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      位置偵測(cè)裝置的制作方法

      文檔序號(hào):5883895閱讀:150來(lái)源:國(guó)知局
      專利名稱:位置偵測(cè)裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明是有關(guān)于一種位置偵測(cè)裝置,尤指一種光學(xué)式的位置偵測(cè)裝置,可用以降低光偵測(cè)裝置因?yàn)殚g隔空間的存在所引發(fā)誤判或靈敏度不高的缺憾。
      而,業(yè)界也針對(duì)位置偵測(cè)裝置的特性及產(chǎn)品需求,研發(fā)出各種位置偵測(cè)裝置,例如本發(fā)明案申請(qǐng)人已核準(zhǔn)的臺(tái)灣專利公告第523082號(hào)“偵測(cè)位置及角度變化的偵測(cè)裝置”。
      請(qǐng)參閱

      圖1、圖2A及圖2B,分別為本發(fā)明前案“偵測(cè)位置及角度變化的偵測(cè)裝置”所描述的立體示意圖、結(jié)構(gòu)方塊示意圖及光偵測(cè)單元示意圖,位置偵測(cè)裝置包括有一遮罩12、發(fā)光源18及光偵測(cè)裝置20,其中發(fā)光源18及光偵測(cè)裝置20分別位于遮罩12的兩側(cè)邊,遮罩12的適當(dāng)位置設(shè)有一可讓外界施予作用力的軸桿16,而在其側(cè)緣處則鑿設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)可讓發(fā)光源18的投射光源185通過(guò)的柵孔14,部分投射光源185可穿透柵孔14以成為一訊號(hào)光源187,而照射于光偵測(cè)裝置20。
      光偵測(cè)裝置20具有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元221-224,而每一光偵測(cè)單元221-224包括有一可接受電源供應(yīng)的電源接點(diǎn)38、第一連接端點(diǎn)24、第二連接端點(diǎn)26及一可吸收訊號(hào)光源187的光偵測(cè)元件(光感應(yīng)元件),例如第一光偵測(cè)單元221的光偵測(cè)元件281)。光偵測(cè)元件281可吸收訊號(hào)光源187后以產(chǎn)生一電流訊號(hào),并將此電流訊號(hào)由一電流鏡電路30而傳輸至一訊號(hào)選擇電路32中,訊號(hào)選擇電路32的最大電流選擇電路322將可透第一連接端點(diǎn)24而與相互電性連接的其它光偵測(cè)單元222-224比較,以判斷哪一個(gè)光偵測(cè)元件281-284所吸收的訊號(hào)光源187數(shù)量最多。再將此結(jié)果經(jīng)由電流轉(zhuǎn)換電路326和設(shè)定及重置開(kāi)關(guān)36的作用以轉(zhuǎn)換為一數(shù)字編碼訊號(hào),而使用者即可依據(jù)上述的數(shù)字編碼訊號(hào)以精確換算出位置偵測(cè)裝置所移動(dòng)的距離大小及角度變化。
      叉,在訊號(hào)選擇電路32中尚可包括有一電流加總及回饋電路324,其可將電流鏡電路30所輸入的電流值由第二連接端點(diǎn)26而得知是否比所有光偵測(cè)元件281-284的電流值加值的一半還要大。之后,同樣可將此結(jié)果經(jīng)由電流轉(zhuǎn)換電路326和設(shè)定及重置開(kāi)關(guān)36的作用以轉(zhuǎn)換為一數(shù)字編碼訊號(hào),而使用者即可依據(jù)上述的數(shù)字編碼訊號(hào)以精確換算出位置偵測(cè)裝置所移動(dòng)的距離大小及角度變化。
      雖然,上述常用技術(shù)應(yīng)用在產(chǎn)品中可獲得令人滿意的位置偵測(cè)結(jié)果,但其還是存在有下列缺點(diǎn)。請(qǐng)參閱圖3及圖1,每一光偵測(cè)元件281、284皆為一矩形態(tài)樣,且皆平行設(shè)置于光偵測(cè)裝置20上,兩兩光偵測(cè)元件281-284之間則會(huì)自然形成有一間隔空間288。由于元件機(jī)構(gòu)特性使然,柵孔14會(huì)存在有一定寬度,致使訊號(hào)光源187照射于光偵測(cè)裝置20位置上的光照射區(qū)可能大于兩個(gè)光偵測(cè)元件的寬度總合,例如第二光照射區(qū)182所示。
      隨著遮罩12的轉(zhuǎn)動(dòng)或作用,訊號(hào)光源187照射于光偵測(cè)裝置20上的光照射區(qū)位置也在移動(dòng)中,例如依序從第一光照射區(qū)181移至第二光照射區(qū)182及第三光照射區(qū)183。在第一光照射區(qū)181時(shí),其訊號(hào)選擇電路32可順利的判斷出第一光偵測(cè)元件281的受光面積最大。但在第二光照射區(qū)182時(shí),由于第一光偵測(cè)元件281與第二光偵測(cè)元件282都同時(shí)全部位于受光作用區(qū)域內(nèi),兩者的受光面積皆為相同,因此,容易發(fā)生判斷上的錯(cuò)誤或降低其靈敏性。接續(xù),移至第三光照射區(qū)183時(shí),訊號(hào)選擇電路32又可順利的判斷出第二光偵測(cè)元件283的受光面積最大。
      雖然,移動(dòng)位置的偵測(cè)為一系列的判斷組合,但卻也可以發(fā)現(xiàn),由于間隔空間288的存在,所以光照射區(qū)在其范圍內(nèi)移動(dòng)期間都有可能造成無(wú)法判斷以降低其靈敏性或無(wú)法反應(yīng)的狀況發(fā)生,這對(duì)于某些準(zhǔn)確性及靈敏性品質(zhì)要求較高的使用場(chǎng)合而言,還是會(huì)造成一些使用上的困擾。
      當(dāng)然,為避免上述遺憾,亦可以將柵孔14的寬度予以縮小至一個(gè)光照射區(qū)182無(wú)法容納兩個(gè)光偵測(cè)元件281、282同時(shí)存在的大小,但,如此即需在體積甚小的遮罩12上面予以精密鑿刻出各個(gè)柵孔14,不僅技術(shù)層面較高,且將大幅增加制作成本。
      因此,如何設(shè)計(jì)出一種新穎的位置偵測(cè)裝置,可有效降低因?yàn)殚g隔空間存在而造成其靈敏性降低的結(jié)果,此即為本發(fā)明的發(fā)明重點(diǎn)。
      本發(fā)明的次要目的,在于提供一種位置偵測(cè)裝置,可徹底解決間隔空間所引起的無(wú)法判斷困擾,進(jìn)而可有效提高產(chǎn)品的準(zhǔn)確性及靈敏性。
      本發(fā)明的又一目的,在于提供一種位置偵測(cè)裝置,在不增加制作成本要求下,即可有效改善產(chǎn)品的高靈敏性及加速反應(yīng)時(shí)間。
      為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供的位置偵測(cè)裝置,包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一投射光源;一光學(xué)機(jī)構(gòu),可接收來(lái)自于該發(fā)光源的投射光源,并經(jīng)過(guò)處理而產(chǎn)生為一訊號(hào)光源;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件,而該光偵測(cè)元件為一非炬形態(tài)樣。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中兩兩光偵測(cè)元件之間存在有一間隔空間,而該間隔空間的垂直延伸位置皆存在有其中一光偵測(cè)元件的部分作用面積。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件為一平行四邊型態(tài)樣,而兩兩平形四邊型光偵測(cè)元件可相互平行設(shè)置。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件為一梯型態(tài)樣,而每一梯型光偵測(cè)元件與一鄰近的梯型光偵測(cè)元件成相互倒置而設(shè)置。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該梯型光偵測(cè)元件的長(zhǎng)底側(cè)邊的垂直延伸位置可存在相鄰梯型光偵測(cè)元件的長(zhǎng)底側(cè)邊。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件包括有一垂直件、一在該垂直件一側(cè)端往一水平方向延伸的第一水平件,及一在該垂直件的另一側(cè)端而往另一水平方向延伸的第二水平件。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件的第一水平件的側(cè)邊垂直延伸位置存在有另一光偵測(cè)元件的第二水平件。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該第一水平件的長(zhǎng)度等同于第二水平件的長(zhǎng)度。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該第一水平件的長(zhǎng)度大于第二水平件的長(zhǎng)度。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件為一似“T”型態(tài)樣,而每一T型光偵測(cè)元件與一鄰近的T型光偵測(cè)元件成相互倒置而設(shè)置。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)單元包括有一訊號(hào)選擇電路,當(dāng)其中一光偵測(cè)元件所獲得的訊號(hào)光源數(shù)量最大時(shí),其位置所在的光偵測(cè)單元將可輸出一第一邏輯信號(hào),而其它的光偵測(cè)單元將則輸出一第二邏輯信號(hào)。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件所獲得訊號(hào)光源數(shù)量的判斷是由一最大選擇電路而一次完成。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件所獲得訊號(hào)光源數(shù)量的判斷是由至少一比較放大電路而經(jīng)由至少一次完成。
      所述的位置偵測(cè)裝置,還包括有一設(shè)定及重置開(kāi)關(guān),可用以將第一邏輯訊號(hào)、第二邏輯訊號(hào)及其組合式的其中之一轉(zhuǎn)換為一數(shù)字訊號(hào)。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光學(xué)機(jī)構(gòu)為一遮罩,而在該遮罩上鑿設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)柵孔。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該位置偵測(cè)裝置可選擇應(yīng)用于一游標(biāo)指示器、鼠標(biāo)、旋鈕及其組合式的其中之一。
      本發(fā)明提供的位置偵測(cè)裝置,還可以是,構(gòu)造包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一投射光源;一光學(xué)機(jī)構(gòu),可接收來(lái)自于該發(fā)光源的投射光源,并經(jīng)過(guò)處理而產(chǎn)生為一訊號(hào)光源;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件,而該光偵測(cè)元件與該訊號(hào)光源所投射的一光照射區(qū)之間存在有一傾斜角度。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中該光偵測(cè)元件為一非矩形態(tài)樣。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其中兩兩光偵測(cè)元件之間存在有一間隔空間,而該間隔空間的垂直延伸位置皆存在有其中一光偵測(cè)元件的部分作用面積。
      本發(fā)明提供的位置偵測(cè)裝置,還可以是,構(gòu)造包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一訊號(hào)光源;一遮罩,其設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)可讓該投射光源穿過(guò)的斜柵孔,而該斜柵孔與遮罩中央位置存在有一傾斜角度;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該投射光源在穿過(guò)斜柵孔后,將在光偵測(cè)裝置上形成一非炬型態(tài)樣的光照射區(qū)。
      所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)單元為一矩形態(tài)樣。
      圖10為本發(fā)明又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)方塊示意圖。
      當(dāng)訊號(hào)光源(18)經(jīng)由柵孔(14)而照射于光偵測(cè)裝置(20)的光偵測(cè)元件481-484時(shí),其所形成的光照射區(qū)還是如前案一般具有第一光照射區(qū)381、第二光照射區(qū)382及第三光照射區(qū)383,在第一光照射區(qū)381及第三光照射區(qū)383時(shí)都可明顯判斷出分別為第一光偵測(cè)元件481或第二光偵測(cè)單元483所具有的受光面積最大。而當(dāng)在有爭(zhēng)議的第二光照射區(qū)382時(shí),由于第一光偵測(cè)元件481及第二光偵測(cè)元件482所共同組合成的受光范圍已經(jīng)變大,因此,比較不會(huì)產(chǎn)生在同一光照射區(qū)382內(nèi)同時(shí)具有兩個(gè)光偵測(cè)元件481、482的發(fā)生。
      但即使是將兩個(gè)光偵測(cè)元件481、482做成可同時(shí)存在一光照射區(qū)382范圍內(nèi)時(shí),由于間隔空間488的垂直延伸位置A上都可存在有一光偵測(cè)元件481-484的部分作用面積,因此,光照射區(qū)域范圍依序從第一光照射區(qū)381、第二光照射區(qū)382至第三光照射區(qū)383,且經(jīng)過(guò)間隔空間488時(shí),都會(huì)有至少一光偵測(cè)元件481的受光面積減少,而相對(duì)有至少一光偵測(cè)元件482的受光面積將會(huì)增加,期間僅會(huì)存在有一個(gè)在第一光偵測(cè)元件481及第二光偵測(cè)元件482受光面積完全相同的時(shí)間點(diǎn),此一時(shí)間點(diǎn)為一瞬間臨界點(diǎn),難以保持長(zhǎng)久穩(wěn)定,不像前案構(gòu)造般具有一間隔空間(288)的作用面積,所以訊號(hào)選擇電路(32)即可輕易判斷及比較出哪一個(gè)光偵測(cè)元件481-484的受光面積及產(chǎn)生的反應(yīng)電流較大,相對(duì)可快速且精密的換算出偵測(cè)裝置所移動(dòng)的距離大小或角度變化。
      再者,請(qǐng)參閱圖5,為本發(fā)明叉一實(shí)施例的光偵測(cè)動(dòng)作示意圖;如圖所示,在此實(shí)施例中,其主要是將光偵測(cè)元件改為梯型光偵測(cè)元件581-584,而兩兩相臨的梯型光偵測(cè)元件581、582(或582、583;583、584)是以相互倒置的態(tài)樣而設(shè)置,如此,同樣在間隔空間588的垂直延伸方向?qū)⒋嬖谟幸惶菪凸鈧蓽y(cè)元件581-584的部分受光面積,甚且在此實(shí)施例中,第一光偵測(cè)元件581的長(zhǎng)底側(cè)邊5811的垂直延伸方向還可存在有第二光偵測(cè)元件582的長(zhǎng)底側(cè)邊5821。因此,在第一光照射區(qū)381依序移往第二光照射區(qū)382、第三光照射區(qū)383時(shí),其僅會(huì)存在有一個(gè)在第一光偵測(cè)元件581及第二光偵測(cè)元件582受光面積完全相同的瞬間臨界點(diǎn),同樣可達(dá)到有效提高作用靈敏性的優(yōu)點(diǎn)。
      另外,請(qǐng)參閱圖6,為本發(fā)明又一實(shí)施例的光偵測(cè)動(dòng)作示意圖;如圖所示,在此實(shí)施例中,其主要是將光偵測(cè)元件681-684設(shè)計(jì)為一包括有一垂直件6811,而垂直件6811的兩側(cè)端分別水平延伸有一不同方向的第一水平件6813及第二水平件6815,第一水平件6813的長(zhǎng)度大于第二水平件6815的長(zhǎng)度,每一光偵測(cè)元件681-684皆以平形態(tài)樣放置,而間隔空間688的垂直延伸方向?qū)?huì)存在有一光偵測(cè)元件681-684的第一水平件6813或第二水平件6815。
      又,請(qǐng)參閱圖7,為本發(fā)明又一實(shí)施例的光偵測(cè)動(dòng)作示意圖;如圖所示,在此實(shí)施例中,其主要將第三光偵測(cè)元件685予以倒置,而與第二光偵測(cè)元件682成一相互倒置態(tài)樣,但在間隔空間688的垂直延伸方向還是同樣需存在有第一水平件6863或第二水平件6865。又,第一水平件6863及第二水平件6865亦可為同樣長(zhǎng)度。
      又,請(qǐng)參閱圖8,為本發(fā)明又一實(shí)施例的光偵測(cè)動(dòng)作示意圖;如圖所示,在此實(shí)施例中,其主要是將光偵測(cè)元件改為一似“T”型態(tài)樣的光偵測(cè)元件781-784,兩兩相臨近的T型光偵測(cè)元件781、784為相互倒置而設(shè),但間隔空間788的的垂直延伸位置還是會(huì)存在有一光偵測(cè)元件781-784的部分作用面積。
      又,請(qǐng)參閱圖9A及圖9B,分別為本發(fā)明又一實(shí)施例的立體示意圖及光偵測(cè)動(dòng)作示意圖;如圖所示,本發(fā)明位置偵測(cè)裝置同樣包括有一光學(xué)機(jī)構(gòu)82,例如一在中央設(shè)有軸桿或軸孔86,而在周緣設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)柵孔84的遮罩,而于遮罩82的兩側(cè)同樣各設(shè)有一發(fā)光源及一光偵測(cè)裝置80,而在光偵測(cè)裝置80上同樣設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元821-824,每一光偵測(cè)單元821-824同樣各設(shè)有一光偵測(cè)元件981-984。
      在此實(shí)施例中,其主要是將遮罩82的各個(gè)柵孔84予以傾斜一角度而設(shè)置,以成為一斜柵孔84,每一種柵孔84都與遮罩82的中央位置或直線徑有一傾斜角度85。如此,當(dāng)發(fā)光源18所產(chǎn)生的投射光源885通過(guò)一斜柵孔84而成為一訊號(hào)光源887而照射于光偵測(cè)元件981-984時(shí),其光照射區(qū)881、883面積將成為一具有傾斜角度。因此,即使光偵測(cè)981-984為一矩形態(tài)樣,但由于第一光照射區(qū)881、第二光照射區(qū)882及第三光照射區(qū)883都為一傾斜作用面積,因此,在通過(guò)間隔空間988時(shí),其還是會(huì)存在有至少一光偵測(cè)元件981的受光面積減少,而相對(duì)有至少一光偵測(cè)元件982的受光面積將會(huì)增加的情況發(fā)生,同樣可達(dá)到容易辨別受光面積或產(chǎn)生電流量大小以提高元件靈敏性的優(yōu)點(diǎn)。
      最后,請(qǐng)參閱圖10,為本發(fā)明又一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)方塊示意圖;如圖所示,本發(fā)明所述的各實(shí)施例同樣可適用于本發(fā)明已核準(zhǔn)臺(tái)灣專利公告第523082號(hào)“偵測(cè)位置及角度變化的偵測(cè)裝置”所描述技術(shù)中,光偵測(cè)裝置90同樣包括有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元921-924,每一光偵測(cè)單元921-924皆可由一第一連接端電94而相互連接,并由一訊號(hào)選擇電路(如圖2B所示的32)內(nèi)的最大電流選擇電路(952)而得以一次即可選擇出受光面積及產(chǎn)生電流最大的光偵測(cè)單元921-924,并依照結(jié)果而選擇輸出一第一邏輯訊號(hào)或第二邏輯訊號(hào),最后,再經(jīng)由設(shè)定及重置開(kāi)關(guān)97作用而轉(zhuǎn)換成相對(duì)應(yīng)的數(shù)字訊號(hào)。當(dāng)然,本發(fā)明亦可適用于比較放大電路構(gòu)造中,只需將設(shè)定及重置開(kāi)關(guān)97設(shè)計(jì)成為一電流比較放大電路975,各個(gè)光偵測(cè)單元921-924經(jīng)由各個(gè)比較放大電路975、93的層層比較以取得電流最大的光偵測(cè)單元921、924,經(jīng)過(guò)多次比較,同樣可精確換算出位置偵測(cè)裝置所移動(dòng)的距離大小及角度變化。
      以上所述者,僅為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例而已,并非用來(lái)限定本發(fā)明實(shí)施的范圍,舉凡依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所述的形狀、構(gòu)造、特征及精神所為的均等變化與修飾,均應(yīng)包括于本發(fā)明的申請(qǐng)專利范圍內(nèi)。
      權(quán)利要求
      1.一種位置偵測(cè)裝置,其特征在于,包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一投射光源;一光學(xué)機(jī)構(gòu),可接收來(lái)自于該發(fā)光源的投射光源,并經(jīng)過(guò)處理而產(chǎn)生為一訊號(hào)光源;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件,而該光偵測(cè)元件為一非炬形態(tài)樣。
      2.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中兩兩光偵測(cè)元件之間存在有一間隔空間,而該間隔空間的垂直延伸位置皆存在有其中一光偵測(cè)元件的部分作用面積。
      3.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件為一平行四邊型態(tài)樣,而兩兩平形四邊型光偵測(cè)元件可相互平行設(shè)置。
      4.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件為一梯型態(tài)樣,而每一梯型光偵測(cè)元件與一鄰近的梯型光偵測(cè)元件成相互倒置而設(shè)置。
      5.如權(quán)利要求4所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該梯型光偵測(cè)元件的長(zhǎng)底側(cè)邊的垂直延伸位置可存在相鄰梯型光偵測(cè)元件的長(zhǎng)底側(cè)邊。
      6.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件包括有一垂直件、一在該垂直件一側(cè)端往一水平方向延伸的第一水平件,及一在該垂直件的另一側(cè)端而往另一水平方向延伸的第二水平件。
      7.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件的第一水平件的側(cè)邊垂直延伸位置存在有另一光偵測(cè)元件的第二水平件。
      8.如權(quán)利要求6所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該第一水平件的長(zhǎng)度等同于第二水平件的長(zhǎng)度。
      9.如權(quán)利要求6所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該第一水平件的長(zhǎng)度大于第二水平件的長(zhǎng)度。
      10.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件為一似“T”型態(tài)樣,而每一T型光偵測(cè)元件與一鄰近的T型光偵測(cè)元件成相互倒置而設(shè)置。
      11.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)單元包括有一訊號(hào)選擇電路,當(dāng)其中一光偵測(cè)元件所獲得的訊號(hào)光源數(shù)量最大時(shí),其位置所在的光偵測(cè)單元將可輸出一第一邏輯信號(hào),而其它的光偵測(cè)單元將則輸出一第二邏輯信號(hào)。
      12.如權(quán)利要求11所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件所獲得訊號(hào)光源數(shù)量的判斷是由一最大選擇電路而一次完成。
      13.如權(quán)利要求11所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件所獲得訊號(hào)光源數(shù)量的判斷是由至少一比較放大電路而經(jīng)由至少一次完成。
      14.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,還包括有一設(shè)定及重置開(kāi)關(guān),可用以將第一邏輯訊號(hào)、第二邏輯訊號(hào)及其組合式的其中之一轉(zhuǎn)換為一數(shù)字訊號(hào)。
      15.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光學(xué)機(jī)構(gòu)為一遮罩,而在該遮罩上鑿設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)柵孔。
      16.如權(quán)利要求1所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該位置偵測(cè)裝置可選擇應(yīng)用于一游標(biāo)指示器、鼠標(biāo)、旋鈕及其組合式的其中之一。
      17.一種位置偵測(cè)裝置,其特征在于,構(gòu)造包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一投射光源;一光學(xué)機(jī)構(gòu),可接收來(lái)自于該發(fā)光源的投射光源,并經(jīng)過(guò)處理而產(chǎn)生為一訊號(hào)光源;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件,而該光偵測(cè)元件與該訊號(hào)光源所投射的一光照射區(qū)之間存在有一傾斜角度。
      18.如權(quán)利要求17所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)元件為一非矩形態(tài)樣。
      19.如權(quán)利要求17所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中兩兩光偵測(cè)元件之間存在有一間隔空間,而該間隔空間的垂直延伸位置皆存在有其中一光偵測(cè)元件的部分作用面積。
      20.一種位置偵測(cè)裝置,其特征在于,構(gòu)造包括有一發(fā)光源,可用以產(chǎn)生一訊號(hào)光源;一遮罩,其設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)可讓該投射光源穿過(guò)的斜柵孔,而該斜柵孔與遮罩中央位置存在有一傾斜角度;一光偵測(cè)裝置,固設(shè)于該光學(xué)機(jī)構(gòu)的一側(cè)邊,于該光偵測(cè)裝置上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)單元,每一光偵測(cè)單元皆包括有至少一可接收該訊號(hào)光源的光偵測(cè)元件。
      21.如權(quán)利要求20所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該投射光源在穿過(guò)斜柵孔后,將在光偵測(cè)裝置上形成一非炬型態(tài)樣的光照射區(qū)。
      22.如權(quán)利要求20所述的位置偵測(cè)裝置,其特征在于,其中該光偵測(cè)單元為一矩形態(tài)樣。
      全文摘要
      本發(fā)明是有關(guān)于一種位置偵測(cè)裝置,尤指一種光學(xué)式的位置偵測(cè)裝置,其主要包括有一發(fā)光源、一遮罩及一光偵測(cè)裝置,其中遮罩上設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)可讓發(fā)光源所產(chǎn)生的投射光源穿過(guò)的柵孔,而穿過(guò)柵孔的投射光源可被設(shè)于光偵測(cè)裝置上的復(fù)數(shù)個(gè)光偵測(cè)元件所吸收,光偵測(cè)元件為一非矩型態(tài)樣,且兩兩光偵測(cè)元件之間存在有一間隔空間,在間隔空間的垂直延伸位置則自然存在有其中一光偵測(cè)元件的部分作用面積,由此以降低光偵測(cè)裝置因?yàn)殚g隔空間的存在所引發(fā)誤判或靈敏度不高的缺憾。
      文檔編號(hào)G01B11/02GK1475770SQ03133118
      公開(kāi)日2004年2月18日 申請(qǐng)日期2003年7月24日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月24日
      發(fā)明者蕭淳方, 林信翔, 沈志雄, 林三寶 申請(qǐng)人:光磊科技股份有限公司
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