專利名稱：測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體工藝，尤其涉及一種測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法。
背景技術(shù)：
由于半導(dǎo)體芯片制造業(yè)對于不同的工藝需求會使用不同類型的光刻機(jī)，再加上制造光刻機(jī)的廠家不止一家，因此不同型號的光刻機(jī)會使用不同尺寸的掩模板保護(hù)膜(附圖1 中②的窄邊尺寸會有不同)。尺寸用錯會造成對掩模板或設(shè)備的損壞，因此掩模板制造廠家在掩模板出廠時會對使用的保護(hù)膜型號進(jìn)行檢查，但是仍然會存在漏檢的風(fēng)險。目前大部分芯片制造廠對此項(xiàng)目只有進(jìn)貨時的清單檢查，沒有對實(shí)際保護(hù)膜尺寸的檢查。另外由于不同型號的尺寸只相差數(shù)毫米，單靠目測無法發(fā)現(xiàn)?，F(xiàn)在有個別廠利用掩模板缺陷檢查的設(shè)備在檢查時所拍的照片進(jìn)行間接的檢查，這樣多浪費(fèi)了設(shè)備時間和人工，增加了成本而且要花較長的時間。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明公開了一種測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中由于無法檢測保護(hù)膜尺寸導(dǎo)致的由于保護(hù)膜尺寸錯誤造成掩模板或設(shè)備損壞的問題。本發(fā)明的上述目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的
一種測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，一掩模板盒具有一盒蓋、一底座板和一支架，所述支架固定在底座板上，將一掩模板固定在所述支架上，其中，一測量工具的一側(cè)表面形成有刻度，所述測量工具的另一側(cè)表面具有兩直角卡槽，通過兩直角卡槽將測量工具固定在底座板上，使測量工具位于掩模板的一側(cè)，且使測量工具與掩模板的一側(cè)邊緣平行，以對掩模板的圖形保護(hù)膜進(jìn)行測量。如上所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其中，所述掩模板包括石英板主體和所述圖形保護(hù)膜。如上所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其中，采用直尺作為所述測量工具。如上所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其中，將測量工具固所述底座板上使所述測量工具的刻度的零點(diǎn)位置與所述掩模板的中心保持一致。如上所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其中，所述兩直角卡槽垂直安裝在所述測量工具上，對兩直角卡槽的間距進(jìn)行調(diào)節(jié)，使得兩直角卡槽與底座板相固定，進(jìn)而將測量工具固定在底座板上。綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于無法檢測保護(hù)膜尺寸導(dǎo)致的由于保護(hù)膜尺寸錯誤造成掩模板或設(shè)備損壞的問題，通過在掩模板盒上固定測量工具實(shí)現(xiàn)掩模板的圖形保護(hù)膜尺寸的精確測量。


通過閱讀參照以下附圖對非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明及其特征、外形和優(yōu)點(diǎn)將會變得更明顯。在全部附圖中相同的標(biāo)記指示相同的部分。并未刻意按照比例繪制附圖，重點(diǎn)在于示出本發(fā)明的主旨。圖1是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖2是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的將掩模板固定在掩模板盒后的示意
圖3是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的測量工具一側(cè)表面的示意圖； 圖4是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的測量工具的另一側(cè)表面的示意圖； 圖5是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的將測量工具固定在底座板后的示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步的說明
一種測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，圖2是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的將掩模板固定在掩模板盒后的示意圖，清參見圖2，一掩模板盒10具有一盒蓋101、一底座板102和一支架103，所述支架103固定在底座板102上，盒蓋101的一側(cè)變與底座板102 的一側(cè)邊通過一旋轉(zhuǎn)件連接，將一掩模板20固定在所述支架103上，其中，
圖3是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的測量工具一側(cè)表面的示意圖，圖4是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的測量工具的另一側(cè)表面的示意圖，圖5是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的將測量工具固定在底座板后的示意圖，請參見圖3、圖 4、圖5，一測量工具30的一側(cè)表上面形成有刻度，所述測量工具30的另一側(cè)表面具有兩直角卡槽301，通過兩直角卡槽301將測量工具30固定在底座板102上，使測量工具30位于掩模板20的一側(cè)，且使測量工具30與掩模板20的一側(cè)邊緣平行，以對掩模板20的圖形保護(hù)膜202進(jìn)行測量，測量工具30上的刻度位于測量工具30靠近掩模板20的一側(cè)，側(cè)來那個裝置與掩模板20之間的距離非常短，因此，本發(fā)明中測量工具30無需與掩模板20相接觸即可通過測量工具30上的刻度對圖形保護(hù)膜202的尺寸進(jìn)行測量。圖1是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖，請參見圖 1，本發(fā)明中的掩模板20包括石英板主體201和所述圖形保護(hù)膜202。圖3是本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法的測量工具一側(cè)表面的示意圖，請參見圖3，進(jìn)一步的，本發(fā)明中可以采用直尺作為所述測量工具30，可直觀的進(jìn)行讀數(shù)，另外，可采用透明材質(zhì)的直尺作為測量工具30。本發(fā)明中將測量工具30固所述底座板102上使所述測量工具30的刻度的零點(diǎn)位置與所述掩模板20的中心保持一致，掩模板20 —般放置在研磨和正中央，保護(hù)膜202的中心也與掩模板20中心一致，固定后圖形保護(hù)膜202的中心在測量工具30的零點(diǎn)刻度線所在的直線上，使得讀數(shù)更加清晰、準(zhǔn)確，測量圖形保護(hù)膜202尺寸的過程中從零點(diǎn)向兩側(cè)的讀數(shù)是相同的，圖形保護(hù)膜202的尺寸可以通過零點(diǎn)任意一側(cè)的讀數(shù)的兩倍得出。本發(fā)明中兩直角卡槽301垂直安裝在所述測量工具30上，兩直角卡槽301之間的間距可調(diào)節(jié)，對兩直角卡槽301的之間的間距進(jìn)行調(diào)節(jié)，使得兩直角卡槽301與底座板102 相固定，進(jìn)而將測量工具30固定在底座板102上。綜上所述，由于采用了上述技術(shù)方案，本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于無法檢測保護(hù)膜尺寸導(dǎo)致的由于保護(hù)膜尺寸錯誤造成掩模板或設(shè)備損壞的問題，通過在掩模板盒上固定測量工具實(shí)現(xiàn)掩模板的圖形保護(hù)膜尺寸的精確測量， 并且省略了使用其他設(shè)備進(jìn)行判斷的步驟，進(jìn)一步節(jié)約了成本。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員結(jié)合現(xiàn)有技術(shù)以及上述實(shí)施例可以實(shí)現(xiàn)所述變化例，在此不予贅述。這樣的變化例并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容，在此不予贅述。以上對本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，本發(fā)明并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例，這并不影響本發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所做的任何簡單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，一掩模板盒具有一盒蓋、一底座板和一支架， 所述支架固定在底座板上，將一掩模板固定在所述支架上，其特征在于，一測量工具的一側(cè)表面形成有刻度，所述測量工具的另一側(cè)表面具有兩直角卡槽，通過兩直角卡槽將測量工具固定在底座板上，使測量工具位于掩模板的一側(cè)，且使測量工具與掩模板的一側(cè)邊緣平行，以對掩模板的圖形保護(hù)膜進(jìn)行測量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其特征在于，所述掩模板包括石英板主體和所述圖形保護(hù)膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其特征在于，采用直尺作為所述測量工具。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其特征在于，將測量工具固所述底座板上使所述測量工具的刻度的零點(diǎn)位置與所述掩模板的中心保持一致。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法，其特征在于，所述兩直角卡槽垂直安裝在所述測量工具上，對兩垂直卡槽的間距進(jìn)行調(diào)節(jié)，使得兩垂直卡槽與底座板相固定，進(jìn)而將測量工具固定在底座板上。
全文摘要
本發(fā)明測量掩模板保護(hù)膜的工具及方法解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于無法檢測保護(hù)膜尺寸導(dǎo)致的由于保護(hù)膜尺寸錯誤造成掩模板或設(shè)備損壞的問題，通過在掩模板盒上固定測量工具實(shí)現(xiàn)掩模板的圖形保護(hù)膜尺寸的精確測量。
文檔編號G01B5/00GK102445124SQ20111025024
公開日2012年5月9日 申請日期2011年8月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月29日
發(fā)明者戴韞青, 毛智彪, 王劍 申請人:上海華力微電子有限公司