帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及介電性能測(cè)試領(lǐng)域，更具體地說，本發(fā)明涉及一種帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]介電性能是高頻印制基材重要的性能參數(shù)之一，準(zhǔn)確測(cè)試高頻印制基材的介電性能對(duì)高頻電路設(shè)計(jì)、高頻電子產(chǎn)品的生產(chǎn)、定型和調(diào)試都是至關(guān)重要的；對(duì)于某些應(yīng)用，印制板的介電常數(shù)的測(cè)試精度要求在2%以內(nèi)。
[0003]介電性能的測(cè)試精度與頻率、均勻性、各向異性、溫度、表面粗糙度等因素相關(guān)，對(duì)于各向異性材料，測(cè)試場(chǎng)方向是至關(guān)重要的。高頻印制基材是由有機(jī)樹脂和增強(qiáng)材料等多組分組成的各向異性材料。隨著電子裝備不斷向高頻、低損耗的方向發(fā)展，高頻印制基材測(cè)試頻率從最初的IMHz提高到現(xiàn)在的10GHz，甚至到20GHz。
[0004]雖然介電性能測(cè)試方法的研宄從上世紀(jì)中期就有文獻(xiàn)報(bào)道，但隨著測(cè)試頻率的不斷提高，材料的不斷發(fā)展，許多測(cè)試方法并不適合高頻印制基材。因此，選擇合適的測(cè)試方案對(duì)其進(jìn)行研宄對(duì)高頻印制基材的發(fā)展具有重要的現(xiàn)實(shí)意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在上述缺陷，提供一種能夠測(cè)試安裝方便并且能夠滿足高頻印制基材損耗精度測(cè)試高的要求的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，根據(jù)本發(fā)明，提供了一種帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，包括:疊層測(cè)試樣品、用于夾持疊層測(cè)試樣品的測(cè)試夾具、用于對(duì)測(cè)試夾具進(jìn)行加壓以去除疊層測(cè)試樣品中的殘留空氣的加壓裝置、用于與測(cè)試夾具的第一端耦合的第一耦合裝置、用于與測(cè)試夾具的第二端耦合的第二耦合裝置、與第一耦合裝置固定的第一位移臺(tái)、與第二耦合裝置固定的第二位移臺(tái)、用于輔助測(cè)試夾具與第一耦合裝置和第二耦合裝置之間的耦合的視覺放大系統(tǒng)、與第一耦合裝置和第二耦合裝置連接的矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀、以及與矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀連接的控制處理裝置。
[0007]優(yōu)選地，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀連接至帶狀線諧振器，并且矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀激發(fā)帶狀線諧振器產(chǎn)生諧振，通過第一耦合裝置和第二耦合裝置將諧振信號(hào)傳遞至疊層測(cè)試樣品。
[0008]優(yōu)選地，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀接收從疊層測(cè)試樣品獲取的測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)，并將測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)傳遞至控制處理裝置。
[0009]優(yōu)選地，控制處理裝置用于對(duì)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)進(jìn)行處理以確定疊層測(cè)試樣品的介電性能。
[0010]優(yōu)選地，疊層測(cè)試樣品包括第一測(cè)試基片和第二測(cè)試基片，其中第一測(cè)試基片表面的銅箔被完全蝕刻掉，第二測(cè)試基片表面中央保留預(yù)定尺寸的傳輸線作為帶狀線，而且第一測(cè)試基片與第二測(cè)試基片以傳輸線處于重疊面的方式對(duì)齊層疊在一起以形成疊層測(cè)試樣品。
[0011]優(yōu)選地，控制處理裝置是計(jì)算機(jī)。
[0012]優(yōu)選地，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀通過GPIB總線連接至控制處理裝置。
[0013]本發(fā)明提供了一種能夠測(cè)試安裝方便并且能夠滿足高頻印制基材損耗精度測(cè)試高的要求的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)。
【附圖說明】
[0014]結(jié)合附圖，并通過參考下面的詳細(xì)描述，將會(huì)更容易地對(duì)本發(fā)明有更完整的理解并且更容易地理解其伴隨的優(yōu)點(diǎn)和特征，其中:
[0015]圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)的框圖。
[0016]圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)采用的疊層測(cè)試樣品。
[0017]圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)采用的疊層測(cè)試樣品的第一基片。
[0018]圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)采用的疊層測(cè)試樣品的第二基片。
[0019]需要說明的是，附圖用于說明本發(fā)明，而非限制本發(fā)明。注意，表示結(jié)構(gòu)的附圖可能并非按比例繪制。并且，附圖中，相同或者類似的元件標(biāo)有相同或者類似的標(biāo)號(hào)。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更加清楚和易懂，下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0021]圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)的框圖。
[0022]具體地說，如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)包括:疊層測(cè)試樣品100、用于夾持疊層測(cè)試樣品100的測(cè)試夾具200、用于對(duì)測(cè)試夾具200進(jìn)行加壓以去除疊層測(cè)試樣品100中的殘留空氣的加壓裝置300、用于與測(cè)試夾具200的第一端耦合的第一耦合裝置401、用于與測(cè)試夾具200的第二端耦合的第二耦合裝置402、與第一耦合裝置401固定的第一位移臺(tái)501、與第二耦合裝置402固定的第二位移臺(tái)502、用于輔助測(cè)試夾具200與第一耦合裝置401和第二耦合裝置402之間的耦合的視覺放大系統(tǒng)600、與第一耦合裝置401和第二耦合裝置402連接的矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700、以及與矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700連接的控制處理裝置800。
[0023]例如，控制處理裝置800是計(jì)算機(jī)。而且例如，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700通過GPIB總線連接至控制處理裝置800。
[0024]矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700還連接至帶狀線諧振器(未示出)，并且矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700激發(fā)帶狀線諧振器產(chǎn)生諧振，通過第一耦合裝置401和第二耦合裝置402將諧振信號(hào)傳遞至疊層測(cè)試樣品100。
[0025]而且，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀700接收從疊層測(cè)試樣品100獲取的測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)，并將測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)傳遞至控制處理裝置800。
[0026]控制處理裝置800用于對(duì)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)進(jìn)行處理以確定疊層測(cè)試樣品100的介電性能。
[0027]優(yōu)選地，對(duì)于疊層測(cè)試樣品100的具體結(jié)構(gòu)，圖2示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)采用的疊層測(cè)試樣品。具體地，疊層測(cè)試樣品100包括第一測(cè)試基片101 (參見圖3)和第二測(cè)試基片102 (參見圖4)，其中第一測(cè)試基片101表面的銅箔被完全蝕刻掉，第二測(cè)試基片102表面中央保留預(yù)定尺寸的傳輸線銅箔103作為帶狀線(第二測(cè)試基片102表面其余部分上的銅箔被蝕刻掉)，而且第一測(cè)試基片101與第二測(cè)試基片102以傳輸線103處于重疊面的方式對(duì)齊層疊在一起以形成疊層測(cè)試樣品100。
[0028]對(duì)于上述結(jié)構(gòu)，所述疊層測(cè)試樣品100的介電常數(shù)的測(cè)量誤差處于在2%的范圍內(nèi)；而且樣品的損耗角正切的測(cè)量相對(duì)準(zhǔn)確，測(cè)量值在誤差范圍內(nèi)；此外，疊層測(cè)試樣品100的制作方法相對(duì)簡(jiǎn)單、精度高，而且測(cè)試時(shí)夾持輕松。
[0029]實(shí)際上，測(cè)試夾具及加壓裝置的作用包括:1、固定上下兩個(gè)測(cè)試基片，并保證其完全重疊在一起；2、保證測(cè)試基片兩邊良好接地；3、合理設(shè)計(jì)夾具尺寸以避免高次模的干擾；4、保證給測(cè)試基片施加均勻且足夠大的壓力。
[0030]通過上述結(jié)構(gòu)，本發(fā)明提供了一種能夠測(cè)試安裝方便并且能夠滿足高頻印制基材損耗精度測(cè)試高的要求的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)。
[0031]此外，需要說明的是，除非特別說明或者指出，否則說明書中的術(shù)語(yǔ)“第一”、“第二”、“第三”等描述僅僅用于區(qū)分說明書中的各個(gè)組件、元素、步驟等，而不是用于表示各個(gè)組件、元素、步驟之間的邏輯關(guān)系或者順序關(guān)系等。
[0032]可以理解的是，雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例披露如上，然而上述實(shí)施例并非用以限定本發(fā)明。對(duì)于任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案作出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于包括:疊層測(cè)試樣品、用于夾持疊層測(cè)試樣品的測(cè)試夾具、用于對(duì)測(cè)試夾具進(jìn)行加壓以去除疊層測(cè)試樣品中的殘留空氣的加壓裝置、用于與測(cè)試夾具的第一端耦合的第一耦合裝置、用于與測(cè)試夾具的第二端耦合的第二耦合裝置、與第一耦合裝置固定的第一位移臺(tái)、與第二耦合裝置固定的第二位移臺(tái)、用于輔助測(cè)試夾具與第一耦合裝置和第二耦合裝置之間的耦合的視覺放大系統(tǒng)、與第一耦合裝置和第二耦合裝置連接的矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀、以及與矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀連接的控制處理裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀連接至帶狀線諧振器，并且矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀激發(fā)帶狀線諧振器產(chǎn)生諧振，通過第一耦合裝置和第二耦合裝置將諧振信號(hào)傳遞至疊層測(cè)試樣品。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀接收從疊層測(cè)試樣品獲取的測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)，并將測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)傳遞至控制處理裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，控制處理裝置用于對(duì)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)進(jìn)行處理以確定疊層測(cè)試樣品的介電性能。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，疊層測(cè)試樣品包括第一測(cè)試基片和第二測(cè)試基片，其中第一測(cè)試基片表面的銅箔被完全蝕刻掉，第二測(cè)試基片表面中央保留預(yù)定尺寸的傳輸線作為帶狀線，而且第一測(cè)試基片與第二測(cè)試基片以傳輸線處于重疊面的方式對(duì)齊層疊在一起以形成疊層測(cè)試樣品。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，控制處理裝置是計(jì)算機(jī)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，其特征在于，矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀通過GPIB總線連接至控制處理裝置。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種帶狀線法介電性能測(cè)試系統(tǒng)，包括：疊層測(cè)試樣品、用于夾持疊層測(cè)試樣品的測(cè)試夾具、用于對(duì)測(cè)試夾具進(jìn)行加壓以去除疊層測(cè)試樣品中的殘留空氣的加壓裝置、用于與測(cè)試夾具的第一端耦合的第一耦合裝置、用于與測(cè)試夾具的第二端耦合的第二耦合裝置、與第一耦合裝置固定的第一位移臺(tái)、與第二耦合裝置固定的第二位移臺(tái)、用于輔助測(cè)試夾具與第一耦合裝置和第二耦合裝置之間的耦合的視覺放大系統(tǒng)、與第一耦合裝置和第二耦合裝置連接的矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀、以及與矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀連接的控制處理裝置。
【IPC分類】G01R27-26
【公開號(hào)】CN104569616
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510047386
【發(fā)明人】賈燕, 張永華, 鄔寧彪, 陳文錄, 李小明, 石小傳, 劉立國(guó), 唐亞彬
【申請(qǐng)人】無錫江南計(jì)算技術(shù)研究所
【公開日】2015年4月29日
【申請(qǐng)日】2015年1月29日