本發(fā)明屬于無損檢測技術(shù)領(lǐng)域,更為具體地講,涉及一種基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法。
背景技術(shù):
現(xiàn)在工業(yè)中,鐵磁金屬構(gòu)件,在鐵路交通,航空航天,冶金工業(yè)等部門鍋爐、管道、橋梁、鐵軌、壓力容器等的大量使用,隨著服役時(shí)間延長,鐵磁金屬構(gòu)件不可避免存在應(yīng)力集中現(xiàn)象,使得構(gòu)件斷裂等而引發(fā)事故。應(yīng)力檢測是保障工程中鐵磁金屬構(gòu)件安全服役的重要手段。傳統(tǒng)磁應(yīng)力檢測包括磁滯回線法、巴克豪森法(MBN)、渦流檢測法、磁記憶法等技術(shù)。這些傳統(tǒng)技術(shù)從材料宏觀磁特性出發(fā),建立宏觀磁特性參數(shù)如矯頑力、剩磁、磁疇損耗與應(yīng)力的對應(yīng)關(guān)系,對應(yīng)力評估具有靈敏度低、空間分辨率不高等缺點(diǎn),無法精確評估鐵磁性材料微觀區(qū)域的應(yīng)力狀態(tài)。
近年來,隨著磁疇觀測技術(shù)進(jìn)步,磁微觀結(jié)構(gòu)動(dòng)態(tài)行為在無損檢測領(lǐng)域逐步得到廣泛的應(yīng)用。磁疇動(dòng)態(tài)行為評估可實(shí)現(xiàn)鐵磁金屬構(gòu)件內(nèi)部應(yīng)力高分辨率、高精度快速檢測。然而,目前磁疇表征還局限于定性描述,磁疇運(yùn)動(dòng)特性的量化及其對應(yīng)力的評估研究國內(nèi)外處于空白狀態(tài)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法,實(shí)現(xiàn)對鐵磁金屬構(gòu)件應(yīng)力和微小應(yīng)力變化的高線性度、高靈敏度、高空間分辨率檢測。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法的具體步驟為:
S1:根據(jù)實(shí)際需要確定鐵磁金屬構(gòu)件所需模擬的應(yīng)力參數(shù)集φ={σ1,σ2…,σK}以及磁場強(qiáng)度變化范圍[-Hmax,Hmax],其中K表示應(yīng)力參數(shù)數(shù)量,Hmax表示磁場強(qiáng)度最大值;
S2:設(shè)置應(yīng)力參數(shù)序號k=1;
S3:將磁場強(qiáng)度H從-Hmax逐步增加至Hmax,再逐步減小至-Hmax,獲取應(yīng)力參數(shù)σk下每個(gè)磁場強(qiáng)度H對應(yīng)的歸一化磁疇量化值SNom,每個(gè)磁場強(qiáng)度H對應(yīng)的歸一化磁疇量化值SNom的獲取方法包括以下步驟:
S3.1:獲取鐵磁金屬構(gòu)件在應(yīng)力參數(shù)σk和磁場強(qiáng)度H下的磁疇圖像;
S3.2:對磁疇圖像進(jìn)行去噪處理;
S3.3:對磁疇圖像進(jìn)行二值化,以0代表-180度磁疇,1代表180度磁疇;
S3.4:對二值化磁疇圖像,統(tǒng)計(jì)二值化磁疇圖像中0和1的像素點(diǎn)數(shù)量,分別記為n-180°和n180°,計(jì)算180度磁疇面積和-180度磁疇面積s表示磁疇圖像中單個(gè)像素點(diǎn)的面積;然后根據(jù)以下公式計(jì)算磁疇量化值ΔS:
S3.5:采用以下公式對磁疇量化值進(jìn)行歸一化,得到歸一化磁疇量化值SNom:
S4:根據(jù)步驟S3中每個(gè)磁場強(qiáng)度H對應(yīng)的歸一化磁疇量化值SNom,擬合得到當(dāng)前應(yīng)力參數(shù)σk下歸一化磁疇量化值隨磁場強(qiáng)度值變化的SNom-H曲線;根據(jù)SNom-H曲線得到4個(gè)令SNom為1或-1的臨界閾值磁場Hth1(k)、Hth2(k)、Hth3(k)、Hth4(k);
S5:如果k<K,令k=k+1,返回步驟S3,否則進(jìn)入步驟S6;
S6:根據(jù)K個(gè)應(yīng)力參數(shù)σk對應(yīng)的4個(gè)閾值磁場進(jìn)行線性擬合得到閾值磁場表達(dá)式:
Hth1=a1σ+b1
Hth2=a2σ+b2
Hth3=a3σ+b3
Hth4=a4σ+b4
其中,am、bm分別是閾值磁場表達(dá)式中的線性參數(shù),m=1,2,3,4;
S7:在對鐵磁金屬構(gòu)件進(jìn)行應(yīng)力評估時(shí),首先采用與步驟S3中的相同方式得到SNom-H曲線,獲取4個(gè)閾值磁場,然后代入步驟S6的閾值磁場表達(dá)式中,計(jì)算得到4個(gè)應(yīng)力值σ(1)、σ(2)、σ(3)和σ(4),將4個(gè)應(yīng)力值σ(1)、σ(2)、σ(3)和σ(4)進(jìn)行平均得到最終應(yīng)力值σ。
本發(fā)明基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法,對于各個(gè)應(yīng)力參數(shù),獲取不同磁場強(qiáng)度下的歸一化磁疇量化值,獲取方法為:先得到鐵磁金屬構(gòu)件在應(yīng)力參數(shù)和磁場強(qiáng)度下的磁疇圖像,對磁疇圖像進(jìn)行預(yù)處理后再二值化,對二值化磁疇圖像統(tǒng)計(jì)代表180度和-180度磁疇的像素點(diǎn)數(shù)量,計(jì)算180度磁疇面積和-180度磁疇面積,然后計(jì)算得到磁疇量化值,再進(jìn)行歸一化;擬合得到歸一化磁疇量化值隨磁場強(qiáng)度值變化的SNom-H曲線,得到4個(gè)閾值磁場,擬合得到4個(gè)閾值磁場關(guān)于應(yīng)力參數(shù)的表達(dá)式,在對鐵磁金屬構(gòu)件進(jìn)行應(yīng)力評估時(shí),首先獲取SNom-H曲線,獲取4個(gè)閾值磁場,然后根據(jù)閾值磁場表達(dá)式計(jì)算得到4個(gè)應(yīng)力值,平均后得到最終應(yīng)力值。本發(fā)明經(jīng)過研究磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場與應(yīng)力之間的對應(yīng)關(guān)系,提出磁疇量化公式,通過閾值磁場來實(shí)現(xiàn)對鐵磁金屬構(gòu)件應(yīng)力和微小應(yīng)力變化的高線性度、高靈敏度、高空間分辨率檢測。
附圖說明
圖1是磁光克爾顯微鏡原理圖;
圖2是磁光薄膜結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是不同情況下磁光薄膜磁疇圖像模型圖;
圖4是磁化裝置框架示意圖;
圖5是0MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像;
圖6是30.9MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像;
圖7是61.9MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像;
圖8是本發(fā)明基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法的具體實(shí)施方式流程圖;
圖9是歸一化磁疇量化值的獲取流程圖;
圖10是本實(shí)施例中采用小波濾波方法進(jìn)行磁疇圖像預(yù)處理示例圖;
圖11是本實(shí)施例中采磁疇圖像二值化示例圖;
圖12是SNom-H曲線示例圖;
圖13是不同應(yīng)力下SNom-H曲線及閾值磁場與應(yīng)力關(guān)系示例圖;
圖14是不同特征參數(shù)與應(yīng)力之間的關(guān)系對比曲線圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實(shí)施方式進(jìn)行描述,以便本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明。需要特別提醒注意的是,在以下的描述中,當(dāng)已知功能和設(shè)計(jì)的詳細(xì)描述也許會淡化本發(fā)明的主要內(nèi)容時(shí),這些描述在這里將被忽略。
為了更好地說明本發(fā)明的技術(shù)方案,首先對磁疇觀測方法的原理進(jìn)行簡要說明。本實(shí)施例中采用基于磁光克爾顯微鏡(MOKE)和磁光薄膜(MOIF)來進(jìn)行磁疇觀測。圖1是磁光克爾顯微鏡原理圖。圖2是磁光薄膜結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1和圖2所示,一束自然光經(jīng)過起偏器變成線偏振光,線偏振光通過MOIF,并與MOIF中磁光Bi-YIG層相互作用,使得線偏振光偏振面與法拉第轉(zhuǎn)角發(fā)生變化。光穿過整個(gè)MOIF中磁光Bi-YIG層,遇到MOIF中Al層后發(fā)生反射。反射光再次和磁光Bi-YIG層發(fā)生第二次法拉第效應(yīng)后,經(jīng)過補(bǔ)償器和檢偏器后,法拉第轉(zhuǎn)角被檢測出來并成像,最后通過高速攝像機(jī)記錄并保存下來。由于MOIF磁疇對垂向磁場非常靈敏,漏磁場垂直分量使得MOIF中磁化狀態(tài)發(fā)生變化。
圖3是不同情況下磁光薄膜磁疇圖像模型圖。其中,圖3(a)是無磁場情況下磁光薄膜磁疇圖像;圖3(b)是無磁場情況下磁光薄膜磁疇模型圖;圖3(c)是垂直向上磁場下磁光薄膜磁疇變化模型圖;圖3(d)是垂直向下磁光薄膜磁疇變化模型圖。如圖3(a)所示,在無外加磁場情況,MOIF磁疇圖像中明暗磁疇面積相等,其模型圖可用圖3(b)來表示。當(dāng)施加一定垂直向上磁場后,亮磁疇面積擴(kuò)張,暗的磁疇面積縮小,其模型圖如圖3(c)所示。相反,當(dāng)施加一定垂直向下磁場后,暗磁疇面積擴(kuò)張,亮的磁疇面積縮小,其模型圖如圖3(d)所示。當(dāng)MOIF放在鐵磁性材料表面時(shí),鐵磁性材料表面的磁疇會產(chǎn)生漏磁場。該漏磁場垂直分量使得MOIF磁化狀態(tài)發(fā)生變化,同時(shí)使得拉法第轉(zhuǎn)角發(fā)生變化。由于使用的是概覽顯微鏡,法拉第信號經(jīng)過檢偏器的時(shí)被平均。最終,明暗相間的圖像為樣品不同方向磁疇。磁疇在外加磁場下,磁疇壁發(fā)生移動(dòng),其運(yùn)動(dòng)快慢與釘扎強(qiáng)度、內(nèi)應(yīng)力大小、各向異性、位錯(cuò)密度等內(nèi)部因素密切相關(guān),同時(shí)受到外加應(yīng)力、溫度、偏執(zhí)磁場影響。圖4是磁化裝置框架示意圖。
以高取向電工鋼為例,分別獲取其在不同外加拉應(yīng)力及不同磁場強(qiáng)度下的磁疇圖像。圖5是0MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像。圖6是30.9MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像。圖7是61.9MPa應(yīng)力不同磁場強(qiáng)度下高取向電工鋼的磁疇圖像。如圖5至圖7所示,灰度較暗的為180度磁疇,灰度較亮的為-180度磁疇。如圖5(a)和6(a)所示,當(dāng)磁場強(qiáng)度為177A/m時(shí),在0MPa和30.9MPa作用下,電工鋼所有磁疇取向都朝向180度方向;然而,在61.9MPa下,有很多-180度磁疇出現(xiàn),如圖7(a)所示。當(dāng)磁場強(qiáng)度降到25A/m,磁疇取向發(fā)生了變化,應(yīng)力為61.9MPa時(shí),-180度磁疇發(fā)生了擴(kuò)張,180度磁疇寬度縮小,如圖7(b)所示;在30.9MPa應(yīng)力下,大量-180度磁疇出現(xiàn),如圖6(b)所示;然而,在應(yīng)力為零的情況下,所有的磁疇仍然都朝向180度方向,如圖5(b)所示。當(dāng)磁場降到0A/m情況時(shí),在應(yīng)力為0時(shí),大量-180度磁疇出現(xiàn),如圖5(c)所示;在30.9MPa和61.9MPa情況下,-180度磁疇都發(fā)生了擴(kuò)張,180度磁疇寬度縮??;這種現(xiàn)象表明,金屬構(gòu)件內(nèi)應(yīng)力增加,磁化過程中使磁疇全部發(fā)生翻轉(zhuǎn)所需要的磁場強(qiáng)度增加。
可見,在磁疇動(dòng)態(tài)行為和應(yīng)用之間存在對應(yīng)關(guān)系,本發(fā)明就是通過提取出這種對應(yīng)關(guān)系中的特征值,建立特征值與應(yīng)力之間的關(guān)系模型,從而定量評估應(yīng)力。圖8是本發(fā)明基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法的具體實(shí)施方式流程圖。如圖8所示,本發(fā)明基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法包括以下步驟:
S801:初始化應(yīng)用參數(shù)值和磁場強(qiáng)度變化范圍:
根據(jù)實(shí)際需要確定鐵磁金屬構(gòu)件所需模擬的應(yīng)力參數(shù)集φ={σ1,σ2…,σK}以及磁場強(qiáng)度變化范圍[-Hmax,Hmax],其中K表示應(yīng)力參數(shù)數(shù)量,Hmax表示磁場強(qiáng)度最大值。
S802:設(shè)置應(yīng)力參數(shù)序號k=1。
S803:獲取不同磁場強(qiáng)度下歸一化磁疇量化值:
將磁場強(qiáng)度H從-Hmax逐步增加至Hmax,再逐步減小至-Hmax,獲取應(yīng)力參數(shù)σk下每個(gè)磁場強(qiáng)度H對應(yīng)的歸一化磁疇量化值SNom。圖9是歸一化磁疇量化值的獲取流程圖。如圖9所示,每個(gè)磁場強(qiáng)度H對應(yīng)的歸一化磁疇量化值SNom的獲取方法包括以下步驟:
S901:獲取磁疇圖像:
獲取應(yīng)力參數(shù)σk和磁場強(qiáng)度H下的磁疇圖像。
S902:磁疇圖像去噪處理:
對步驟S901中獲取的磁疇圖像進(jìn)行去噪處理。圖像去噪算法是圖像處理領(lǐng)域的常用技術(shù)手段,可以根據(jù)需要選擇具體的圖像去噪算法,本實(shí)施例中采用小波濾波方法來進(jìn)行去噪。圖10是本實(shí)施例中采用小波濾波方法進(jìn)行磁疇圖像預(yù)處理示例圖。
S903:磁疇圖像二值化:
根據(jù)之前對磁疇圖像的說明可知,在磁疇圖像中,灰度較暗的為180度磁疇,灰度較亮的為-180度磁疇,而180度磁疇和-180度磁疇的寬度會隨著應(yīng)力和磁場的變化而變化,因此本發(fā)明采用180度磁疇和-180度磁疇的面積來對磁疇進(jìn)行量化。為了便于量化,先對磁疇圖像進(jìn)行二值化,以0代表-180度磁疇,1代表180度磁疇。圖像二值化也是圖像處理領(lǐng)域的常用技術(shù)手段,可以根據(jù)需要選擇具體算法。由于光照不均勻性,磁疇圖像亮度不均勻,經(jīng)過比較,本實(shí)施例中優(yōu)選基于局部自適應(yīng)閾值的圖像二值化算法來對磁疇圖像進(jìn)行二值化。圖11是本實(shí)施例中采磁疇圖像二值化示例圖。
S904:計(jì)算磁疇量化值:
目前業(yè)內(nèi)對對磁疇描述還停留在磁疇定性描述層面。對磁疇量化還少有研究。基于鐵磁材料180度到-180度磁疇壁移動(dòng),本發(fā)明采用以下公式量化其移動(dòng)特征:
其中,ΔS表示磁疇量化值,和分別代表所有180度和-180度磁疇面積。在退磁狀態(tài)下,180度和-180度磁疇面積相等,ΔS等于零。當(dāng)施加外加磁場后,磁疇壁發(fā)生移動(dòng),相應(yīng)磁疇面積發(fā)生變化,ΔS的值隨之發(fā)生變化。
可見,在計(jì)算磁疇量化值ΔS時(shí),需要首先得到所有180度和-180度磁疇面積和其計(jì)算方法為:對步驟S806得到的二值化磁疇圖像,統(tǒng)計(jì)二值化磁疇圖像中0和1的像素點(diǎn)數(shù)量,分別記為n-180°和n180°,那么180度磁疇面積-180度磁疇面積s表示磁疇圖像中單個(gè)像素點(diǎn)的面積。顯然s是由磁疇圖像的分辨率決定的。
S905:磁疇量化值歸一化:
為了便于后續(xù)處理,采用以下公式對磁疇量化值進(jìn)行歸一化,得到歸一化磁疇量化值SNom:
歸一化后,SNom的值在-1到+1之間。當(dāng)SNom值為-1時(shí),表示所有磁疇均朝向-180度方向;當(dāng)SNom值為+1時(shí),表示所有磁疇均朝向180度方向。
S804:擬合SNom-H曲線:
根據(jù)步驟S803可知,由于鐵磁材料磁化是一個(gè)磁滯過程,因此本發(fā)明的磁場強(qiáng)度先從-Hmax變化到Hmax,然后再變化回-Hmax,記單向變化過程中存在N個(gè)磁場強(qiáng)度,共計(jì)2N個(gè)磁場強(qiáng)度值,每個(gè)磁場強(qiáng)度可以獲取一個(gè)歸一化磁疇量化值,從而獲取2N個(gè)歸一化磁疇量化值。那么根據(jù)這2N對磁場強(qiáng)度值和歸一化磁疇量化值,就可以擬合得到當(dāng)前應(yīng)力參數(shù)σk下歸一化磁疇量化值隨磁場強(qiáng)度值變化的SNom-H曲線。
圖12是SNom-H曲線示例圖。如圖12所示,在SNom-H曲線中,存在4個(gè)令SNom為1或-1的臨界閾值磁場Hth1、Hth2、Hth3、Hth4,其中Hth1和Hth4位于第1象限,Hth2和Hth3位于第3象限。在下降沿(磁場強(qiáng)度變小過程中),當(dāng)Hth2<H<Hth1時(shí),磁疇壁發(fā)生移動(dòng),H>Hth1(H<Hth2)時(shí),所有磁疇壁都朝向180度(-180度方向)。在上升沿(磁場強(qiáng)度變大過程中),當(dāng)Hth3<H<Hth4時(shí),磁疇壁發(fā)生移動(dòng),H>Hth4(H<Hth3)時(shí),所有磁疇壁都朝向180度(-180度方向)??芍?,這4個(gè)臨界閾值磁場Hth1、Hth2、Hth3、Hth4就是當(dāng)前應(yīng)力參數(shù)下對應(yīng)的閾值磁場。因此根據(jù)SNom-H曲線得到當(dāng)前應(yīng)力參數(shù)σk下4個(gè)令歸一化磁疇量化值SNom為1或-1的臨界閾值磁場Hth1(k)、Hth2(k)、Hth3(k)、Hth4(k)。
S805:判斷是否k<K,如果是,進(jìn)入步驟S806,否則進(jìn)入步驟S807。
S806:令k=k+1,返回步驟S803。
S807:特征提取:
根據(jù)步驟S802至步驟S806可知,對于每個(gè)應(yīng)力參數(shù)σk,都可以得到SNom-H曲線,也就是每個(gè)應(yīng)力參數(shù)都存在4個(gè)閾值磁場。圖13是不同應(yīng)力下SNom-H曲線及閾值磁場與應(yīng)力關(guān)系示例圖。經(jīng)研究發(fā)現(xiàn),4個(gè)閾值磁場與應(yīng)力值都具有高度的線性相關(guān)性,圖13(b)展示了SNom-H曲線下降沿第一象限閾值磁場(Hth1)與應(yīng)力之間的線性關(guān)系。因此可以根據(jù)K個(gè)應(yīng)力參數(shù)σk對應(yīng)的閾值磁場進(jìn)行線性擬合得到閾值磁場表達(dá)式:
Hth1=a1σ+b1
Hth2=a2σ+b2
Hth3=a3σ+b3
Hth4=a4σ+b4
其中,am、bm分別是閾值磁場表達(dá)式中的線性參數(shù),m=1,2,3,4。
S808:應(yīng)力評估:
在對鐵磁金屬構(gòu)件進(jìn)行應(yīng)力評估時(shí),首先采用與步驟S803相同的方式得到SNom-H曲線,獲取4個(gè)閾值磁場,代入步驟S807擬合得到的閾值磁場表達(dá)式中,可以計(jì)算得到4個(gè)應(yīng)力值σ(1)、σ(2)、σ(3)和σ(4),將4個(gè)應(yīng)力值σ(1)、σ(2)、σ(3)和σ(4)進(jìn)行平均,即可得到最終應(yīng)力值σ:
實(shí)施例
為了更好地說明本發(fā)明的技術(shù)效果,采用本發(fā)明中基于磁疇運(yùn)動(dòng)閾值磁場的應(yīng)力評估方法與基于傳統(tǒng)宏觀磁特性特征參數(shù)的應(yīng)力評估方法的評估效果進(jìn)行實(shí)驗(yàn)對比。傳統(tǒng)宏觀磁特性特征參數(shù)包括剩磁、磁滯損耗、矯頑力。本實(shí)施例中樣品為寶鋼高取向硅鋼,尺寸:300mm×30mm×0.27mm(長×寬×高),實(shí)驗(yàn)參數(shù)為:激勵(lì)波形:三角波;激勵(lì)頻率:0.01Hz;磁場幅值:1000A/m。采用本發(fā)明所得到的閾值磁場表達(dá)式分別為:
Hth1=3.93*σ+19.18
Hth2=-3.93*σ-78.25
Hth3=-3.93*σ-21.50
Hth4=3.93*σ+77.40
由于特征參數(shù)的單位各不相同,需要先進(jìn)行歸一化處理,歸一化過程可表述為:不同應(yīng)力下的值除以最大值。圖14是不同特征參數(shù)與應(yīng)力之間的關(guān)系對比曲線圖。如圖14所示,傳統(tǒng)宏觀磁特性特征參數(shù)與應(yīng)力之間均不是線性關(guān)系,而本發(fā)明所采用的閾值磁場(以閾值磁場Hth1為例)與應(yīng)力之間存在線性關(guān)系。以下將從三個(gè)方面分析提出的閾值磁場對應(yīng)力檢測優(yōu)勢:不同應(yīng)力范圍,各磁特征參數(shù)隨應(yīng)力變化速率、應(yīng)力檢測效果、微小應(yīng)力變化的評估效果進(jìn)行討論。
表1為不同應(yīng)力階段應(yīng)力隨著磁特性參數(shù)變化的速率(單位:百分比/MPa)。
表1
從表1可以得知,閾值磁場隨應(yīng)力變化在不同應(yīng)力階段變化比較均勻,都在1.44%每兆帕,靈敏度較高;矯頑力在0-61.9MPa范圍都變化比較緩慢,靈敏度很差;剩磁在0-12.3MPa范圍內(nèi)變化速率很快,靈敏度非常高,達(dá)到5%每兆帕,在12.3MPa-24.7MPa范圍內(nèi)變化變化速率降低快,靈敏度一般,在24.7MPa-61.9MPa階段,變化速率變得非常緩慢,靈敏差;磁滯損耗在整個(gè)應(yīng)力階段變化速率都較慢,靈敏較低。
為對比不同特征參數(shù)對應(yīng)力和微小應(yīng)力變化的檢測效果,定義當(dāng)變化率大于1%每兆帕為檢出效果很好;當(dāng)變化速率大于0.5%而小于1%每兆帕的時(shí)候?yàn)闄z出效果一般;當(dāng)變化速率小于0.5%為檢出效果較差。表2為特征參數(shù)應(yīng)力和微小應(yīng)力變化的檢出效果對比結(jié)果。從表2得知,在應(yīng)力較小的時(shí)候,剩磁和閾值磁場對應(yīng)力和微小應(yīng)力變化的檢測都具有很高的靈敏度,剩磁和磁滯損耗檢測效果較差;當(dāng)應(yīng)力變大后,閾值磁場檢測效果還是很好,但是矯頑力、剩磁、磁滯損耗檢測效果都較差。
表2
綜上分析,相比于矯頑力、剩磁、磁滯損耗傳統(tǒng)磁特性參數(shù),本發(fā)明提出閾值磁場對應(yīng)力和微小應(yīng)力檢測具有很好的檢測效果。
盡管上面對本發(fā)明說明性的具體實(shí)施方式進(jìn)行了描述,以便于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員理解本發(fā)明,但應(yīng)該清楚,本發(fā)明不限于具體實(shí)施方式的范圍,對本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來講,只要各種變化在所附的權(quán)利要求限定和確定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),這些變化是顯而易見的,一切利用本發(fā)明構(gòu)思的發(fā)明創(chuàng)造均在保護(hù)之列。