自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置，即本標(biāo)定裝置包括標(biāo)定試塊、底座、擋水環(huán)和密封圈，所述底座居中設(shè)有凹槽，所述擋水環(huán)設(shè)于所述底座頂面，所述密封圈設(shè)于所述底座與擋水環(huán)之間，所述標(biāo)定試塊位于所述底座的凹槽內(nèi)并沿凹槽移動，所述底座頂面與所述標(biāo)定試塊頂面位于同一平面。本裝置方便實(shí)現(xiàn)自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定作業(yè)，標(biāo)定試塊移動方便，避免耦合水流失，提高了標(biāo)定作業(yè)的效率及標(biāo)定的準(zhǔn)確性。
【專利說明】自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]自動表面波探傷儀需要定期采用標(biāo)定試塊對表面波探頭的靈敏度進(jìn)行標(biāo)定，如圖1所示，通常在標(biāo)定作業(yè)時(shí)，先在標(biāo)定試塊3上的人工裂紋處灑上一些水作為耦合介質(zhì)，探頭支架I位于標(biāo)定試塊3上，然后將探頭支架I內(nèi)的自動表面波探頭2下降到標(biāo)定試塊3上進(jìn)行標(biāo)定。為了將標(biāo)定試塊3上的人工裂紋移動到表面波探頭2的檢測區(qū)域，需要在標(biāo)定的過程中前后移動和調(diào)整標(biāo)定試塊3的位置，雖然標(biāo)定時(shí)探頭2與標(biāo)定試塊3之間有0.1mm的間隙，但是由于整個(gè)探頭支架I的重量都壓在標(biāo)定試塊3上，所以試塊3的移動非常困難；而且由于標(biāo)定試塊3是全開放式的平板，在標(biāo)定作業(yè)時(shí)，標(biāo)定試塊3上的耦合水很容易從平板上流失，這就需要不斷地補(bǔ)充耦合水，不僅降低了標(biāo)定作業(yè)的工作效率，而且影響標(biāo)定的準(zhǔn)確性。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置，利用本裝置方便實(shí)現(xiàn)自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定作業(yè)，標(biāo)定試塊移動方便，避免耦合水流失，提高了標(biāo)定作業(yè)的效率及標(biāo)定的準(zhǔn)確性。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置包括標(biāo)定試塊、底座、擋水環(huán)和密封圈，所述底座居中設(shè)有凹槽，所述擋水環(huán)設(shè)于所述底座頂面，所述密封圈設(shè)于所述底座與擋水環(huán)之間，所述標(biāo)定試塊位于所述底座的凹槽內(nèi)并沿凹槽移動，所述底座頂面與所述標(biāo)定試塊頂面位于同一平面。
[0005]進(jìn)一步，本標(biāo)定裝置還包括兩個(gè)拉手，所述兩個(gè)拉手分別設(shè)于所述標(biāo)定試塊的兩端。
[0006]由于本實(shí)用新型自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置采用了上述技術(shù)方案，即本標(biāo)定裝置包括標(biāo)定試塊、底座、擋水環(huán)和密封圈，所述底座居中設(shè)有凹槽，所述擋水環(huán)設(shè)于所述底座頂面，所述密封圈設(shè)于所述底座與擋水環(huán)之間，所述標(biāo)定試塊位于所述底座的凹槽內(nèi)并沿凹槽移動，所述底座頂面與所述標(biāo)定試塊頂面位于同一平面。本裝置方便實(shí)現(xiàn)自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定作業(yè)，標(biāo)定試塊移動方便，避免耦合水流失，提高了標(biāo)定作業(yè)的效率及標(biāo)定的準(zhǔn)確性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明:
[0008]圖1為傳統(tǒng)自動表面波探傷儀探頭標(biāo)定的不意圖；
[0009]圖2為本實(shí)用新型自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置示意圖；
[0010]圖3為采用本標(biāo)定裝置進(jìn)行標(biāo)定作業(yè)的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0011]如圖2所示，本實(shí)用新型自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置包括標(biāo)定試塊3、底座
4、擋水環(huán)5和密封圈6，所述底座4居中設(shè)有凹槽41，所述擋水環(huán)5設(shè)于所述底座4頂面，所述密封圈6設(shè)于所述底座4與擋水環(huán)5之間，所述標(biāo)定試塊3位于所述底座4的凹槽41內(nèi)并沿凹槽41移動，所述底座4頂面與所述標(biāo)定試塊3頂面位于同一平面。
[0012]進(jìn)一步，本標(biāo)定裝置還包括兩個(gè)拉手31，所述兩個(gè)拉手31分別設(shè)于所述標(biāo)定試塊3的兩端。
[0013]本標(biāo)定裝置采用了分體式標(biāo)定試塊的設(shè)計(jì)，并且在標(biāo)定試塊的周圍加裝了擋水環(huán)，可以有效地解決原標(biāo)定方式中標(biāo)定試塊移動困難且耦合水容易流失的問題，提高了標(biāo)定作業(yè)的效率和準(zhǔn)確性。底座上的凹槽用于安裝標(biāo)定試塊，標(biāo)定試塊兩端安裝有拉手，用于在標(biāo)定時(shí)拉動標(biāo)定試塊，將標(biāo)定試塊上的人工裂紋移動到表面波探頭的檢測區(qū)域。擋水環(huán)可采用多個(gè)螺栓固定在底座上，為了防止標(biāo)定作業(yè)時(shí)耦合水從擋水環(huán)和底座之間的縫隙中流失，在擋水環(huán)與底座之間安裝密封圈，起到密封耦合水的作用。
[0014]如圖3所示，在自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定作業(yè)時(shí)，將標(biāo)定試塊3放入底座4的凹槽41中，在底座4頂面放上密封圈6，用多個(gè)螺栓將擋水環(huán)5固定在底座4上，密封圈6位于底座4與擋水環(huán)5之間。至此，本標(biāo)定裝置組裝完畢。將探頭支架I放置于底座4上，并向擋水環(huán)5內(nèi)注入一定量的耦合水，自動表面波探頭2下降到標(biāo)定試塊3上，通過移動底座4凹槽41內(nèi)的標(biāo)定試塊3，使標(biāo)定試塊3上的人工裂紋移動到探頭2的檢測區(qū)域，從而實(shí)現(xiàn)標(biāo)定作業(yè)。
[0015]本標(biāo)定裝置結(jié)構(gòu)簡單，使用方便。由于本裝置采用了擋水環(huán)的設(shè)計(jì)，可以有效地防止標(biāo)定過程中耦合水的流失，所以在整個(gè)標(biāo)定過程中不必補(bǔ)充耦合水。另外在使用本裝置標(biāo)定時(shí)，雖然整個(gè)探頭支架的重量仍然落在該裝置上，但是由于采用分體式設(shè)計(jì)，標(biāo)定試塊可以單獨(dú)移動，標(biāo)定試塊與探頭之間存在著0.1mm的間隙，所以移動標(biāo)定試塊變得非常輕松，能有效提高標(biāo)定作業(yè)的效率和準(zhǔn)確性。
【權(quán)利要求】
1.一種自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置，包括標(biāo)定試塊，其特征在于:還包括底座、擋水環(huán)和密封圈，所述底座居中設(shè)有凹槽，所述擋水環(huán)設(shè)于所述底座頂面，所述密封圈設(shè)于所述底座與擋水環(huán)之間，所述標(biāo)定試塊位于所述底座的凹槽內(nèi)并沿凹槽移動，所述底座頂面與所述標(biāo)定試塊頂面位于同一平面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動表面波探傷儀探頭的標(biāo)定裝置，其特征在于:本標(biāo)定裝置還包括兩個(gè)拉手，所述兩個(gè)拉手分別設(shè)于所述標(biāo)定試塊的兩端。
【文檔編號】G01N29/30GK204028045SQ201420419671
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年7月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月29日
【發(fā)明者】陶軍 申請人:上海寶鋼工業(yè)技術(shù)服務(wù)有限公司