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      X熒光測厚光譜儀的制作方法

      文檔序號:5829477閱讀:265來源:國知局
      專利名稱:X熒光測厚光譜儀的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種微量元素檢測儀器,尤其是一種獨(dú)特的上照式設(shè) 計,方便對尺寸范圍較大的部件上進(jìn)行鍍層厚度和含量的逐點(diǎn)測量,并具
      有開放式樣品腔的x熒光光譜儀。
      背景技術(shù)
      本發(fā)明人于2006年申請了名稱為一種自動定位X熒光能量色散光譜儀 的專利,專利申請?zhí)枮?00620014536.X。如圖1所示,該專利為一種真空檢 測X熒光能量色散光譜儀,包括機(jī)身和與之相連的電腦,其中,所述機(jī)身內(nèi) 安裝有光源系統(tǒng)、探測器系統(tǒng)以及信號處理系統(tǒng),其中,所述光源系統(tǒng)包 括高壓單元和X光管,光源系統(tǒng)發(fā)射出X射線,X射線作用在樣品上后,樣品 中的各個原子會被激發(fā)出特征X熒光,這些X熒光被探測器系統(tǒng)所接收,分 析轉(zhuǎn)化為電信號,電信號經(jīng)過MCA模塊系統(tǒng)的處理,再傳輸?shù)诫娔X中,在機(jī) 身和與之相連的電腦的用戶界面上顯示出來,其特征在于所述真空檢測X 熒光能量色散光譜儀的機(jī)身包括一金屬框架和一外殼,其中,所述光源放 射系統(tǒng)、探測器系統(tǒng)、以及信號處理系統(tǒng)均固定于所述金屬框架上,所述 外殼罩在所述金屬框架外起保護(hù)作用,所述金屬框架的上部還設(shè)有一樣品 臺,所述樣品放置于該樣品臺上,所述樣品臺、光源放射系統(tǒng)、探測器系 統(tǒng)、以及信號處理系統(tǒng)構(gòu)成一測量單元。
      但本發(fā)明人經(jīng)過實(shí)踐,發(fā)現(xiàn)上述專利存在以下幾個方面的缺點(diǎn)需要改
      進(jìn)
      一、該X熒光光譜儀,樣品腔設(shè)計為封閉式的樣品腔,在大尺寸樣品 的測量時十分不便。
      二、 該X熒光光譜儀,沒有移動平臺這樣的裝置,在移動樣品時完全依 靠手工操作。在移動距離很小時,很難達(dá)到微調(diào)的效果。
      三、 該X熒光光譜儀,針對不同的樣品調(diào)整準(zhǔn)直器和濾光片時,都是手 工進(jìn)行操作,這樣每次都必須開蓋進(jìn)行操作,可能會有灰塵進(jìn)入光路系統(tǒng), 或者手動調(diào)整時是依靠人眼的標(biāo)準(zhǔn),難免會有一些偏差,而這些偏差反應(yīng) 到測試樣品上,就會對測試結(jié)果產(chǎn)生影響。
      發(fā)明內(nèi)容
      為了克服上述X熒光光譜儀的眾多缺點(diǎn),本實(shí)用新型的目的是提供一
      種X熒光測厚光譜儀,采用獨(dú)特的上照式設(shè)計并具有開放式樣品腔的X熒
      光光譜儀。
      本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案是 一種X熒光測厚光譜儀,包括機(jī)身和
      與之相連的電腦,所述機(jī)身包括外殼(1)、機(jī)身(2)和樣品腔(3),其中, 所述外殼(1)罩在所述機(jī)身(2)外面,所述樣品腔(3)設(shè)在所述機(jī)身(2) 內(nèi),其特征在于所述樣品腔(3)包括可上下活動的透明屏蔽罩(4)。
      所述機(jī)身內(nèi)設(shè)有樣品腔(3),所述樣品腔包括升降平臺(33)、電機(jī)、 導(dǎo)軌(31)和按鍵(32),升降平臺(33)在電機(jī)拉動下,沿著導(dǎo)軌(31) 上下平穩(wěn)地移動,移動的方向和距離通過按鍵(32)控制。
      所述機(jī)身上設(shè)有支架和氣撐,所述透明屏蔽罩(4)與機(jī)身支架上的左、 右氣撐連接,在左、右氣撐的力作用下,借助把手,沿著固定在支架上的 導(dǎo)軌上下移動。
      所述X熒光測厚光譜儀還設(shè)有移動平臺(5),所述移動平臺(5)包括 拉板(53)、切口 (54)和導(dǎo)軌(55),其中,所述移動平臺(5)裝配在兩 層4條導(dǎo)軌(55)上,通過前面板上的中間的按鍵控制,移動平臺(5)可
      前后左右平穩(wěn)地移動,拉板(53)用來定位樣品,其上設(shè)有切口 (54),當(dāng) 待測點(diǎn)與豎直激光對齊后,手動扣住其上的切口。
      所述X熒光測厚光譜儀設(shè)有準(zhǔn)直器濾光片自動調(diào)節(jié)裝置(6),該裝置包 括電機(jī)(63)、準(zhǔn)直器(61)和濾光片(62)。通過兩頭的兩個電機(jī)(63) 驅(qū)動,其中一個電機(jī)往左拉動準(zhǔn)直器,另一個電機(jī)往右拉動濾光片,精確 定位準(zhǔn)直孔與濾光片。
      本實(shí)用新型的有益效果是
      第一、采用獨(dú)特的上照式設(shè)計,結(jié)合可上下移動的結(jié)構(gòu),以及精準(zhǔn)的移 動平臺裝置,通過三維精確定位樣品測量點(diǎn),方便對尺寸范圍較大的部件 上進(jìn)行鍍層厚度和含量的逐點(diǎn)測量。
      第二、設(shè)有自動切換準(zhǔn)直器和濾光片調(diào)節(jié)裝置,最大限度減少人操作的 麻煩性和不精確性。
      第三、有著精準(zhǔn)的移動平臺裝置,通過X與Y兩個軸精確定位樣品,給 客戶提供方便。
      第四、設(shè)有開放式樣品腔,可上下活動的玻璃屏蔽罩,既避免了測試的 X射線外泄,又方便測量。

      圖l本實(shí)用新型透明罩及升降平臺上移圖; 圖2本實(shí)用新型整體示意圖; 圖3本實(shí)用新型內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖4本實(shí)用新型透明罩沿著固定在支架上的導(dǎo)軌上下移動示意圖; 圖5本實(shí)甩新型移動平臺結(jié)構(gòu)示意圖; . 圖6本實(shí)用新型準(zhǔn)直器濾光片自動調(diào)節(jié)裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
      圖中l(wèi)、外殼;2、機(jī)身;3、樣品腔;31、導(dǎo)軌;32、按鍵;33、升 降平臺;4、透明屏蔽罩;5、移動平臺;53拉板;54、切口; 55、導(dǎo)軌;6、
      準(zhǔn)直器濾光片自動調(diào)節(jié)裝置;61、準(zhǔn)直器;62、濾光片;63、電機(jī)。
      具體實(shí)施方式
      如圖l、圖2、圖3、圖4、圖5、和圖6所示的一種X熒光測厚光譜儀, 包括機(jī)身和與之相連的電腦,所述機(jī)身包括外殼(1)機(jī)身(2)和樣品腔 (3),其中,所述外殼(1)罩在所述機(jī)身(2)外面,所述樣品腔(3)設(shè) 在所述機(jī)身(2)內(nèi),所述樣品腔包括可上下活動的透明屏蔽罩(4)。
      所述機(jī)身內(nèi)設(shè)有樣品腔(3),所述樣品腔包括升降平臺(33)、電機(jī)、 導(dǎo)軌(31)和按鍵(32),升降平臺(33)在電機(jī)拉動下,沿著導(dǎo)軌(31) 上下平穩(wěn)地移動,移動的方向和距離通過按鍵(32)控制。
      所述機(jī)身上設(shè)有支架和氣撐,所述透明屏蔽罩(4)與機(jī)身支架上的左、 右氣撐連接,在左、右氣撐的力作用下,借助把手,沿著固定在支架上的 導(dǎo)軌上下移動。
      所述X熒光測厚光譜儀還設(shè)有移動平臺(5),所述移動平臺(5)包括 拉板(53)、切口 (54)和導(dǎo)軌(55),其中,所述移動平臺(5)裝配在兩 層4條導(dǎo)軌(55)上,通過前面板上的中間的按鍵控制,前后左右平穩(wěn)地 移動,所述移動平臺之上的拉板(53)用來定位樣品,其上設(shè)有切口 (54), 當(dāng)待測點(diǎn)與豎直激光對齊后,手動扣住其上的切口 (54)。
      所述X熒光測厚光譜儀設(shè)有準(zhǔn)直器濾光片自動調(diào)節(jié)裝置(6),該裝置包 括電機(jī)(63)、準(zhǔn)直器(61)和濾光片(62)。通過兩頭的兩個電機(jī),其中 一個往左拉動準(zhǔn)直器,另一個往右拉動濾光片,精確定位準(zhǔn)直孔與濾光片。 另外,目前市場上推出的X熒光光譜儀,有些配套測量軟件是由其他
      軟件改編而來,操作界面十分繁復(fù),對操作人員的要求很高,給儀器購買 商造成了不小的麻煩。
      因此,本實(shí)用新型面向用戶的操作需求開發(fā)了操作軟件,方便用戶進(jìn)行 測試方面的操作,其工作原理如下
      一、 儀器校正
      調(diào)整儀器放大倍數(shù),消除峰漂的影響,確保待測樣品與標(biāo)注樣品條件一 致。
      二、 工作曲線
      根據(jù)樣品的成分和基材不同,把工作曲線分為六大類即測塑料中的
      CrCl;測鋼鐵中的CrCdPbHg,測銅鋅中的Cr, Cd, Pb, Hg,測焊錫中的 CrCdPbHg,自定義。每一大類根據(jù)實(shí)際需要可任意添加多條曲線。
      三、強(qiáng)度計算
      這里采用峰背比的方法,峰面積用高斯擬合計算。即: / = ^; Ip為峰的面積,Ib為背景面積。
      (n0)2
      峰的左邊界 峰的右邊界 峰的高度。
      5
      X:峰道址 X。峰的中心道址 S :與峰的寬度有關(guān)的參數(shù)
      四、計算含量
      含量按公式OaW+b計算。 系數(shù)a,b用最小二乘法給出。
      <formula>formula see original document page 8</formula>
      Ci是標(biāo)準(zhǔn)樣品/的濃度。
      Ii是標(biāo)準(zhǔn)樣品/的強(qiáng)度。
      七、報告結(jié)果
      可以把測量的結(jié)果保存到所需要的文件夾。
      權(quán)利要求1、一種X熒光測厚光譜儀,包括機(jī)身和與之相連的電腦,所述機(jī)身包括外殼(1)、機(jī)身(2)和樣品腔(3),其中,所述外殼(1)罩在所述機(jī)身(2)外面,所述樣品腔(3)設(shè)在所述機(jī)身(2)內(nèi),其特征在于所述樣品腔(3)包括可上下活動的透明屏蔽罩(4)。
      2、 據(jù)權(quán)利要求1所述的X熒光測厚光譜儀,其特征在于所述機(jī)身內(nèi) 設(shè)有樣品腔(3),所述樣品腔(3)包括升降平臺(33)、電機(jī)、導(dǎo)軌(31) 和按鍵(32),升降平臺(33)在電機(jī)拉動下,沿著導(dǎo)軌(31)上下平穩(wěn)地 移動,移動的方向和距離通過按鍵(32)控制。
      3、 據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X熒光測厚光譜儀,其特征在于所述機(jī) 身上設(shè)有支架和氣撐,所述透明屏蔽罩(4)與機(jī)身支架上的左、右氣撐連 接,在左、右氣撐的力作用下,借助把手,沿著固定在支架上的導(dǎo)軌上下 移動。
      4、 據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X熒光測厚光譜儀,其特征在于所述X 熒光測厚光譜儀設(shè)有移動平臺(5),所述移動平臺(5)包括拉板(53)、 切口 (54)和導(dǎo)軌(55),其中,所述移動平臺(5)裝配在兩層4條導(dǎo)軌(55)上,通過機(jī)身前面板上的中間的按鍵控制。
      5、 據(jù)權(quán)利要求4所述的X熒光測厚光譜儀,其特征在于所述X熒光 測厚光譜儀設(shè)有準(zhǔn)值器濾光片自動調(diào)節(jié)裝置(6),該裝置包括電機(jī)(63)、 準(zhǔn)直器(61)和濾光片(62)。
      專利摘要一種X熒光測厚光譜儀,包括機(jī)身和與之相連的電腦,其特征在于所述機(jī)身包括外殼機(jī)身和樣品腔,其特征在于所述樣品腔包括可上下活動的透明屏蔽罩。所述機(jī)身內(nèi)設(shè)有樣品腔,所述樣品腔包括升降平臺、電機(jī)、導(dǎo)軌和按鍵,升降平臺在電機(jī)拉動下,沿著導(dǎo)軌上下平穩(wěn)地移動,移動的方向和距離通過按鍵控制。
      文檔編號G01B15/02GK201177501SQ20072019652
      公開日2009年1月7日 申請日期2007年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月27日
      發(fā)明者劉召貴, 剛 應(yīng), 胡曉斌 申請人:江蘇天瑞信息技術(shù)有限公司
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