專利名稱：輻射測(cè)試平臺(tái)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種輻射測(cè)試平臺(tái)，尤指一種應(yīng)用在電波暗室內(nèi)以測(cè)試一電波輻射待測(cè)物的輻射特性的測(cè)試平臺(tái)。
背景技術(shù)：
以往在如手機(jī)等會(huì)發(fā)射電磁波的裝置，在開發(fā)過程或產(chǎn)品認(rèn)證階段，均必須置于一電波暗室(chamber)內(nèi)進(jìn)行輻射測(cè)試，以驗(yàn)證該手機(jī)是否符合三度空間與輻射寄生等相關(guān)的測(cè)試規(guī)范。而在測(cè)試過程中，往往需要依照規(guī)范的要求，將待測(cè)物以各種特定的方向與角度擺置。目前各家測(cè)試廠于進(jìn)行輻射寄生效應(yīng)測(cè)試時(shí)，當(dāng)待測(cè)物需要變換方向與角度時(shí)，均以人工方式為的，極為不便，造成人力與時(shí)間上的浪費(fèi)，同時(shí)也可能因?yàn)轭l繁地開關(guān)電波暗室而降低了使用壽命。
此外，目前市面上并無兼具三度空間(3D TRP&TIS)與待測(cè)物于不同天線平面(H、V)與待測(cè)物平面(H、E1、E2)即Harmonic Spurious Emission Test的測(cè)試方式，且待測(cè)物的固定方式通常采用魔鬼粘或膠帶來定位，而為了兼顧兩種測(cè)試方式，機(jī)構(gòu)必須復(fù)雜化，然而復(fù)雜化的機(jī)構(gòu)勢(shì)必影響測(cè)試的結(jié)果。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種輻射測(cè)試平臺(tái)。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供的輻射測(cè)試平臺(tái)，包括一基座，位于一支承面上；一支撐件，連接該基座，并具有一遠(yuǎn)離該基座的端部；及一待測(cè)物定位裝置，包含一設(shè)置于該支撐件的端部的旋轉(zhuǎn)裝置、一受該旋轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)的支架、一定位于該支架上的線性驅(qū)動(dòng)裝置，及一樞接于該支架上且受該線性驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使而相對(duì)于該支架轉(zhuǎn)動(dòng)的定位平臺(tái)，使得一待測(cè)物可定位在該定位平臺(tái)上，并由該旋轉(zhuǎn)裝置與該線性驅(qū)動(dòng)裝置移動(dòng)該定位平臺(tái)至所需的三度空間內(nèi)的一測(cè)試位置。
所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其中該旋轉(zhuǎn)裝置為受一馬達(dá)所驅(qū)動(dòng)的齒輪組。
所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其中該線性驅(qū)動(dòng)裝置為一氣壓缸。
所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其中該定位平臺(tái)還設(shè)有一吸盤及一真空開關(guān)，用以吸附該待測(cè)物。
所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其中該基座上還設(shè)有一面板。
所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其中該基座下方還具有復(fù)數(shù)腳座，各該腳座具有一上旋轉(zhuǎn)盤、一固定盤、一下旋轉(zhuǎn)盤、一螺桿、一支腳及一底盤，該底盤以螺絲固定于支承面上，利用轉(zhuǎn)動(dòng)該上旋轉(zhuǎn)盤可與該固定盤夾緊該基座，該固定盤并與該螺桿為一體，由旋轉(zhuǎn)該固定盤使該螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)以調(diào)整高低，該下旋轉(zhuǎn)盤并可與該支腳相互旋緊以固定其相對(duì)位置。
由本實(shí)用新型的實(shí)施，可以方便待測(cè)物置放及改變方位、且較不影響測(cè)試結(jié)果及方便測(cè)試者操作，以及方便測(cè)試者測(cè)試的機(jī)制。


圖1為本實(shí)用新型輻射測(cè)試平臺(tái)的一較佳實(shí)施例立體圖。
圖2為該較佳實(shí)施例部份側(cè)視圖及動(dòng)作示意圖。
圖3為該較佳實(shí)施例的基座與電控箱的平面圖。
具體實(shí)施方式
有關(guān)本實(shí)用新型為達(dá)上述目的、特征所采用的技術(shù)手段及其功效，例舉一較佳實(shí)施例并配合附圖說明如下參閱圖1及圖2，本實(shí)用新型的輻射測(cè)試平臺(tái)的一較佳實(shí)施例包括一基座1、一支撐件2、一待測(cè)物定位裝置3及一電控箱4。
基座1位于一支承面上，例如一電波暗室的地面，用以穩(wěn)固整體結(jié)構(gòu)，基座1上還設(shè)有一面板11，面板11上設(shè)有電源接頭可與電控箱4相連。有基座1下方具有三個(gè)可調(diào)式腳座12，如圖3所示，各腳座12分別具有一上旋轉(zhuǎn)盤121、一固定盤122、一下旋轉(zhuǎn)盤123、一螺桿124、一支腳125及一底盤126，底盤126以螺絲固定于支承面上，利用轉(zhuǎn)動(dòng)上旋轉(zhuǎn)盤121可與固定盤122夾緊基座1，而固定盤122與螺桿124為一體，故可由旋轉(zhuǎn)固定盤122來使螺桿124轉(zhuǎn)動(dòng)，進(jìn)而調(diào)整高低，調(diào)整完畢后可將下旋轉(zhuǎn)盤123與支腳125相互旋緊并固定其相對(duì)位置。
支撐件2呈直立方向的中空桿狀對(duì)象，支撐件2連接基座1，并具有一遠(yuǎn)離基座位于上端的端部21。
待測(cè)物定位裝置3包含一旋轉(zhuǎn)裝置31、一支架32、一線性驅(qū)動(dòng)裝置33、一定位平臺(tái)34，及一接頭36。
旋轉(zhuǎn)裝置31在本例中為一齒輪組，其設(shè)置于支撐件2的端部21，齒輪組的動(dòng)力來源為一設(shè)置在電控箱4內(nèi)的馬達(dá)(圖未示)，再通過一皮帶穿過支撐件2內(nèi)部以連結(jié)馬達(dá)與齒輪組，使得可由外部輸入訊號(hào)而控制旋轉(zhuǎn)裝置31的轉(zhuǎn)動(dòng)量。
支架32具有二平行的縱向桿321及一連結(jié)該等縱向桿321對(duì)應(yīng)端的一橫向連結(jié)件322，連結(jié)件322連接在旋轉(zhuǎn)裝置31的轉(zhuǎn)動(dòng)軸上而受旋轉(zhuǎn)裝置31驅(qū)動(dòng)，使支架32可以同步在一水平面位置的特定軸上轉(zhuǎn)動(dòng)。
線性驅(qū)動(dòng)裝置33在本例中為一氣壓缸，其一端定位于支架32的連結(jié)件322上，而可伸縮的一端則朝縱向桿321延伸的方向，而線性驅(qū)動(dòng)裝置33可與支架同步轉(zhuǎn)動(dòng)位置，并可由外部控制其運(yùn)動(dòng)。
定位平臺(tái)34呈一矩形片狀，其一側(cè)樞接于支架32的二縱向桿321的對(duì)應(yīng)端，而定位平臺(tái)34的其中一面非位于樞轉(zhuǎn)軸上的位置處系與線性驅(qū)動(dòng)裝置33的可伸縮端樞接，而受線性驅(qū)動(dòng)裝置33而可90度轉(zhuǎn)動(dòng)。又，定位平臺(tái)34上還設(shè)置有一吸盤35，用以吸附一如手機(jī)等待測(cè)物。
接頭36通過內(nèi)部導(dǎo)線電連接至面板11上，可方便測(cè)試者輸入控制訊號(hào)進(jìn)行控制。真空開關(guān)37可進(jìn)行待測(cè)物的吸附切換，以利實(shí)驗(yàn)進(jìn)行。
電控箱4位于基座1的下方，為控制的主要組件，其內(nèi)設(shè)有一馬達(dá)(圖未示)、一由馬達(dá)所驅(qū)動(dòng)的旋轉(zhuǎn)動(dòng)力輸出軸41、一氣壓端口42、一光纖端口43及一電源開關(guān)座44。旋轉(zhuǎn)動(dòng)力輸出軸41的轉(zhuǎn)動(dòng)動(dòng)力可以通過皮帶傳送至旋轉(zhuǎn)裝置31，而氣壓端口42為電磁閥控制并可由一氣壓管連接外部氣壓源，以控制線性驅(qū)動(dòng)裝置33的伸縮動(dòng)作，又，光纖端口43可連接光纖以接收計(jì)算機(jī)所傳送的命令與回傳狀態(tài)信息，而電源開關(guān)座44則提供電源的導(dǎo)通與否以利整體機(jī)構(gòu)的運(yùn)行。
如此，由測(cè)試者由外部輸入訊號(hào)，例如利用計(jì)算機(jī)的串行端口通過光纖傳送指令訊號(hào)，經(jīng)電控箱4內(nèi)的馬達(dá)通過皮帶以驅(qū)使旋轉(zhuǎn)裝置31與氣壓電磁閥線性驅(qū)動(dòng)裝置33，進(jìn)而移動(dòng)定位平臺(tái)34至所需的三度空間內(nèi)的一測(cè)試位置，以此達(dá)到不須人力而改變待測(cè)物方位，可有效改善測(cè)試流程且縮短測(cè)試時(shí)間及節(jié)省人力的效果。
另外，由于整體結(jié)構(gòu)相當(dāng)簡(jiǎn)化，并使用低反射材質(zhì)制作，可降低對(duì)測(cè)試結(jié)果的干擾，同時(shí)只要調(diào)整氣壓缸的進(jìn)氣壓力，即可降低待測(cè)物定位裝置3整體的瞬間沖力，減少機(jī)具晃動(dòng)幅度，確保機(jī)構(gòu)定位的準(zhǔn)確性及穩(wěn)定性。
綜合以上所述，本實(shí)用新型的輻射測(cè)試平臺(tái)，確能由上述構(gòu)造，達(dá)到預(yù)期的功效。
以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例而已，凡依本實(shí)用新型的精神所作的簡(jiǎn)易修飾及等效變化設(shè)計(jì)，應(yīng)涵蓋于申請(qǐng)專利范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，包括一基座，位于一支承面上；一支撐件，連接該基座，并具有一遠(yuǎn)離該基座的端部；及一待測(cè)物定位裝置，包含一設(shè)置于該支撐件的端部的旋轉(zhuǎn)裝置、一受該旋轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)的支架、一定位于該支架上的線性驅(qū)動(dòng)裝置，及一樞接于該支架上且受該線性驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使而相對(duì)于該支架轉(zhuǎn)動(dòng)的定位平臺(tái)，一待測(cè)物定位在該定位平臺(tái)上，并由該旋轉(zhuǎn)裝置與該線性驅(qū)動(dòng)裝置移動(dòng)該定位平臺(tái)至所需的三度空間內(nèi)的一測(cè)試位置。
2.如權(quán)利要求1所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，其中該旋轉(zhuǎn)裝置為受一馬達(dá)所驅(qū)動(dòng)的齒輪組。
3.如權(quán)利要求1所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，其中該線性驅(qū)動(dòng)裝置為一氣壓缸。
4.如權(quán)利要求1所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，其中該定位平臺(tái)還設(shè)有一吸盤及一真空開關(guān)，以吸附該待測(cè)物。
5.如權(quán)利要求1所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，其中該基座上還設(shè)有一面板。
6.如權(quán)利要求1所述的輻射測(cè)試平臺(tái)，其特征在于，其中該基座下方還具有復(fù)數(shù)腳座，各該腳座具有一上旋轉(zhuǎn)盤、一固定盤、一下旋轉(zhuǎn)盤、一螺桿、一支腳及一底盤，該底盤以螺絲固定于支承面上，利用轉(zhuǎn)動(dòng)該上旋轉(zhuǎn)盤可與該固定盤夾緊該基座，該固定盤并與該螺桿為一體，由旋轉(zhuǎn)該固定盤使該螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)以調(diào)整高低，該下旋轉(zhuǎn)盤并可與該支腳相互旋緊以固定其相對(duì)位置。
專利摘要一種輻射測(cè)試平臺(tái)，包括一基座、一支撐件及一待測(cè)物定位裝置，基座位于一支承面上，支撐件連接基座，并具有一遠(yuǎn)離基座的端部，待測(cè)物定位裝置包含一設(shè)置于支撐件的端部的旋轉(zhuǎn)裝置、一受旋轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)的支架、一定位于支架上的線性驅(qū)動(dòng)裝置，及一樞接于支架上且受線性驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)使而相對(duì)于支架轉(zhuǎn)動(dòng)的定位平臺(tái)，使得一待測(cè)物可定位在定位平臺(tái)上，并由旋轉(zhuǎn)裝置與線性驅(qū)動(dòng)裝置移動(dòng)定位平臺(tái)至所需的三度空間內(nèi)的一測(cè)試位置，由此達(dá)到外部控制而改變待測(cè)物方位的效果。
文檔編號(hào)G01R31/00GK2886584SQ20062000225
公開日2007年4月4日 申請(qǐng)日期2006年2月20日 優(yōu)先權(quán)日2006年2月20日
發(fā)明者張晉維, 陳駿毅, 張書瑋, 吳孟學(xué) 申請(qǐng)人:十大科技有限公司