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      快速獲得免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置的制造方法

      文檔序號:8606429閱讀:309來源:國知局
      快速獲得免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置的制造方法
      【技術領域】
      [0001] 本實用新型屬于離子束點掃描照射技術中一種快速獲得放射顯影免沖洗驗證膠 片劑量響應曲線的裝置。
      【背景技術】
      [0002] 在離子束應用(如輻射生物學實驗、材料物理、放射治療等)中,常常涉及到對離 子束輻射場特性的測量,如輻射場劑量均勻性或劑量分布測量。利用電離室矩陣可以對這 些特性進行直接測量,但是電離室矩陣空間分辨率低,難以滿足測量離子束束斑或劑量梯 度較大的照射野劑量分布的要求。放射顯影膠片測量照射野的劑量分布具有空間分辨率高 的優(yōu)點,特別是免沖洗驗證膠片的出現(xiàn),使得利用膠片測量的方法變得更加簡便。與傳統(tǒng)顯 影膠片相比,免沖洗驗證膠片不需要使用化學試劑進行顯影和定影,可以在可見光下操作, 減少了人為干預過程,減小了測量誤差。并且,免沖洗驗證膠片可切割成若干小塊分別進行 照射顯影,提高了膠片的有效利用率。此外,免沖洗驗證膠片具有防水性,可放置在水箱中, 同時測量不同深度處的照射野特性。鑒于上述眾多優(yōu)點,免沖洗驗證膠片在輻射劑量測量 方面的應用越來越廣泛。然而,利用免沖洗驗證膠片測量輻射場特性,首先需要對膠片進行 劑量刻度實驗,獲得膠片光密度(或灰度)變化與輻照劑量的關系,即劑量響應曲線。
      [0003] 在常規(guī)X射線調強放射治療中,一般需要對治療計劃系統(tǒng)計算獲得的劑量分布進 行實驗驗證,以評估治療計劃的可行性。在離子束點掃描束流配送中,同樣需要對各照射野 的劑量分布進行測量。為保證測量劑量分布的空間分辨率,目前在驗證測量中通常利用放 射顯影免沖洗驗證膠片法測量各照射野的劑量分布。通過專門的軟件將免沖洗驗證膠片的 灰度變化轉換成劑量分布測量值,并與計劃系統(tǒng)計算得到的劑量分布進行比較計算γ通 過率,以評估治療計劃的可行性。采用免沖洗驗證膠片測量劑量分布前,通常需要預先測量 獲得相應批次的膠片劑量響應曲線。目前,此預實驗的常規(guī)方法簡要操作步驟如下:
      [0004] 1)利用專業(yè)掃描儀(如,EPSON 10000XL)掃描一整張免沖洗驗證膠片,獲得紅光 通道像素值分布并計算像素平均值;
      [0005] 2)將整張免沖洗驗證膠片切割成若干個小塊,利用均勻輻照場對每小塊免沖洗驗 證膠片分別照射不同的劑量D ;
      [0006] 3)再次利用掃描儀獲得照射后的各個小塊免沖洗驗證膠片紅光通道平均像素值 PVirr ;
      [0007] 4)利用公式(Al)計算各個小塊免沖洗驗證膠片的凈光密度值,
      [0008]
      【主權項】
      1. 一種快速獲得免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置,其特征在于在束流線上分別依 次設有X向掃描磁鐵、Y向掃描磁鐵、準直器、參考監(jiān)測電離室、位置靈敏探測器;筆形束在 束流線上依次通過X向掃描磁鐵、Y向掃描磁鐵、準直器的準直孔、參考監(jiān)測電離室,在等中 心處獲得正高斯分布的筆形束流。
      2. 如權利要求1所述的快速獲得免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置,其特征在于所 述的位置靈敏探測器為高分辨的多絲正比室、分條電離室或二維電離室矩陣。
      【專利摘要】本實用新型屬于離子束點掃描照射技術中一種快速獲得放射顯影免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置。一種快速獲得免沖洗驗證膠片劑量響應曲線的裝置,其主要特點在于在束流線上分別依次設有X向掃描磁鐵、Y向掃描磁鐵、準直器、參考監(jiān)測電離室、位置靈敏探測器;筆形束在束流線上依次通過X向掃描磁鐵、Y向掃描磁鐵、準直器的準直孔、參考監(jiān)測電離室,在等中心處獲得正高斯分布的筆形束流。本實用新型的優(yōu)點是:(1)采用本實用新型提供的免沖洗驗證膠片劑量刻度裝置,可以減少操作人員的測量準備工作、減少束流使用時間及后續(xù)膠片數(shù)據(jù)處理時間。(2)理論上在高斯筆形束橫向劑量分布及免沖洗驗證膠片光密度分布上可以獲得無窮多個數(shù)據(jù)點,因此可以選取更多的數(shù)據(jù)進行數(shù)據(jù)擬合獲得更準確的膠片劑量響應曲線。
      【IPC分類】G01T1-29
      【公開號】CN204314473
      【申請?zhí)枴緾N201420764511
      【發(fā)明人】劉新國, 李強, 賀鵬博, 戴中穎, 黃齊艷, 閆淵林, 馬園園, 申國盛, 付廷巖, 肖國青
      【申請人】中國科學院近代物理研究所
      【公開日】2015年5月6日
      【申請日】2014年12月5日
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