用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁盤磁頭測量領(lǐng)域，尤其涉及一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著磁盤存儲技術(shù)的飛速發(fā)展，作為磁盤的核心部件之一的磁頭支架，其生產(chǎn)質(zhì)量的檢測也愈加重要。磁頭支架的物理尺寸的檢測，是提供產(chǎn)品品質(zhì)的可靠保證，也可以給生產(chǎn)提供更多的改善空間，促進(jìn)生產(chǎn)效率的不斷提升。目前，應(yīng)用于磁頭支架的測量方法，主要是采用接觸式測量設(shè)備，其精確程度相對較低，且生產(chǎn)效率不高。尤其是對于ESG (企業(yè)級服務(wù)器)這類產(chǎn)品，由于其本身的物理尺寸較小，精度要求相對較高，因此接觸式測量較難滿足該類產(chǎn)品的測量需求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型在于提供一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中接觸式測量設(shè)備的精確程度相對較低，且生產(chǎn)效率不高的問題。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提出一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備，其包括一基座、第一相機(jī)組件、第二相機(jī)組件、第一光源及第二光源，其中，基座用于承載磁頭支架；第一相機(jī)組件設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的上方，用于測量所述磁頭支架被測部分的長度；第二相機(jī)組件設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的一側(cè)，用于測量所述磁頭支架被測部分的高度；第一光源設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架的下方，以將所述磁頭支架投影至所述第一相機(jī)組件；第二光源設(shè)置在所述基座上，且位于所述磁頭支架相對于所述第二相機(jī)組件的另一側(cè)，以將所述磁頭支架投影至所述第二相機(jī)組件。
[0005]進(jìn)一步地，所述第一相機(jī)組件包括第一相機(jī)、第一鏡頭及第一固定機(jī)構(gòu)，所述第一鏡頭安裝在所述第一相機(jī)上，所述第一相機(jī)水平固定于所述第一固定機(jī)構(gòu)的頂端，所述第一固定機(jī)構(gòu)豎直設(shè)置在所述基座上，使得所述第一鏡頭與所述基座豎直相對。
[0006]進(jìn)一步地，所述第一固定機(jī)構(gòu)包括一固定板、一支架及一安裝板，所述第一相機(jī)固定于所述固定板，所述固定板垂直連接于所述支架的頂端，所述支架的底端垂直連接于所述安裝板，所述安裝板固定于所述基座。
[0007]進(jìn)一步地，所述第二相機(jī)組件包括第二相機(jī)、第二鏡頭及第二固定機(jī)構(gòu)，所述第二鏡頭安裝在所述第二相機(jī)上，所述第二相機(jī)水平固定于所述第二固定機(jī)構(gòu)，所述第二固定機(jī)構(gòu)水平鋪設(shè)在所述基座上，使得所述第二鏡頭與所述磁頭支架水平相對。
[0008]進(jìn)一步地，所述第二固定機(jī)構(gòu)設(shè)有一凹槽，所述第二相機(jī)及第二鏡頭嵌設(shè)于所述凹槽內(nèi)。
[0009]進(jìn)一步地，所述第二鏡頭為一遠(yuǎn)心鏡頭。
[0010]進(jìn)一步地，所述基座上設(shè)有一用于承載所述磁頭支架的承載座，所述承載座垂直于所述第二相機(jī)組件。
[0011]進(jìn)一步地，所述第一光源設(shè)置在所述承載座的底部，使其投射的光束豎直朝上射向所述磁頭支架。
[0012]進(jìn)一步地，所述基座上設(shè)有一用于將所述第二光源固定于所述基座的安裝座，所述安裝座豎直設(shè)置在所述基座上，且與所述第二相機(jī)組件分別位于所述磁頭支架的相對兩側(cè)，使得所述第二光源投射的光束水平射向所述磁頭支架。
[0013]進(jìn)一步地，所述第一光源、第二光源均為平行光源。
[0014]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備，具有以下有益效果:通過在基座的不同方位分別設(shè)置第一相機(jī)組件、第二相機(jī)組件、第一光源及第二光源，提高了非接觸式管光學(xué)測量設(shè)備的精度程度，提高了磁頭支架尺寸的測量精確度，還提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型的用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2為本實(shí)用新型的磁頭支架被測部分的長度的測量示意圖。
[0017]圖3為本實(shí)用新型的磁頭支架被測部分的高度的測量示意圖。
[0018]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0019]100、非接觸式光學(xué)測量設(shè)備；10、基座；1、第一相機(jī)組件；11、第一相機(jī)；12、第一鏡頭；13、第一固定機(jī)構(gòu)；131、固定板；132、支架；133、安裝板；2、第二相機(jī)組件；21、第二相機(jī)；22、第二鏡頭；23、第二固定機(jī)構(gòu)；231、凹槽；3、第二光源；31、安裝座；4、測試按鈕；5、磁頭支架(待測產(chǎn)品)；51、承載座。
【具體實(shí)施方式】
[0020]以下參考附圖，對本實(shí)用新型予以進(jìn)一步地詳盡闡述。
[0021]請參閱圖1，本實(shí)用新型提供的一種用于測量磁頭支架尺寸的非接觸式光學(xué)測量設(shè)備100，其包括一基座10、第一相機(jī)組件1、第二相機(jī)組件2、第一光源(未示出)及第二光源3。其中，基座10用于承載待測產(chǎn)品磁頭支架5 ;第一相機(jī)組件I設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的上方，用于測量磁頭支架5被測部分的長度；第二相機(jī)組件I設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的一側(cè)，用于測量磁頭支架5被測部分的高度；第一光源設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5的下方，以將磁頭支架5投影至第一相機(jī)組件I ;第二光源3設(shè)置在基座10上，且位于磁頭支架5相對于第二相機(jī)組件I的另一側(cè)，以將磁頭支架5投影至第二相機(jī)組件2。
[0022]具體地，第一相機(jī)組件I包括第一相機(jī)11、第一鏡頭12及第一固定機(jī)構(gòu)13。第一鏡頭12安裝在第一相機(jī)11上，第一相機(jī)11水平固定于第一固定機(jī)構(gòu)13的頂端，第一固定機(jī)構(gòu)13豎直設(shè)置在基座10上，使得第一鏡頭12與基座10豎直相對。
[0023]第一固定機(jī)構(gòu)13包括一固定板131、一支架132及一安裝板133，第一相機(jī)11固定于固定板131，固定板131垂直連接于支架132的頂端，支架132的底端垂直連接于安裝板133，安裝板133固定于基座10。
[0024]第二相機(jī)組件2包括第二相機(jī)21、第二鏡頭22及第二固定機(jī)構(gòu)23。第二鏡頭22安裝在第二相機(jī)21上，第二相機(jī)21水平固定于第二固定機(jī)構(gòu)23，第二固定機(jī)構(gòu)23水平鋪設(shè)在基座10上，使得第二鏡頭22與磁頭支架5水平相對。進(jìn)一步地，該第二鏡頭22為一遠(yuǎn)心鏡頭，因此其景深能夠包含被測區(qū)域的縱向被測范圍，其測試精度的有效性是一般鏡頭無法達(dá)到的。
[0025]第二固定機(jī)構(gòu)23設(shè)有一凹槽231，第二相機(jī)21及第二鏡頭22嵌設(shè)于該凹槽231內(nèi)。
[0026]基座10上設(shè)有一用于承載磁頭支架5的承載座51，承載座51垂直于第二相機(jī)組件2。第一光