專利名稱：氣體輸送裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種氣體輸送裝置，尤其涉及一種適用于半導(dǎo)體工藝的氣體輸送裝置
背景技術(shù)：
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，半導(dǎo)體工藝日趨復(fù)雜，對(duì)生產(chǎn)半導(dǎo)體制品的生產(chǎn)設(shè)備和 生產(chǎn)工藝也提出了更高的要求，對(duì)于半導(dǎo)體制品，例如有機(jī)發(fā)光顯示器件、液晶顯示器件、 非晶硅太陽(yáng)能電池板等，其工藝流程中諸多步驟都要使用到氣體，例如半導(dǎo)體制程中的干 蝕刻、氧化、離子布植、薄膜沉積等皆使用到相當(dāng)多的氣體，而氣體的純度、氣體的輸送裝 置、氣體的輸送方式則對(duì)半導(dǎo)體制品性能、良品率等有著決定性的影響。以非晶硅太陽(yáng)能電池硅膜的生產(chǎn)為例，一般的非晶硅太陽(yáng)能電池硅膜生產(chǎn)包括如 下步驟首先將玻璃基片放入真空室，之后通過(guò)過(guò)渡室進(jìn)入到非晶硅P層沉積室沉積非晶 硅P層，通過(guò)過(guò)渡室進(jìn)入到非晶硅I層沉積室沉積非晶硅I層，最后通過(guò)過(guò)渡室進(jìn)入到非 晶硅N層沉積室沉積非晶硅N層.由此可以看出，非晶硅太陽(yáng)能電池硅膜的生產(chǎn)至少要經(jīng) 歷3個(gè)薄膜沉積工序。目前，非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池硅膜的制作方法主要采用的是化學(xué)氣 象沉積方法，化學(xué)氣相沉積法(Chemical Vapor Deposition =CVD)即利用化學(xué)反應(yīng)由原料 氣體形成膜的成膜方法，在工業(yè)上廣泛地應(yīng)用于以半導(dǎo)體裝置為首的微細(xì)器件的薄膜的形 成。因此，在薄膜的沉積過(guò)程中需要工藝氣體的供給，但供給工藝氣體的方法和裝置是該工 藝過(guò)程的關(guān)鍵，因?yàn)楣に嚉怏w是否均勻?qū)⑸婕罢w的鍍膜均勻度問(wèn)題。對(duì)于半導(dǎo)體制品而言，在其制程中無(wú)論是采用化學(xué)氣象沉積方法，還是采用常壓 氣相化學(xué)沉積技術(shù)，都需要使用工藝氣體，而工藝氣體都需要專門(mén)的裝置及方法進(jìn)行供給。 現(xiàn)有的氣體輸送裝置通常包括供氣管路、排氣管及氣體注入裝置，供氣管路直接與排氣管 相連接，排氣管設(shè)置在氣體注入裝置的工藝腔室內(nèi)，工藝氣體是通過(guò)供氣管道輸入到排氣 管，從排氣管輸出到氣體注入裝置的工藝腔室內(nèi)，在通過(guò)氣體注入裝置輸出到玻璃基板上， 進(jìn)而反映形成膜?，F(xiàn)有技術(shù)在設(shè)計(jì)管路時(shí)通常沒(méi)有考慮到氣體會(huì)隨排氣管長(zhǎng)度的延伸而氣 壓減小，另外由于氣體傳輸還需要克服管路的阻力，使得排氣管提供到氣體注入裝置的工 藝腔室的氣體不均勻，進(jìn)而使由氣體注入裝置提供到玻璃基板表面的氣體很難達(dá)到一致的 均勻性，導(dǎo)致玻璃基板上薄膜成分及膜厚不均勻，影響了半導(dǎo)體制品的質(zhì)量穩(wěn)定性和成品 率；另外現(xiàn)有的氣體輸送裝置，因?yàn)楣鈮毫?、供氣方式的?wèn)題，導(dǎo)致了氣體輸送管道及整 體設(shè)備的結(jié)構(gòu)復(fù)雜，生產(chǎn)成本高。因此，急需一種能提供均勻氣體且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的氣體輸送裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種能提供均勻氣體且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的氣體輸送裝置。 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案為提供一種氣體輸送裝置，適于與供 氣裝置的輸出管連通，所述氣體輸送裝置包括箱體、箱蓋及管道組，所述箱體呈中空結(jié)構(gòu)，所述中空結(jié)構(gòu)形成儲(chǔ)氣腔，所述箱蓋密封蓋于所述儲(chǔ)氣腔上，所述箱蓋上均勻開(kāi)設(shè)有若干 與儲(chǔ)氣腔連通的通氣孔，所述管道組安裝于所述儲(chǔ)氣腔內(nèi)，其中，所述管道組包括第一管道 組件及第二管道組件，所述第一管道組件及第二管道組件分別與所述供氣裝置的輸出管連 通；所述第一管道組件包括若干相互平行排列的第一管道，所述第一管道的自由端呈密封 狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔；所述第二管道組件包括與所述第一管道相同數(shù)量且 相互平行排列的第二管道，所述第二管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二 氣孔；所述第一管道與所述第二管道相互交叉且等間距地排列在同一平面，且所述第一管 道與所述第二管道的氣流方向相反，所述第一氣孔與所述第二氣孔的軸向均與所述通氣孔 的軸向垂直，且所述第一氣孔與所述第二氣孔位于同一平面。較佳地，相鄰的所述第一氣孔與所述第二氣孔正對(duì)；更具體地，所述第一管道上的第一氣孔的孔徑沿所述第一管道的自由端逐漸增大；所述第二管道上的第二氣孔的孔徑沿 所述第二管道的自由端逐漸增大；第一氣孔及第二氣孔的孔徑沿自由端逐漸增大，彌補(bǔ)了 從第一氣孔及第二氣孔輸出的氣體沿第一管道及第二管道自由端方向逐漸減少的缺點(diǎn)，同 時(shí)，使從第一氣孔及第二氣孔排除的氣體在儲(chǔ)氣腔內(nèi)相互補(bǔ)償，進(jìn)而使儲(chǔ)氣腔內(nèi)的氣體更 加均勻。較佳地，所述第一氣孔與所述第二氣孔的孔徑相同，所述第一氣孔與第二氣孔等 間距地交叉；從第一氣孔及第二氣孔排除的氣體在儲(chǔ)氣腔內(nèi)起到相互補(bǔ)償?shù)淖饔?，使?chǔ)氣 腔內(nèi)的氣體均勻。與現(xiàn)有技術(shù)相比，由于本實(shí)用新型氣體輸送裝置的第一管道組件包括若干相互平 行排列的第一管道，第一管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔；第二 管道組件包括與第一管道相同數(shù)量且相互平行排列的第二管道，第二管道的自由端呈密封 狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔；第一管道與第二管道相互交叉且等間距地排列在同 一平面，且第一管道與第二管道的氣流方向相反，第一氣孔與第二氣孔的軸向均與所述通 氣孔的軸向垂直，且所述第一氣孔與所述第二氣孔位于同一平面；因此氣流方向相反的氣 體由第一氣孔及第二氣孔輸出到儲(chǔ)氣腔時(shí)，輸出的氣體起到相互補(bǔ)償?shù)淖饔?，使輸出的?體均勻，進(jìn)而提高產(chǎn)品的質(zhì)量；同時(shí)，該氣體輸送裝置管道布局及整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，生產(chǎn)成本 低。

圖1是本實(shí)用新型氣體輸送裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本實(shí)用新型氣體輸送裝置的使用狀態(tài)的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型氣體輸送裝置的第一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是圖3中A部分的放大示意圖。圖5是本實(shí)用新型氣體輸送裝置的第二實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6是圖5中B部分的放大示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在參考附圖描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，附圖中類似的元件標(biāo)號(hào)代表類似的元 件。[0018]如圖1、圖2所示，本實(shí)用新型氣體輸送裝置10包括箱體100、箱蓋102及管道組， 箱體100呈中空結(jié)構(gòu)，中空結(jié)構(gòu)形成儲(chǔ)氣腔101，箱蓋102密封蓋于儲(chǔ)氣腔101上，箱蓋102 上均勻開(kāi)設(shè)有若干與儲(chǔ)氣腔101連通的通氣孔103，管道組安裝于儲(chǔ)氣腔101內(nèi)，供氣裝置 的輸出管400安裝于儲(chǔ)氣腔101外，其中，管道組包括第一管道組件200及第二管道組件 300，第一管道組件200及第二管道組件300安裝于儲(chǔ)氣腔101的兩相對(duì)的側(cè)壁上并穿過(guò)儲(chǔ) 氣腔101的側(cè)壁，第一管道組件200及第二管道組件300分別與供氣裝置的輸出管400連 通；第一管道組件200包括若干相互平行排列的第一管道201，第一管道201的自由端呈密 封狀，且第一管道201的兩 側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔202 ；第二管道組件300包括與第一 管道201相同數(shù)量且相互平行排列的第二管道301，第二管道301的自由端呈密封狀，且第 二管道301的兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔302 ；第一管道201與第二管道301相互交叉 且等間距地排列在同一平面，第一管道201與第二管道301的氣流方向相反，第一氣孔202 與第二氣孔302的軸向均與通氣孔103的軸向垂直，且第一氣孔202與第二氣孔302位于 同一平面。如圖2所示，本實(shí)用新型氣體輸送裝置10在使用狀態(tài)時(shí)，氣體流動(dòng)方向如圖中箭 頭方向所示，氣體由箱體100外的供氣裝置的輸出管400輸送到第一管道組件200及第二 管道組件300后，氣體沿第一管道組件200的各第一管道201的自由端方向流動(dòng)，由于第一 管道組件200上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔202，氣體在流動(dòng)過(guò)程中，會(huì)從第一管道201上的第一 氣孔202中輸出到儲(chǔ)氣腔101內(nèi)；同樣，輸送到第二管道組件300的氣體沿各第二管道301 的自由端方向流動(dòng)時(shí)，從各第二管道301上的第二氣孔302中輸出到儲(chǔ)氣腔101內(nèi)，氣體經(jīng) 第一管道201及第二管道301輸送時(shí)，第一管道201及第二管道301內(nèi)的氣壓沿氣體的流 動(dòng)方向逐漸減小，使第一氣孔202及第二氣孔302輸出到儲(chǔ)氣腔101內(nèi)的氣體會(huì)沿第一管 道201及第二管道301的自由端方向逐漸減少，但第一管道201與第二管道301的氣流方 向相反，這樣從相鄰的第一氣孔202與第二氣孔302輸出的氣體在儲(chǔ)氣腔101內(nèi)相互補(bǔ)償， 使輸出到儲(chǔ)氣腔101內(nèi)的氣體整體均勻；存儲(chǔ)于儲(chǔ)氣腔101內(nèi)的均勻氣體再通過(guò)箱蓋102 上均勻開(kāi)設(shè)的通氣孔103輸出到玻璃基板上，使玻璃基板上形成的薄膜成分及膜厚均勻。下面參考附圖，詳細(xì)描述本實(shí)用新型氣體輸送裝置10的不同實(shí)施例。如圖3、圖4所示，本實(shí)用新型氣體輸送裝置10的第一實(shí)施例中，第一管道201的 兩側(cè)均勻的開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔202，且第一氣孔202的孔徑沿第一管道201的自由端逐漸 增大；第二管道301的兩側(cè)均勻的開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔302，且第二氣孔302的孔徑沿第二 管道301的自由端逐漸增大，相鄰第一管道201和第二管道301上的第一氣孔202與第二 氣孔302正對(duì)；氣體由供氣裝置的輸出管400輸送到第一管道201及第二管道301后，氣體 沿第一管道201及第二管道301的自由端流動(dòng)，流動(dòng)過(guò)程中通過(guò)第一管道201及第二管道 301上的第一氣孔202及第二氣孔302輸出到儲(chǔ)氣腔101，這樣雖然第一管道201及第二管 道301內(nèi)的壓力沿氣流方向逐漸減小，但由于第一管道201及第二管上的第一氣孔202及 第二氣孔302的孔徑沿自由端逐漸增大，從而使第一氣孔202及第二氣孔302輸出的氣體 不會(huì)沿第一管道201及第二管道301自由端逐漸較少，使輸出的氣體均勻；同時(shí)，相鄰的第 一管道201及第二管道301的氣流方向相反，這樣，相鄰的第一管道201及第二管輸出的氣 體在儲(chǔ)氣腔101內(nèi)相互補(bǔ)償，進(jìn)一步使儲(chǔ)氣腔101內(nèi)的氣體更加均勻。如圖5、圖6所示，本實(shí)用新型氣體輸送裝置10的第二實(shí)施例中，第一管道201與第二管道301上都均勻的設(shè)置孔徑相同的第一氣孔202及第二氣孔302，相鄰的第一管道 201及第二管道301上的第一氣孔202與第二氣孔302等間距地交叉排列，這樣從第一氣孔 202及第二氣孔302輸出的氣體在儲(chǔ)氣腔101內(nèi)起到相互補(bǔ)償?shù)淖饔?，進(jìn)而使儲(chǔ)氣腔101內(nèi) 的氣體保持均勻。由于本實(shí)用新型氣體輸送裝置10的第一管道組件200包括若干相互平行排列的 第一管道201，第一管道201的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔202 ；第二 管道組件300包括與第一管道201相同數(shù)量且相互平行排列的第二管道301，第二管道301 的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔302 ；第一管道201與第二管道301相 互交叉且等間距地排列在同一平面，且第一管道201與第二管道301的氣流方向相反，第一 氣孔202與第二氣孔302的軸向均與所述通氣孔103的軸向垂直，且所述第一氣孔202與所 述第二氣孔302位于同一平面；因此氣流方向相反的氣體由第一氣孔202及第二氣孔302 輸出到儲(chǔ)氣腔101，輸出的氣體在儲(chǔ)氣腔101內(nèi)起到相互補(bǔ)償?shù)淖饔?，使輸出到?chǔ)氣腔101 的氣體均勻，保證從箱蓋102上的通氣孔103輸出到玻璃基板上的氣體均勻，從而提高產(chǎn)品 的質(zhì)量；同時(shí)，該氣體輸送裝置10管道布局 及整體結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，生產(chǎn)成本低。以上僅對(duì)管道組呈圓柱狀的實(shí)施例進(jìn)行了說(shuō)明，但不限于上述實(shí)施例，本實(shí)用新 型氣體輸送裝置10還可根據(jù)實(shí)際需要，設(shè)置不同形狀的管道組，同時(shí)還可以根據(jù)實(shí)際需要 設(shè)置第一氣孔202及第二氣孔302的形狀。本實(shí)用新型氣體輸送裝置10也不限于半導(dǎo)體制程中，還可根據(jù)實(shí)際需要，用于相 類似制程及環(huán)境中。以上所揭露的僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來(lái)限定本實(shí)用新 型之權(quán)利范圍，因此依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本實(shí)用新型所涵蓋 的范圍。
權(quán)利要求一種氣體輸送裝置，適于與供氣裝置的輸出管連通，所述氣體輸送裝置包括箱體、箱蓋及管道組，所述箱體呈中空結(jié)構(gòu)，所述中空結(jié)構(gòu)形成儲(chǔ)氣腔，所述箱蓋密封蓋于所述儲(chǔ)氣腔上，所述箱蓋上均勻開(kāi)設(shè)有若干與儲(chǔ)氣腔連通的通氣孔，所述管道組安裝于所述儲(chǔ)氣腔內(nèi)，其特征在于所述管道組包括第一管道組件及第二管道組件，所述第一管道組件及第二管道組件分別與所述供氣裝置的輸出管連通；所述第一管道組件包括若干相互平行排列的第一管道，所述第一管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔；所述第二管道組件包括與所述第一管道相同數(shù)量且相互平行排列的第二管道，所述第二管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔；所述第一管道與所述第二管道相互交叉且等間距地排列在同一平面，且所述第一管道與所述第二管道的氣流方向相反，所述第一氣孔與所述第二氣孔的軸向均與所述通氣孔的軸向垂直，且所述第一氣孔與所述第二氣孔位于同一平面。
2.如權(quán)利要求1所述的氣體輸送裝置，其特征在于相鄰的所述第一氣孔與所述第二 氣孔正對(duì)。
3.如權(quán)利要求2所述的氣體輸送裝置，其特征在于所述第一管道上的第一氣孔的孔 徑沿所述第一管道的自由端逐漸增大；所述第二管道上的第二氣孔的孔徑沿所述第二管道 的自由端逐漸增大。
4.如權(quán)利要求1所述的氣體輸送裝置，其特征在于所述第一氣孔與所述第二氣孔的 孔徑相同，所述第一氣孔與第二氣孔等間距地交叉。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種氣體輸送裝置，其包括箱體、箱蓋及管道組，箱體具有中空結(jié)構(gòu)的儲(chǔ)氣腔，管道組安裝于儲(chǔ)氣腔內(nèi)，其管道組包括第一管道組件及第二管道組件，第一管道組件包括若干相互平行排列的第一管道，第一管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第一氣孔；第二管道組件包括與第一管道相同數(shù)量且相互平行排列的第二管道，第二管道的自由端呈密封狀，且兩側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干第二氣孔；第一管道與第二管道相互交叉且等間距地排列在同一平面，且第一管道與第二管道的氣流方向相反，第一氣孔與第二氣孔的軸向均與通氣孔的軸向垂直，且第一氣孔與第二氣孔位于同一平面。本實(shí)用新型氣體輸送裝置能提供均勻氣體且結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，生產(chǎn)成本低。
文檔編號(hào)F17D1/04GK201568736SQ200920274210
公開(kāi)日2010年9月1日 申請(qǐng)日期2009年12月1日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月1日
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