專利名稱：一種極譜數(shù)據(jù)分析方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種極譜分析方法，具體的涉及一種極譜數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理，最后得出需要結(jié)果的快速準(zhǔn)確的極譜數(shù)據(jù)分析方法。
背景技術(shù)：
極譜對(duì)樣品中離子濃度的計(jì)算，是通過計(jì)算電勢(shì)峰高或者面積并且與相同條件下的標(biāo)準(zhǔn)溶液相比較得出，默認(rèn)濃度為0時(shí)電勢(shì)為0。所以在極譜對(duì)樣品進(jìn)行測(cè)量前，先對(duì)標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行標(biāo)定，找到當(dāng)前樣品濃度和電流峰高或面積之間對(duì)應(yīng)關(guān)系。極譜儀器在掃描得到譜線數(shù)據(jù)后，峰的基線不為簡(jiǎn)單的直線；且峰型不規(guī)則，峰型與掃描前的富集時(shí)間、掃描過程中掃描速率(電壓改變速率)、掃描電壓范圍、掃描電壓步長(zhǎng)和樣品本身濃度有關(guān)；所述富集時(shí)間的定義如下以玻碳或者金盤作為工作電極，將還原電勢(shì)施加于工作電極并不停攪拌溶液，當(dāng)電極電勢(shì)超過某種金屬離子的析出電勢(shì)，溶液中被分析的金屬離子還原為金屬電鍍于工作電極表面，電勢(shì)施加時(shí)間越長(zhǎng)，還原出來電鍍于電極表面的金屬越多，電勢(shì)施加的時(shí)間就為富集時(shí)間。直接對(duì)譜線進(jìn)行峰面積計(jì)算時(shí)本底扣除困難且誤差較大，導(dǎo)致金屬離子濃度計(jì)算誤差較大。

發(fā)明內(nèi)容
為克服現(xiàn)有技術(shù)中金屬離子濃度計(jì)算誤差較大的不足，本發(fā)明旨在提供一種快速準(zhǔn)確的極譜數(shù)據(jù)分析方法，以使得金屬離子濃度的計(jì)算快速準(zhǔn)確。為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，達(dá)到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時(shí)間范圍為5-50s ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ； 掃描電壓步長(zhǎng)范圍為l_20mV;步驟2、數(shù)據(jù)處理計(jì)算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計(jì)算步驟3. 1)對(duì)已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為O時(shí)濃度為0 ；步驟3. 2)對(duì)測(cè)量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測(cè)量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。進(jìn)一步的，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實(shí)施步驟步驟2. 1)對(duì)所述譜線采用4點(diǎn)滑動(dòng)平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點(diǎn)滑動(dòng)平均的公式為ρ (η) = (ρ(η-1)+ρ(η)+ρ(η+1)+ρ(η+2))+4(1)式⑴中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點(diǎn)集合ρ中第n-1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ (η)表示第 η個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ(η+1)表示第η+1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ(η+2)表示第η+2個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；
步驟2. 2)通過所述極譜儀對(duì)金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時(shí)都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對(duì)選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實(shí)現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計(jì)算峰窗口的峰面積，計(jì)算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點(diǎn)縱坐標(biāo)上對(duì)應(yīng)值相加。進(jìn)一步的，所述步驟2. 3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2.3. 1)添加凸函數(shù)，對(duì)被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個(gè)凸函數(shù)，公式為f (x) = (ymax-ymin) + a X (χ-χ0)2 + (xe-x0)2(2)式O)中，f (χ)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；χ表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點(diǎn)橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個(gè)點(diǎn)橫坐標(biāo)值；a為一個(gè)經(jīng)驗(yàn)值，范圍為1 50，優(yōu)選的，所述a取10 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對(duì)P中點(diǎn)集排序，產(chǎn)生一個(gè)有序點(diǎn)列{P1; P2,..., pn}，然后逐一引入P中的點(diǎn)，并且在凸包中每增加P中一個(gè)點(diǎn)，都對(duì)當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，所述P為添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集，所述的調(diào)整和更新包含如下步驟step 1 對(duì)P中點(diǎn)根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ；step 2 在Llow中加入P1與P2,開始計(jì)算下凸包，所述Llov為空的凸包列表；Step 3 循環(huán)點(diǎn)集 P for i = 3 to η ；向Llow 中加入 Pi ；if L1ot中至少還有三個(gè)點(diǎn)，而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐then將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從L1m中刪除；否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)；i = i+1循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)；Step 4 得到下凸包 L1ot ；步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個(gè)點(diǎn)到最后一個(gè)點(diǎn)依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點(diǎn)橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點(diǎn)多項(xiàng)式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對(duì)應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。優(yōu)選的，所述步驟2. 3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果本發(fā)明通過設(shè)置掃描條件使得采集到的數(shù)據(jù)峰型穩(wěn)定；并通過算法使得采集到的數(shù)據(jù)譜線由不規(guī)則的峰型校正成規(guī)則的峰型；通過標(biāo)準(zhǔn)樣品標(biāo)定計(jì)算金屬離子濃度。其優(yōu)點(diǎn)在于條件設(shè)置后峰型穩(wěn)定；數(shù)據(jù)處理后峰型規(guī)則使峰面積計(jì)算更快速準(zhǔn)確；標(biāo)定后濃度計(jì)算更準(zhǔn)確。上述說明僅是本發(fā)明技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本發(fā)明的技術(shù)手段， 并可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，以下以本發(fā)明的較佳實(shí)施例并配合附圖詳細(xì)說明。本發(fā)明的具體實(shí)施方式
由以下實(shí)施例及其附圖詳細(xì)給出。


此處所說明的附圖用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本申請(qǐng)的一部分，本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中圖1為本發(fā)明的極譜數(shù)據(jù)分析方法的處理流程圖。圖2為本發(fā)明數(shù)據(jù)處理實(shí)施流程中求凸包簡(jiǎn)圖。圖3為本發(fā)明實(shí)例一數(shù)據(jù)處理效果圖。圖中校正數(shù)據(jù)為對(duì)原始數(shù)據(jù)選擇峰窗口范圍為-1200到-800處理后的曲線，基線為原始數(shù)據(jù)處理到校正數(shù)據(jù)時(shí)扣除的數(shù)據(jù)。圖4為本發(fā)明實(shí)例二數(shù)據(jù)處理效果圖
具體實(shí)施例方式下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例，來詳細(xì)說明本發(fā)明。參見圖1所示，一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時(shí)間范圍為5-50s ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ； 掃描電壓步長(zhǎng)范圍為l_20mV;步驟2、數(shù)據(jù)處理計(jì)算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計(jì)算步驟3. 1)對(duì)已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為O時(shí)濃度為0 ；步驟3. 2)對(duì)測(cè)量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測(cè)量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。進(jìn)一步的，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實(shí)施步驟步驟2. 1)對(duì)所述譜線采用4點(diǎn)滑動(dòng)平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點(diǎn)滑動(dòng)平均的公式為ρ (η) = (ρ(η-1)+ρ(η)+ρ(η+1)+ρ(η+2))+4(1)式⑴中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點(diǎn)集合ρ中第n-1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ (η)表示第 η個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ(η+1)表示第η+1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ(η+2)表示第η+2個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；步驟2. 2)通過所述極譜儀對(duì)金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時(shí)都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對(duì)選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實(shí)現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計(jì)算峰窗口的峰面積，計(jì)算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點(diǎn)縱坐標(biāo)上對(duì)應(yīng)值相加。進(jìn)一步的，所述步驟2. 3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2.3. 1)添加凸函數(shù)，對(duì)被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個(gè)凸函數(shù)，公式為f (x) = (ymax-ymin) + a X (χ-χ0)2 + (xe-x0)2(2)式O)中，f (χ)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；X表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點(diǎn)橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個(gè)點(diǎn)橫坐標(biāo)值；a為一個(gè)經(jīng)驗(yàn)值，范圍為1 50，優(yōu)選的，所述a取10 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對(duì)數(shù)據(jù)集P(添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù))中點(diǎn)集排序，產(chǎn)生一個(gè)有序點(diǎn)列{p1; P2,..., PJ，然后逐一引入P中的點(diǎn)，并且在凸包中每增加P中一個(gè)點(diǎn)，都對(duì)當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，當(dāng)處理凸包采用按照譜線橫坐標(biāo)范圍由小到大，即從左到右的方式添加時(shí)，獲得的凸包稱為下凸包，其凸包中點(diǎn)的序?yàn)閺淖钭蠖说狞c(diǎn)P1 出發(fā)，從數(shù)據(jù)集P的下方按逆時(shí)針行進(jìn)到最右端點(diǎn)Pn ；凸包點(diǎn)集Q的凸包是指一個(gè)最小凸多邊形，滿足Q中的點(diǎn)或者在多邊形邊上或者在其內(nèi)。圖2中由表示的多邊形就是點(diǎn)集Q= {pl，p2，p 3...pl0}的凸包。求凸包一組平面上的點(diǎn)，求一個(gè)包含所有點(diǎn)的最小的凸多邊形，這就是求凸包。 這可以形象地想成這樣在地上放置一些不可移動(dòng)的木樁，用一根繩子把他們盡量緊地圈起來，這就是凸包了。具體實(shí)現(xiàn)step 1 對(duì)P中點(diǎn)根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ；step 2 在空的凸包列表L1ot中加入P1與P2,開始計(jì)算下凸包；step 3 循環(huán)點(diǎn)集 P for i = 3 to η ；向Llow 中加入 Pi ；If L1ot中至少還有三個(gè)點(diǎn)，而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐then將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從L1m中刪除；否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)；i = i+1循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)；step 4 得到下凸包 L1ot。三個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)是否構(gòu)成左拐的問題可通過定義一個(gè)判別函數(shù)來解決。定義判別函數(shù)f (Pi, Pj, pk,) = (Xj-Xi) X (Yk-Yi) -(Xk-Xi) X (Yj-Yi)。(1)落在直線的左側(cè)半平面內(nèi)< ==>f(Pi, Pj, pk, ) > 0 ；(2)落在直線上 < ==>f(Pi, Pj, Pk,) = 0 ；(3)落在直線的右側(cè)半平面內(nèi)< ==>f(Pi, Pj, pk, ) < 0。步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個(gè)點(diǎn)到最后一個(gè)點(diǎn)依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點(diǎn)橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點(diǎn)多項(xiàng)式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對(duì)應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。優(yōu)選的，所述步驟2. 3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。下面就本發(fā)明做出實(shí)例分析，實(shí)例中標(biāo)準(zhǔn)樣品處理過程省去。實(shí)例1 步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時(shí)間為20s ；掃描速率范圍為500mV/s ；掃描電壓范圍為_1200mV _800mV ；掃描電壓步長(zhǎng)范圍為ImV ；
步驟幻數(shù)據(jù)處理計(jì)算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積，本處峰窗口范圍為-1200 -800，凸函數(shù)中a取值為10，通過基線處理進(jìn)行峰型校正執(zhí)行一次。效果圖如附圖3，與原始數(shù)據(jù)相比，校正數(shù)據(jù)曲線的峰型規(guī)則，且峰背景被完全扣除，由圖中可以清晰看出處理后的校正數(shù)據(jù)峰面積的計(jì)算更簡(jiǎn)單，計(jì)算結(jié)果更精確。步驟3)金屬離子濃度計(jì)算根據(jù)處理后的譜線數(shù)據(jù)計(jì)算極譜峰全面積，并根據(jù)已有樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。實(shí)例2 步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時(shí)間為20s ；掃描速率范圍為500mV/s ；掃描電壓范圍為_1200mV _800mV ；掃描電壓步長(zhǎng)范圍為ImV ；步驟幻數(shù)據(jù)處理計(jì)算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積，本處峰窗口范圍為-1200 -800，凸函數(shù)中a取值為1. 5，通過基線處理進(jìn)行峰型校正執(zhí)行一次。效果圖如附圖4，由圖可知原始數(shù)據(jù)峰型及其不規(guī)則，且峰背景成變化趨勢(shì)；經(jīng)數(shù)據(jù)處理扣除基線后，校正數(shù)據(jù)峰型規(guī)則，且峰背景被完全扣除。顯然由本步處理后計(jì)算峰面積時(shí)更加簡(jiǎn)單， 計(jì)算出的結(jié)果更精確。步驟3)金屬離子濃度計(jì)算根據(jù)處理后的譜線數(shù)據(jù)計(jì)算極譜峰全面積，并根據(jù)已有樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施案例而已，并不用于限制本發(fā)明，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，包括以下步驟，步驟1)極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置所述極譜儀的掃描條件富集時(shí)間范圍為5-50S ；掃描速率范圍為200-600mV/s ；掃描電壓范圍為_4000mV +4000mV ；掃描電壓步長(zhǎng)范圍為l_20mV ；步驟幻數(shù)據(jù)處理計(jì)算所述譜線中選定的峰窗口的峰面積；步驟幻金屬離子濃度計(jì)算步驟3. 1)對(duì)已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為 0時(shí)濃度為0 ；步驟3. 2)對(duì)測(cè)量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測(cè)量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，所述步驟2數(shù)據(jù)處理，包括以下具體實(shí)施步驟步驟2. 1)對(duì)所述譜線采用4點(diǎn)滑動(dòng)平均的方法進(jìn)行除噪，所述4點(diǎn)滑動(dòng)平均的公式為 P (η) = (ρ (η-1) +ρ (η) +ρ (η+1) +ρ (η+2)) +4(1)式(1)中，p(n-l)表示譜線數(shù)據(jù)點(diǎn)集合ρ中第η-1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ(η)表示第η個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；P (η+1)表示第η+1個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值；ρ (η+2)表示第η+2個(gè)點(diǎn)的縱坐標(biāo)值； 步驟2. 2)通過所述極譜儀對(duì)金屬離子溶液進(jìn)行多次掃描后，選擇其峰窗口的最大范圍作為峰窗口范圍，以確保每次處理時(shí)都能正確包含金屬掃描峰；步驟2. 3)對(duì)選定的峰窗口范圍進(jìn)行基線處理實(shí)現(xiàn)峰型校正，所述峰窗口范圍即確定進(jìn)行基線處理的譜線的橫坐標(biāo)的范圍；步驟2. 4)通過步驟2. 3中選擇的譜線的橫坐標(biāo)范圍計(jì)算峰窗口的峰面積，計(jì)算方法為選定譜線的橫坐標(biāo)范圍內(nèi)各點(diǎn)縱坐標(biāo)上對(duì)應(yīng)值相加。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于，步驟2.3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正的具體步驟如下步驟2. 3. 1)添加凸函數(shù)，對(duì)被處理的譜線數(shù)據(jù)上添加一個(gè)凸函數(shù)，公式為 f (x) = (ymax-ymin)+aX (XI。)2+(XeItl)2(2)式(2)中，f (X)表示凸函數(shù)；ymax表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最大值；ymin表示被處理譜線數(shù)據(jù)縱坐標(biāo)最小值；χ表示被處理譜線數(shù)據(jù)的橫坐標(biāo)值；^表示被處理譜線數(shù)據(jù)的中間點(diǎn)橫坐標(biāo)值表示被處理譜線數(shù)據(jù)的最后一個(gè)點(diǎn)橫坐標(biāo)值；a為一個(gè)經(jīng)驗(yàn)值，范圍為1 50 ；步驟2. 3. 2)尋找下凸包，首先對(duì)P中點(diǎn)集排序，產(chǎn)生一個(gè)有序點(diǎn)列{P1; P2, ... , PJ, 然后逐一引入P中的點(diǎn)，并且在凸包中每增加P中一個(gè)點(diǎn)，都對(duì)當(dāng)前凸包做相應(yīng)的調(diào)整和更新，所述P為添加過凸函數(shù)的譜線數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)集，所述的調(diào)整和更新包含如下步驟 step 1 對(duì)P中點(diǎn)根據(jù)橫坐標(biāo)從小到大字典排序，得到序列P1, P2, ...，Pn ； step 2 在Llow中加入P1與P2,開始計(jì)算下凸包，所述L1ot為空的凸包列表； step 3 循環(huán)點(diǎn)集 P for i = 3 to η ； 向Llow中加入Pi ；If Llw中至少還有三個(gè)點(diǎn)，而且最末尾的三個(gè)點(diǎn)所構(gòu)成的不是一個(gè)左拐then將倒數(shù)第二個(gè)頂點(diǎn)從Llw中刪除；否則直接循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)； i = i+1循環(huán)下一個(gè)數(shù)據(jù)點(diǎn)；s t e ρ 4 得到下凸包Llw ；步驟2. 3. 3)扣除基線，找到的下凸包中第一個(gè)點(diǎn)到最后一個(gè)點(diǎn)依次直線連接形成一條折線曲線，并根據(jù)下凸包中各點(diǎn)橫坐標(biāo)值形成折線函數(shù)，得到的折線函數(shù)就為被處理數(shù)據(jù)的基線，所述折線函數(shù)通過下凸包各點(diǎn)多項(xiàng)式擬合得到，將步驟2. 3. 1處理后的數(shù)據(jù)減去折線函數(shù)對(duì)應(yīng)值即得到基線處理后的數(shù)據(jù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于所述步驟2.3對(duì)選定的峰窗口范圍通過基線處理進(jìn)行峰型校正可進(jìn)行多次執(zhí)行。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的極譜數(shù)據(jù)分析方法，其特征在于所述a取10。
全文摘要
一種極譜數(shù)據(jù)分析方法，包括極譜數(shù)據(jù)采集通過極譜儀掃描得到譜線，設(shè)置極譜儀的掃描條件富集時(shí)間范圍為5-50s，掃描速率范圍為200～600mV/s，掃描電壓范圍為-4000mV～+4000mV，掃描電壓步長(zhǎng)范圍為1～20mV；數(shù)據(jù)處理計(jì)算譜線中選定的峰窗口的峰面積；和金屬離子濃度計(jì)算對(duì)已知濃度的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到標(biāo)注樣品的峰面積，進(jìn)而可得出樣品濃度和峰面積比例關(guān)系，默認(rèn)峰面積為0時(shí)濃度為0；對(duì)測(cè)量樣品進(jìn)行極譜數(shù)據(jù)采集及數(shù)據(jù)處理后，得到測(cè)量樣品的峰面積，根據(jù)樣品濃度和峰面積比例關(guān)系則可計(jì)算出樣品離子濃度。本發(fā)明數(shù)據(jù)處理后峰型規(guī)則使峰面積計(jì)算更快速準(zhǔn)確，濃度計(jì)算準(zhǔn)確。
文檔編號(hào)G01N27/48GK102435661SQ20111026197
公開日2012年5月2日 申請(qǐng)日期2011年9月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月6日
發(fā)明者吳升海, 夏洪海, 彭建波, 方軍, 方衛(wèi)龍, 程勝 申請(qǐng)人:江蘇天瑞儀器股份有限公司