前述于圖IOA中的調整圓盤組70基本相同，并包括第一流體通道圓盤95、第二流體 通道圓盤97、及流體通道99。第一流體通道圓盤95可以包括具有梯形截面區(qū)域的細長空 隙96，細長空隙96部分地通過圓盤95而形成。第二流體通道圓盤97可以包括具有梯形截 面區(qū)域的細長空隙98，細長空隙98部分地通過圓盤97而形成。第一流體通道圓盤95可以 與第二流體通道圓盤97對齊，以使細長空隙96自細長空隙98錯列或偏移。細長空隙96 與細長空隙98 —起限定流體通道99。實驗表明，當流體通道在流體流動控制裝置中運作時，具有如此處所述的截面區(qū) 域的流體通道沿其長度傳輸?shù)脑肼曅∮谙薅ê唵我?guī)則的幾何形狀如正方形或矩形的相同 截面區(qū)域的通道沿其長度傳輸?shù)脑肼?。因此，如此處所述的調整圓盤組、調整圓盤組件、及 流體流動控制裝置可以用于有效地產生更少的噪聲或傳輸比先前使用的裝置更少的噪聲。另外，可以理解，可以以多種可選的已知的設計為調整圓盤組件或其它流體壓力 減少、流體噪聲減少和/或流體能量消耗結構提供如此處所述的具有截面的噪聲減少流體 通道。例如，具體實施本發(fā)明教導的通道可以用于所謂的曲折流體通道、劃分和/或會聚通 道、擴大和/或收縮通道、及彎曲和/或轉向通道。而且，除了流體閥，如此處所述的具有截 面的噪聲減少流體通道可以與流體流動控制裝置合成一體，包括與流體壓力減小和/或流 體能量消耗結構合成一體的任何流體控制裝置。這種裝置的特性還可以通過本發(fā)明的教導 改進。雖然前面的描述包含很多細節(jié)，這些不應該解釋為本發(fā)明范圍的限制，而是僅僅 作為提供的一些代表性實施例的說明。相似地，可以設計本發(fā)明的其它實施例而不脫離本 發(fā)明的精神或范圍。從而，本發(fā)明的范圍僅僅通過所附的權利要求及它們的法律等同指示 并限制，而不是通過前面的描述。落在權利要求的意圖和范圍內的所有本發(fā)明的增加、刪 除、及改動，如此處所公開，均被包含于此。
權利要求
一種用于控制流體流動的裝置中的調整組件，包括第一板，包括第一主要表面和第二主要表面，所述第一板包括細長空隙，所述細長空隙在所述第一板的所述第一主要表面和所述第二主要表面中的一個上至少部分地通過所述第一板而形成；第二板，鄰近于所述第一板設置，所述第二板包括第一主要表面和第二主要表面，所述第二板包括細長空隙，所述細長空隙在所述第二板的所述第一主要表面和所述第二主要表面中的一個上至少部分地通過所述第二板而形成，所述第二板的所述空隙具有的形狀和尺寸與所述第一板上的所述空隙的形狀和尺寸基本相似，所述第二板與所述第一板對齊，以在所述第一板的所述空隙與所述第二板的所述空隙之間提供流體連通，所述第一板的所述空隙從所述第二板的所述空隙偏移；以及其中，所述第一板的所述空隙和所述第二板的所述空隙一起至少部分地限定流體通道，所述第一板的所述空隙自所述第一板的所述第一主要表面延伸通過所述第一板至所述第一板的所述第二主要表面，所述第二板的所述空隙自所述第二板的所述第一主要表面延伸通過所述第二板至所述第二板的所述第二主要表面，且所述第一板和所述第二板的所述空隙一起限定至少部分聲腔，所述聲腔配置為抑制產生于所述流體通道內的聲音干擾。
2.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述空隙與所述第二板 的所述空隙均包括具有矩形形狀的截面區(qū)域。
3.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述空隙與所述第二板 的所述空隙均包括具有三角形、矩形、梯形、或半圓形形狀的截面區(qū)域。
4.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述第一主要表面鄰近 所述第二板的所述第一主要表面設置，所述第一板的所述空隙形成于所述第一板的所述第 一主要表面中，及所述第二板的所述空隙形成于所述第二板的所述第一主要表面中。
5.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述空隙自所述第一板 的所述第一主要表面延伸通過所述第一板至所述第一板的所述第二主要表面，其中，所述 第二板的所述空隙自所述第二板的所述第一主要表面延伸通過所述第二板至所述第二板 的所述第二主要表面。
6.如權利要求5所述的調整組件，其特征在于還包括至少兩個基本平的間隔板，所述 第一板和所述第二板設置于所述至少兩個間隔板之間，其中，第一間隔板的至少部分表面 和第二間隔板的至少部分表面至少部分地限定所述流體通道。
7.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述空隙和所述第二板 的所述空隙均包括至少兩個直的、細長段，所述段端對端接合，并指向彼此相對的角，以提 供在所述流體通道內的流體流動方向上限定改變的多個轉向。
8.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述第一板的所述空隙和所述第二板 的所述空隙均包括至少四個直的、細長段，所述段端對端接合，并指向彼此相對的角，以提 供在所述流體通道內的流體流動方向上限定改變的至少三個轉向。
9.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于所述流體通道包括多個壁部，所述壁部 通過鄰近于所述第一板的所述空隙的部分所述第一板及鄰近于所述第二板的所述空隙的 部分所述第二板至少部分地限定，所述流體通道在基本垂直于至少一個所述壁部的平面中 具有未分開的截面區(qū)域，所述截面區(qū)域通過由所述流體通道的壁部限定的多個側面完全地界定，所述多個側面的兩個側面在第一點上相接，所述第一點在相接于第一點的側面之間 限定第一角的頂點，所述多個側面的兩個側面在第二點上相接，所述第二點在相接于第二 點的側面之間限定第二角的頂點，所述第一角等于所述第二角。
10.如權利要求9所述的調整組件，其特征在于各個所述第一角和所述第二角超過 180 度。
11.如權利要求10所述的調整組件，其特征在于所述第一角相對于所述第二角反向 指向。
12.如權利要求1所述的調整組件，其特征在于各個所述第一板和所述第二板具有基 本呈圓形的形狀，各個所述第一板和所述第二板在基本上垂直于穿過所述板的中心軸線的 方向上延伸。
13.如權利要求12所述的調整組件，其特征在于各個所述第一板和所述第二板還包 括基本呈環(huán)形的空隙，所述第一板和所述第二板的環(huán)形空隙相對于所述流體通道徑向向外 設置，所述第一板和所述第二板的環(huán)形空隙一起限定至少部分聲腔，所述聲腔配置為抑制 產生于所述流體通道內的聲音干擾。
14.如權利要求12所述的調整組件，其特征在于所述第一板和所述第二板中的一個 包括多個頻移通路，所述頻移通路配置為在所述聲腔和所述調整組件外部之間提供流體連 通，及增加與通過所述調整組件的流體相關聯(lián)的聲音干擾的音頻。
15.如權利要求12所述的調整組件，其特征在于各個所述第一板和所述第二板還包 括基本呈環(huán)形的空隙，其以通過所述板的中心的軸線為中心，連續(xù)的流體連通提供于所述 基本呈環(huán)形的空隙與所述調整組件的外部之間，通過所述流體通道、聲腔以及頻移通路。
16.一種控制流體流動的裝置，包括流體入口 ；流體出口 ；調整組件，配置為在設置在所述流體入口的流體與設置在所述流體出口的流體之間提 供壓力差，所述調整組件包括第一板，包括第一主要表面和第二主要表面，所述第一板包括細長空隙，所述細長空隙 在所述第一板的所述第一主要表面和所述第二主要表面中的一個上至少部分地通過所述 第一板而形成；第二板，鄰近于所述第一板設置，所述第二板包括第一主要表面和第二主要表面，所述 第二板包括細長空隙，所述細長空隙在所述第二板的所述第一主要表面和所述第二主要表 面中的一個上至少部分地通過所述第二板而形成，所述第二板的所述空隙具有的形狀和尺 寸與所述第一板上的所述空隙的形狀和尺寸基本相似，所述第二板與所述第一板對齊，以 在所述第一板的所述空隙與所述第二板的所述空隙之間提供流體連通，所述第一板的所述 空隙從所述第二板的所述空隙偏移；以及其中，所述第一板的所述空隙和所述第二板的所述空隙一起至少部分地限定流體通 道，所述第一板的所述空隙自所述第一板的所述第一主要表面延伸通過所述第一板至所述 第一板的所述第二主要表面，所述第二板的所述空隙自所述第二板的所述第一主要表面延 伸通過所述第二板至所述第二板的所述第二主要表面，且所述第一板和所述第二板的所述 空隙一起限定至少部分聲腔，所述聲腔配置為抑制產生于所述流體通道內的聲音干擾。
17.如權利要求16所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板的所述 空隙和所述第二板的所述空隙具有矩形、三角形、梯形、及半圓形形狀中的一種的截面區(qū) 域。
18.如權利要求16所述的控制流體流動的裝置，其特征在于還包括至少兩個基本平 的間隔板，所述第一板和所述第二板設置于所述至少兩個間隔板之間，所述第一板的空隙 自所述第一板的所述第一主要表面延伸通過所述第一板至所述第一板的所述第二主要表 面，所述第二板的空隙自所述第二板的所述第一主要表面延伸通過所述第二板至所述第二 板的所述第二主要表面，其中，第一間隔板的至少部分表面和第二間隔板的至少部分表面 至少部分地限定所述流體通道。
19.如權利要求16所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板的所述 空隙和所述第二板的所述空隙包括至少兩個直的細長段，所述段端對端接合，并指向彼此 相對的角，以提供在所述流體通道內的流體流動方向上限定改變的多個轉向。
20.如權利要求16所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板的所述 空隙和所述第二板的所述空隙包括至少五個直的、細長段，所述段端對端接合，并指向在彼 此相對的角，以提供在所述流體通道內的流體流動方向上限定改變的至少四個轉向。
21.如權利要求20所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板和所述 第二板具有基本呈圓形的形狀，各個所述第一板和所述第二板在基本上垂直于穿過所述板 的中心的虛軸線的方向上延伸。
22.如權利要求21所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板和所述 第二板還包括基本呈環(huán)形的空隙，所述第一板的所述環(huán)形空隙和所述第二板的所述環(huán)形空 隙相對于所述流體通道徑向向外設置，所述第一板的所述環(huán)形空隙和所述第二板的所述環(huán) 形空隙一起限定至少部分聲腔，所述聲腔配置為抑制產生于所述流體通道內的聲音干擾。
23.如權利要求21所述的控制流體流動的裝置，其特征在于所述第一板和所述第二 板中的一個包括多個頻移通路，所述頻移通路配置為在所述聲腔和所述調整組件外部之間 提供流體連通，以及增加與通過所述調整組件的流體相關聯(lián)的聲音干擾的音頻。
24.如權利要求23所述的控制流體流動的裝置，其特征在于還包括大體圓柱形的環(huán) 繞所述調整組件的過道，并配置為引導流體流出所述調整組件進入所述流體出口，所述多 個頻移通路配置為引導流體以大體朝向所述流體出口的方向從所述聲腔通過，至所述調整 組件的外部。
25.如權利要求21所述的控制流體流動的裝置，其特征在于各個所述第一板和所述 第二板還包括以穿過所述板的中心的虛軸線為中心的基本環(huán)形的空隙，連續(xù)的流體流通提 供于所述基本環(huán)形的空隙與所述調整組件的外部之間，通過所述流體通道、聲腔以及頻移 通路。
26.如權利要求16所述的控制流體流動的裝置，其特征在于所述流體通道包括多個 壁部，所述壁部通過鄰近所述第一板的所述空隙的部分所述第一板及鄰近所述第二板的所 述空隙的部分所述第二板限定，所述流體通道在基本垂直于至少一個所述壁部的平面上具 有未分開的截面區(qū)域，所述截面區(qū)域通過所述流體通道的所述壁部限定的多個側面完全界 定，所述多個側面中的兩個側面在第一點上相接，所述第一點限定在所述第一點上相接的 所述側面之間的第一角的頂點，所述多個側面中的兩個側面在第二點上相接，所述第二點限定在所述第二點上相接的所述側面之間的第二角的頂點，所述第一角等于所述第二角， 所述第一角和所述第二角各超過180度。
27.如權利要求26所述的控制流體流動的裝置，其特征在于所述第一角相對所述第 二角對立指向。
28.—種控制流體流動的裝置，包括流體入口 ；流體出口 ；以及延伸于所述流體入口和所述流體出口之間的多個流體通道，各個流體通道具有的截面 區(qū)域的特征是至少兩個鄰接的、偏移的形狀，所述截面區(qū)域通過由所述流體通道的所述壁 部限定的多個側面完全界定，所述多個側面中的兩個側面在第一點上相接，所述第一點限 定在所述第一點上相接的所述側面之間的第一角的頂點，所述多個側面中的兩個側面在第 二點上相接，所述第二點限定在所述第二點上相接的所述側面之間的第二角的頂點，所述 第一角等于所述第二角，各個所述第一角和所述第二角超過180度。
29.如權利要求28所述的控制流體流動的裝置，其特征在于所述截面區(qū)域的特征是 第一區(qū)域具有第一形狀，及第二區(qū)域具有第二形狀，所述第二區(qū)域接續(xù)于并偏移自所述第 一區(qū)域，各個所述第一形狀和所述第二形狀為矩形、三角形、及半圓形中的一種。
全文摘要
本申請涉及一種流體流動控制裝置的噪聲減少流體通道。其中，用于流體流動控制裝置的調整圓盤組件包括第一圓盤(30)和第二圓盤(40)。細長空隙(34，44)形成于各個第一圓盤和第二圓盤的表面。第二圓盤與第一圓盤對齊，以在第一圓盤的空隙與第二圓盤的空隙之間提供流體連通，第一圓盤的空隙從第二圓盤的空隙偏移或堆放。第一圓盤的空隙和第二圓盤的空隙至少部分地限定流體通道(50)，流體通道的特征是截面區(qū)域的增加和減少，其限定流體通道的擴張/收縮機構。
文檔編號F16K47/02GK101929578SQ20101025199
公開日2010年12月29日 申請日期2006年2月28日 優(yōu)先權日2005年2月28日
發(fā)明者B·海恩斯 申請人:芙羅服務管理公司