專利名稱：液態(tài)氯化氫處理設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
液態(tài)氯化氫處理設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及多晶硅尾氣回收系統(tǒng)氯化氫的儲(chǔ)存技術(shù)，特別是一種液態(tài)氯化氫處理設(shè)備。
背景技術(shù)：
[0002]目前，多晶硅生產(chǎn)的合成工序運(yùn)行不穩(wěn)定，時(shí)開時(shí)停，因而經(jīng)常有大量的HCl排往淋洗，導(dǎo)致合成工序設(shè)備處于超負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)。加之合成工序下游的三廢處理能力有限，所以時(shí)常出現(xiàn)合成淋洗廢液大量滯留的情況。[0003]在多晶硅尾氣回收系統(tǒng)中，HCl來源有三氯氫硅還原、四氯化硅氫化、合成工序 HCl合成(作補(bǔ)充用)。其中的合成工序，一旦合成爐停運(yùn)，便有大量的HCl滯留于系統(tǒng)中。 因此一般都會(huì)設(shè)置⑶I工序的HCl液體儲(chǔ)槽和合成工序的2個(gè)HCl氣體緩沖罐，正常情況只使用一個(gè)HCl氣體緩沖罐，另一個(gè)HCl氣體緩沖罐在緊急情況時(shí)備用。當(dāng)合成工序停車時(shí)，如果氫化、還原仍正常運(yùn)行，則整個(gè)系統(tǒng)緩沖能力較差。[0004]而且在緊急情況下，一旦合成HCl排放量劇增，導(dǎo)致三廢處理壓力加大，甚至超過其現(xiàn)有處理能力。那么就會(huì)出現(xiàn)以下問題[0005](1)合成排放的廢水量大，酸性強(qiáng)，燒堿需求量大大超過設(shè)計(jì)值，因而經(jīng)常出現(xiàn)燒堿斷料的現(xiàn)象，從而導(dǎo)致處理流程中斷。[0006](2)工況較惡劣，設(shè)備損壞嚴(yán)重；例如，降膜蒸發(fā)器的給液泵的葉輪經(jīng)常損壞。[0007](3)當(dāng)廢水處理量加大時(shí)，需要大量人力處理。[0008]另一種情況是，當(dāng)整個(gè)工廠滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，生產(chǎn)過程中副產(chǎn)的HCl量將大大增加， 合成工序則必須保證兩套合成爐系統(tǒng)同時(shí)正常運(yùn)行才能夠?qū)⑸a(chǎn)過程中產(chǎn)生的HCl完全平衡。此時(shí)，若合成爐系統(tǒng)一套停運(yùn)，另一套滿負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)，而三廢處理也能夠滿負(fù)荷運(yùn)行，則整改生產(chǎn)過程可以在基本不受影響的情況下繼續(xù)進(jìn)行，但這會(huì)消耗大量的NaOH溶液，導(dǎo)致嚴(yán)重的浪費(fèi)；若合成兩套系統(tǒng)均停運(yùn)，則僅中和HCl所產(chǎn)生的廢水將遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過三廢的設(shè)計(jì)處理能力。這將迫使氫化、還原降量或停止運(yùn)行。[0009]因此需要在合成工序設(shè)計(jì)可以有效增加HCl緩沖能力的設(shè)備，避免出現(xiàn)各種問題導(dǎo)致合成工序不能穩(wěn)定工作。實(shí)用新型內(nèi)容[0010]本實(shí)用新型為解決上述技術(shù)問題，提供了新型的液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，可以有效增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，將氯化氫從氣相改為液相儲(chǔ)藏，提高了整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。[0011]液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，包括三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐分別與合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器連接，其特征在于還包括至少兩臺(tái)并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口均與各個(gè)加熱器的出口匯總管線連通，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的出口均連接至同一個(gè)汽化器的入口上， 所述汽化器出口連接至合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上。[0012]所述高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐和低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口和出口處都分別設(shè)置有閥門，閥門需考慮所使用工況是否為低溫，需采用相相應(yīng)低溫閥門。[0013]本實(shí)用新型采用低溫絕熱容器對(duì)液態(tài)氯化氫進(jìn)行儲(chǔ)藏，儲(chǔ)藏的氯化氫的液態(tài)體積約為同等氣態(tài)氣體積的1/600。[0014]本實(shí)用新型的有益效果如下[0015](1)可以保持合成系統(tǒng)穩(wěn)定運(yùn)行，消耗氫化、還原過程中產(chǎn)生的HCl ；[0016](2)增加了 HCl系統(tǒng)的緩沖能力，生產(chǎn)負(fù)荷波動(dòng)較小，生產(chǎn)進(jìn)行正常，降低了 HCl的浪費(fèi)率，使生產(chǎn)成本大大降低。


[0017]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖[0018]其中，附圖標(biāo)記為D-107_合成⑶I高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，D-207-還原⑶I高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，D-307-氫化⑶I高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，1-合成⑶I電加熱器，2-還原⑶I 電加熱器，3-氫化CDI電加熱器，4-低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，5-汽化器，6-HC1緩沖罐。
具體實(shí)施方式
[0019]如圖1所示，合成工序的液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，包括三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐合成CDI高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐D(zhuǎn)-107、還原CDI高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐D(zhuǎn)-207，氫化CDI高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐D(zhuǎn)-307，三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐分別與合成CDI電加熱器1、氫化CDI電加熱器3和還原⑶I電加熱器2連接。[0020]為了增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，在合成車間新增液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，即二臺(tái)HCl 液體儲(chǔ)罐及配套設(shè)施，利用回收車間高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐D(zhuǎn)-107、D-207及D-307自流到合成車間新增加二臺(tái)HCl液體儲(chǔ)罐內(nèi)儲(chǔ)存。利用新增的液體儲(chǔ)罐采用真空儲(chǔ)罐的方式達(dá)到長期儲(chǔ)存液體HC1，使用汽化器汽化后供合成氣體HCl儲(chǔ)罐。該兩臺(tái)并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐4，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐4的入口均與各個(gè)加熱器的出口匯總管線連通，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐4的出口均連接至同一個(gè)汽化器5的入口上，所述汽化器5的出口連接至合成⑶I電加熱器1、氫化⑶I電加熱器3和還原⑶I電加熱器2與HCl緩沖罐6的連接管線上。[0021]所述高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐和低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口和出口處都分別設(shè)置有閥門，閥門需考慮所使用工況是否為低溫，需采用相相應(yīng)低溫閥門。[0022]所述液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的容積總計(jì)為200m3。[0023]本實(shí)用新型采用低溫絕熱容器對(duì)液態(tài)氯化氫進(jìn)行儲(chǔ)藏，儲(chǔ)藏的氯化氫的液態(tài)體積約為同等氣態(tài)氣體積的1/600。這一設(shè)計(jì)可以為生產(chǎn)系統(tǒng)帶來一周左右的緩沖時(shí)間，減小合成系統(tǒng)波動(dòng)對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的影響。
權(quán)利要求1.液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，包括三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐分別與合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器連接，其特征在于還包括至少兩臺(tái)并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口均與各個(gè)加熱器的出口匯總管線連通，每臺(tái)低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的出口均連接至同一個(gè)汽化器的入口上，所述汽化器出口連接至合成⑶I電加熱器、氫化⑶I電加熱器和還原⑶I電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，其特征在于所述高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐和低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口和出口處都分別設(shè)置有閥門，所述閥門根據(jù)使用工況確定采用相應(yīng)低溫閥門。
專利摘要本實(shí)用新型涉及多晶硅尾氣回收系統(tǒng)氯化氫的儲(chǔ)存技術(shù)，特別是一種液態(tài)氯化氫處理設(shè)備，包括三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，三臺(tái)高位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐分別與合成CDI電加熱器、氫化CDI電加熱器和還原CDI電加熱器連接，還包括至少兩臺(tái)并聯(lián)的低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐，低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的入口均與各個(gè)加熱器的出口匯總管線連通，低位液態(tài)氯化氫儲(chǔ)罐的出口均連接至同一個(gè)汽化器入口上，汽化器出口連接至各個(gè)電加熱器與HCl緩沖罐的連接管線上；本實(shí)用新型利用高位液態(tài)HCl儲(chǔ)罐自流到低位HCl液體儲(chǔ)罐內(nèi)，達(dá)到長期儲(chǔ)存液體HCl的目的；可有效增加HCl系統(tǒng)的緩沖能力，將氯化氫從氣相改為液相儲(chǔ)藏，提高了整個(gè)系統(tǒng)的穩(wěn)定性。
文檔編號(hào)F17C7/04GK202252824SQ20112038355
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2011年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月11日
發(fā)明者徐軍, 羅聰, 陳紹林 申請(qǐng)人:天威四川硅業(yè)有限責(zé)任公司