專(zhuān)利名稱：一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置技術(shù)領(lǐng)域?qū)嵱眯滦蜕婕耙苯疬B鑄機(jī)結(jié)晶器，特別涉及方坯管式結(jié)晶器(本 文稱方管結(jié)晶器)及組合式結(jié)晶器內(nèi)壁連續(xù)差厚鍍層的電鍍裝置。
技術(shù)背景煉鋼連鑄機(jī)用方管結(jié)晶器的內(nèi)壁鍍層目前仍沿用等厚電鍍工藝。 由于方管結(jié)晶器的技術(shù)要求，其上端(即鋼水入口處)鍍層應(yīng)相對(duì)減 薄，使鋼水熱量能迅速散失，而鋼水在流進(jìn)方管結(jié)晶器入口至三分之 一處逐步形殼成錠后鍍層應(yīng)相應(yīng)增厚，以克服鋼錠滑動(dòng)磨擦的損耗。 無(wú)疑等厚鍍層難以滿足上述要求。為此，方管結(jié)晶器的過(guò)鋼量很難大 幅度提高。沿用等厚鍍層的主要原因是方管結(jié)晶器內(nèi)壁鍍層上薄下厚 的加工要求(因其四個(gè)棱角為弧度設(shè)計(jì)) 一般機(jī)加工設(shè)備很難完成。 實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的 流鍍裝置，采用鍍液在結(jié)晶器內(nèi)流動(dòng)時(shí)進(jìn)出鍍液等量分流的辦法，使結(jié) 晶器中鍍液液位按設(shè)計(jì)要求逐漸連續(xù)下降，從而實(shí)現(xiàn)連續(xù)差厚鍍層。本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的本實(shí)用新型提供一種鍍液液位 可以控制的流鍍裝置，包括流鍍系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源三個(gè)部分組成。按照本實(shí)用新型所述流鍍系統(tǒng)由鍍液儲(chǔ)糟、入口泵、進(jìn)液閥、入 口流量計(jì)、下流鍍罩、方管結(jié)晶器、陽(yáng)極、上流鍍罩、溢流口、溢流 閥、出口流量計(jì)及連通管道共同組成一個(gè)封閉的鍍液流動(dòng)系統(tǒng)，其特征在于方管結(jié)晶器作為電鍍?cè)?、?jīng)上、下流鍍罩密封固定后，下流 鍍罩經(jīng)進(jìn)液口、管道與入口流量計(jì)對(duì)接，下接進(jìn)液閥、入口泵。上流 鍍罩經(jīng)溢流口、溢流管與溢流閥對(duì)接、再接出口流量計(jì)、鍍液儲(chǔ)槽。按照本實(shí)用新型所述控制系統(tǒng)由入口流量計(jì)、出口流量計(jì)和分流 流量計(jì)共同組成，其特征在于下流鍍罩的進(jìn)液口與入口流量計(jì)之間 安裝一個(gè)分流閥，分流閥下接分流流量計(jì)，再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ)糟。按照本實(shí)用新型所述控制系統(tǒng)、其特征在于虹吸管由陽(yáng)極引出、 經(jīng)上流鍍罩穿出后接虹吸閥，該虹吸管頂端最高點(diǎn)的高度低于溢流 口，且虹吸管、虹吸閥與溢流管、溢流閥并聯(lián)接至出口流量計(jì)，再經(jīng) 管道接至鍍液儲(chǔ)糟。當(dāng)鍍液在流鍍系統(tǒng)中運(yùn)動(dòng)時(shí)，由可手動(dòng)、自動(dòng)調(diào)節(jié)的高頻直流脈沖電源(見(jiàn)專(zhuān)利ZL200620023685.2)對(duì)系統(tǒng)供電、完成對(duì)結(jié)晶器內(nèi) 壁的電鍍過(guò)程。本實(shí)用新型有以下積極效果由于電鍍過(guò)程中鍍液在 一個(gè)以方管結(jié)晶器為電鍍槽的封閉系統(tǒng)中運(yùn)動(dòng)，不但大幅度減少鍍液 用量、避免鍍液揮發(fā)污染，而且可以在鍍液循環(huán)中控制方管結(jié)晶器內(nèi) 鍍液液位的平衡和升降，從而實(shí)現(xiàn)封閉容器中鍍層厚度的自動(dòng)控制。


(附圖為方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍裝置示意圖。)1上流鍍罩2陽(yáng)極3方管結(jié)晶器4篩板5下流鍍罩6溢流口 7虹 吸管8溢流管9虹吸閥10溢流閥11出口流量計(jì)12進(jìn)液口 13入口流 量計(jì)14分流閥15分流流量計(jì)16進(jìn)液閥17入口泵18鍍液貯槽19溫 度控制儀表20補(bǔ)液槽21補(bǔ)液閥。
具體實(shí)施方式
參照附圖，本實(shí)用新型是一種可以用簡(jiǎn)單方法控制方管結(jié)晶器(3) 內(nèi)液位升降的流鍍裝置，其中包括流鍍系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源。流鍍系統(tǒng)是一個(gè)完全的封閉系統(tǒng)。當(dāng)鍍液經(jīng)鍍液儲(chǔ)槽(18)、入口 泵(17)、入口流量計(jì)(13)、下流鍍罩(5)、篩板(4)進(jìn)入方管結(jié) 晶器(3)時(shí)，鍍液勻速上升，由上流鍍罩(1)的溢流口 (6)流出， 再經(jīng)溢流管(8)、溢流閥(10)，出口流量計(jì)(11)回到鍍液儲(chǔ)槽(18)。 當(dāng)進(jìn)液閥(16)和溢流閥(10)的開(kāi)度調(diào)至相當(dāng)位置時(shí)，出口流量計(jì)(11)和入口流量計(jì)(13)顯示流量相等，此時(shí)溢流口 (6)處保持 恒定液位，鍍液均勻溢流。電鍍工藝要求的鍍液流速則由進(jìn)液閥(16) 和溢流閥(10)的開(kāi)度給定。在該條件下、按照人為設(shè)定的時(shí)間段、 電源通電后方管結(jié)晶器(3)的內(nèi)壁上形成等厚鍍層。第二時(shí)間段，在方管結(jié)晶器(3)進(jìn)液口(12)前的分流閥(14折啟后、 進(jìn)液口(12)處鍍液被分流，方管結(jié)晶器(3)內(nèi)鍍液流入量小于流出量， 液位開(kāi)始下降。液位下降速度和分流流量成正比。為此、分流流量的 大小就成為鍍液液位下降的控制條件。人為設(shè)定的下降速度由分流閥(14)在單位時(shí)間內(nèi)分流的鍍液體積換算出來(lái)。當(dāng)液位下降到溢流口 (6)以下時(shí)，溢流管(8)失去作用，此時(shí) 打開(kāi)虹吸閥(9),方管結(jié)晶器(3)內(nèi)的鍍液就可以從虹吸管(7)中 引流而下{虹吸管(7)頂端高度必須低于溢流口 (6) }。虹吸閥(9) 的開(kāi)度調(diào)至和進(jìn)液閥(16)開(kāi)度相當(dāng)，如分流閥(14)仍按原指令繼 續(xù)分流，則鍍液的下降速度就能得以保持，直到設(shè)計(jì)時(shí)段終點(diǎn)。在每一個(gè)時(shí)點(diǎn)上、鍍液中的金屬離子在電流作用下、不間斷地運(yùn)動(dòng)至方管結(jié)晶器(3)的內(nèi)壁上堆積。伴隨液位下降，這個(gè)連續(xù)的堆積過(guò)程就 在方管結(jié)晶器(3)的內(nèi)壁上形成了一個(gè)漸厚鍍層。隨著方管結(jié)晶器(3)液位下降、受鍍面積逐步減少，電鍍電流也要相應(yīng)減少，具體辦法 一是計(jì)算單位時(shí)間受鍍面積減少量，列表后按時(shí)間過(guò)程手動(dòng)調(diào)低電流。二是安裝液位跟蹤儀表，將輸出的4一 20MA信號(hào)接入直流脈沖電源，通過(guò)轉(zhuǎn)換器按比例控制電流輸出，從 而實(shí)現(xiàn)單位受鍍面積電流的穩(wěn)定分布。
權(quán)利要求1. 一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置，包括鍍液儲(chǔ)槽(18)、入口泵(17)、進(jìn)液閥(16)、入口流量計(jì)(13)、下流鍍罩(5)、方管結(jié)晶器(3)、陽(yáng)極(2)、上流鍍罩(1)、溢流管(8)、溢流閥(10)、出口流量計(jì)(11)共同組成一個(gè)封閉的流鍍系統(tǒng)，其特征在于下流鍍罩(5)的進(jìn)液口(12)與入口流量計(jì)(13)之間安裝一個(gè)分流閥(14)，該分流閥(14)下接分流流量計(jì)(15)，再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ)糟(18)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流 鍍裝置，其特征在于虹吸管(7)由陽(yáng)極(2)引出、經(jīng)上流鍍 罩(1)穿出后接虹吸閥(9)，該虹吸管(7)頂端最高點(diǎn)的高 度低于溢流口 (6)，虹吸管(7)、虹吸閥(9)與溢流管(8)、 溢流閥(10)并聯(lián)接至出口流量計(jì)(11)，再經(jīng)管道接至鍍液儲(chǔ) 糟(18)。
專(zhuān)利摘要一種實(shí)現(xiàn)方管結(jié)晶器連續(xù)差厚鍍層的流鍍裝置，包括流鍍系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和電源系統(tǒng)。當(dāng)鍍液完成從下流鍍罩進(jìn)入、上流鍍罩溢出的循環(huán)流動(dòng)時(shí)，本實(shí)用新型采取了等量分流和虹吸引流的辦法，使原本進(jìn)出平衡的鍍液液位下降。下降速度受人為設(shè)定的分流流量控制。電鍍電流隨液位下降調(diào)低。在電鍍過(guò)程的持續(xù)中，一個(gè)由上而下逐漸增厚的鍍層在結(jié)晶器中形成并均勻、連續(xù)。本實(shí)用新型所述裝置工藝簡(jiǎn)單，體積小節(jié)省鍍液，降低污染，并具有可多裝置并接，集中控制等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C25D5/16GK201092588SQ20062013228
公開(kāi)日2008年7月30日 申請(qǐng)日期2006年8月16日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月16日
發(fā)明者濤 姜, 劍 李, 軍 鐵 申請(qǐng)人:鐵 軍;姜 濤;李 劍