本公開(kāi)的實(shí)施方式總體上涉及對(duì)象識(shí)別。更具體地，本公開(kāi)的實(shí)施方式涉及生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法和系統(tǒng)，參考對(duì)象諸如在復(fù)合層壓制造期間被鋪層的復(fù)合層壓層或?qū)悠?/p>

背景技術(shù)：

各種不同方法可以被使用在生產(chǎn)或制造環(huán)境中，以便正確地識(shí)別對(duì)象。通常，可以利用識(shí)別對(duì)象的獨(dú)特物理標(biāo)記或標(biāo)簽標(biāo)記對(duì)象。在一些實(shí)例中，可以光學(xué)地讀取該物理標(biāo)記以便驗(yàn)證正被詢問(wèn)的對(duì)象是所需對(duì)象。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

在一個(gè)布置中，公開(kāi)一種生成驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法。所述方法包括：生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像，從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果，以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像，基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋，生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像，基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋，比較所述候選指紋和所述參考指紋，以確定相關(guān)性是否存在于所述候選指紋和所述參考指紋之間，以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告。所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性存在。

在一個(gè)布置中，生成至少一個(gè)參考圖像的步驟包括生成復(fù)合層壓層片的至少一個(gè)參考圖像的步驟。

在一個(gè)布置中，生成至少一個(gè)參考圖像的步驟包括生成復(fù)合層壓層片的表面的至少一個(gè)參考圖像的步驟。

在一個(gè)布置中，基于所述至少一個(gè)參考圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋的步驟包括基于所述參考對(duì)象的表面生成所述參考指紋的步驟。

在一個(gè)布置中，生成所述警告的步驟進(jìn)一步包括確定所述參考對(duì)象是否是與所述候選對(duì)象相同的對(duì)象的步驟。

在一個(gè)布置中，生成候選指紋的步驟進(jìn)一步包括基于所述候選對(duì)象的表面生成所述候選指紋的步驟。

在一個(gè)布置中，生成所述警告的步驟包括確定所述參考對(duì)象的表面是否與所述候選對(duì)象的表面相似的步驟。

在一個(gè)布置中，生成至少一個(gè)參考圖像的步驟包括從多個(gè)角度生成所述參考對(duì)象的多個(gè)圖像的步驟。

在一個(gè)布置中，所述至少一個(gè)圖像包括多個(gè)圖像，以及去除光照效果的步驟進(jìn)一步包括使所述多個(gè)圖像互相比較，生成光中性(light-neutral)圖像，以及存儲(chǔ)所述光中性圖像的步驟。

在一個(gè)布置中，所述方法進(jìn)一步包括以下步驟：從所述至少一個(gè)候選圖像去除光照效果，創(chuàng)建經(jīng)過(guò)處理的所述至少一個(gè)候選圖像，以及基于經(jīng)過(guò)處理的所述至少一個(gè)候選圖像針對(duì)所述候選對(duì)象生成候選指紋。

在一個(gè)布置中，公開(kāi)一種生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括：至少一個(gè)探測(cè)器，其被配置為生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像以及生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像。信號(hào)處理器，其被配置為從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果，以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像，基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋，基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選圖像的候選指紋，并且比較所述候選指紋和所述參考指紋以確定所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性，以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告。所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的所述相關(guān)性存在。

在一個(gè)布置中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括第一光源，其被配置為照亮所述參考對(duì)象，其中，所述信號(hào)處理器進(jìn)一步被配置為去除通過(guò)所述第一光源導(dǎo)致的光照效果。

在一個(gè)布置中，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括第二光源，其被配置為照亮所述候選對(duì)象，其中，所述信號(hào)處理器進(jìn)一步被配置為去除通過(guò)所述第二光源導(dǎo)致的光照效果。

在一個(gè)布置中，所述參考指紋是基于所述參考對(duì)象的表面。

在一個(gè)布置中，所述信號(hào)處理器被配置為確定所述參考對(duì)象是否是所述候選對(duì)象。

在一個(gè)布置中，所述候選指紋是基于所述候選對(duì)象的表面。

在一個(gè)布置中，所述至少一個(gè)探測(cè)器進(jìn)一步被配置有多個(gè)透鏡，所述多個(gè)透鏡導(dǎo)致所述至少一個(gè)探測(cè)器接收從所述參考對(duì)象以多個(gè)不同角度反射的光。

在一個(gè)布置中，所述多個(gè)透鏡導(dǎo)致所述至少一個(gè)探測(cè)器記錄從所述參考對(duì)象反射的并且與所述多個(gè)透鏡中的每個(gè)透鏡相關(guān)的所述光的表示。

在一個(gè)布置中，一種方法，其包含配置信號(hào)處理器以接收來(lái)自探測(cè)器的輸出并且存儲(chǔ)參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像和候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像，從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像，基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)參考對(duì)象的參考指紋，基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選圖像的候選指紋，以及比較所述候選指紋和所述參考指紋以確定所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性。

在一個(gè)布置中，所述方法進(jìn)一步包括以下步驟：配置所述信號(hào)處理器以基于所述候選指紋和所述參考指紋的比較生成警告。所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的所述相關(guān)性存在。

在一個(gè)布置中，公開(kāi)一種生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法。所述方法包括：生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像，從所述至少一個(gè)參考圖像生成至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像，基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋，生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像，基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋，比較所述候選指紋和所述參考指紋，以確定相關(guān)性是否存在于所述候選指紋和所述參考指紋之間，以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告。所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性存在。

提供這個(gè)概述以簡(jiǎn)化形式介紹選擇的概念，該選擇的概念進(jìn)一步在以下說(shuō)明書(shū)中被詳細(xì)描述。這個(gè)概述不旨在識(shí)別所要求保護(hù)的主題的關(guān)鍵特征或重要特征，也不旨在用于輔助確定要求保護(hù)的主題的范圍。

已經(jīng)討論的特征、功能和優(yōu)勢(shì)能夠在各種示例中獨(dú)立實(shí)現(xiàn)，或者可以被結(jié)合在其它示例中，其他示例的進(jìn)一步的細(xì)節(jié)將能夠參考下列說(shuō)明與附圖見(jiàn)到。

附圖說(shuō)明

在所附的權(quán)利要求中闡述例示示例的特性認(rèn)為的新穎特征。然而，通過(guò)在結(jié)合附圖理解時(shí)參考本公開(kāi)的例示示例的以下詳細(xì)描述，將更好的理解例示示例和使用的優(yōu)選的模式，以及它們的進(jìn)一步的目的和描述。其中：

圖1是生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的一個(gè)示例系統(tǒng)的圖解表示。

圖2是生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的另一個(gè)系統(tǒng)的圖解表示。

圖3是一種生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法的流程圖。

具體實(shí)施方式

以下詳細(xì)描述本質(zhì)上是示例性的，并且不旨在限制本公開(kāi)或本申請(qǐng)和使用本公開(kāi)的實(shí)施方式。具體裝置、技術(shù)和應(yīng)用的描述僅作為示例被提供。用于本文中描述的示例的修改將對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易地顯而易見(jiàn)，并且在不偏離本公開(kāi)的精神和范圍的情況下，限定在本文中的一般原理可以被應(yīng)用于其它示例和應(yīng)用。本公開(kāi)應(yīng)該被授予與權(quán)利要求一致的范圍，并且不限于本文中描述和示出的示例。

在本文中可以按照功能和/或邏輯塊組件和各種處理步驟描述本公開(kāi)的實(shí)施方式。應(yīng)該理解的是這種塊組件可以通過(guò)經(jīng)配置以執(zhí)行特定功能的任何數(shù)量的硬件、軟件和/或固件組件實(shí)現(xiàn)。為了簡(jiǎn)潔起見(jiàn)，可以不在本文中詳細(xì)描述與本文中描述的信號(hào)處理、攝像機(jī)、透鏡、探測(cè)器、電子電路、電子裝置和其它功能性方面(以及系統(tǒng)的各個(gè)操作組件)相關(guān)的常用技術(shù)和組件。此外，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是可以與各種硬件和軟件結(jié)合實(shí)踐本公開(kāi)的實(shí)施方式，并且本文中描述的實(shí)施方式僅僅是本公開(kāi)的示例實(shí)施方式。

以非限制的應(yīng)用的上下文方式在本文中描述本公開(kāi)的實(shí)施方式，即光學(xué)攝像機(jī)。然而，本公開(kāi)的實(shí)施方式不限于這種光學(xué)攝像機(jī)應(yīng)用，并且本文中描述的技術(shù)還可以被利用在其它應(yīng)用中。例如但是并不僅限于此，實(shí)施方式可以適合于紅外、紫外、X射線或其它類型的攝像機(jī)。

以下是本公開(kāi)的示例和實(shí)施方式，并且不限于根據(jù)這些示例的操作。在不偏離本公開(kāi)的示例實(shí)施方式的范圍的情況下，可以利用其它實(shí)施方式，并且可以進(jìn)行結(jié)構(gòu)變化。

圖1是根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式的用于生成驗(yàn)證參考對(duì)象104的指紋146的示例系統(tǒng)100的圖解表示。在一個(gè)示例性布置中，參考對(duì)象104可以包括在復(fù)合層壓制造期間，諸如在復(fù)合層壓鋪層過(guò)程期間已經(jīng)被鋪層的復(fù)合層壓層或?qū)悠?/p>

系統(tǒng)100包括至少一個(gè)探測(cè)器106和信號(hào)處理器108。系統(tǒng)100被配置用于對(duì)參考對(duì)象104成像。通過(guò)光源102生成的光118反射離開(kāi)參考對(duì)象104的表面105。反射光116被反射離開(kāi)參考對(duì)象104的表面105并且在探測(cè)器106處被接收。在這個(gè)例示布置中，在反射光116穿過(guò)多個(gè)透鏡134之后，通過(guò)探測(cè)器106接收反射光116。

例如但不限于，光源102包括：激光、過(guò)濾光源、其他光譜選擇性光源、環(huán)境光源、熒光光源和/或其它相似光源。在一個(gè)布置中，光源102發(fā)送諸如光譜顏色的多個(gè)光譜波長(zhǎng)作為光118。例如但不限于，光譜波長(zhǎng)可以駐留在可見(jiàn)光、紅外光、紫外光、X射線或電磁能量(光)的光譜的范圍中。例如但不限于，光譜波長(zhǎng)可以各自包括波長(zhǎng)的各個(gè)波帶、特定波長(zhǎng)、波長(zhǎng)的組、波長(zhǎng)的范圍或其它可區(qū)別(distinguishable)的波長(zhǎng)。

在一個(gè)示例性布置中，光源102生成白光作為光118，其撞擊(impinge)在參考對(duì)象104的表面105上。白光通常包含結(jié)合以對(duì)人眼來(lái)說(shuō)為白色的多個(gè)不同光譜的波長(zhǎng)。如圖所示，從光源102發(fā)射的光118以多個(gè)入射角148入射在參考對(duì)象104的表面105上。雖然光源102被示出為離散組件，但是本公開(kāi)的系統(tǒng)和方法能夠利用環(huán)境光以相似方式運(yùn)行。例如在制造環(huán)境內(nèi)的發(fā)光條件能夠作為光源102并且因此提供入射在參考對(duì)象104的表面105上的光118。

參考對(duì)象104反射來(lái)自光源102的入射光118作為反射光116。在圖1中，光118以多個(gè)入射角148入射在參考對(duì)象104的表面105上并且作為反射光116指向探測(cè)器106。如前面所述，參考對(duì)象104是將被成像的材料。在一個(gè)示例性布置中，參考對(duì)象104包括基于碳纖維的層或?qū)悠T如使用在復(fù)合層壓制造過(guò)程中的碳纖維片。在這種制造過(guò)程中，通過(guò)光源102發(fā)射的光118將入射在層片的表面上并且因此將朝向探測(cè)器106被反射。從層片的表面反射的反射光116將因此表示層片的表面的輪廓、外形和/或圖案。

探測(cè)器106接收從參考對(duì)象104(例如層或?qū)悠?的表面105反射的反射光116。在一個(gè)布置中，探測(cè)器106包括電荷耦合裝置(CCD)，諸如數(shù)字?jǐn)z像機(jī)的CCD。還可以使用其它合適的探測(cè)器。在反射光116通過(guò)多個(gè)透鏡134傳播之后，探測(cè)器106接收反射光116。多個(gè)透鏡134導(dǎo)致探測(cè)器106接收來(lái)自多個(gè)不同角度的反射光116。因此，在光118已經(jīng)從參考對(duì)象104的表面105反射之后，多個(gè)透鏡134導(dǎo)致探測(cè)器106探測(cè)來(lái)自多個(gè)不同角度的光。例如，并且如圖1所示，多個(gè)透鏡134中的五個(gè)透鏡各自接收反射光116，其中五個(gè)透鏡中的每個(gè)與反射的不同角度對(duì)應(yīng)。因此，探測(cè)器106探測(cè)反射光116并且記錄與多個(gè)透鏡134中的每個(gè)透鏡關(guān)聯(lián)的反射光116的表示。在這個(gè)例示布置中，探測(cè)器106被配置為接收與參考對(duì)象104的若干不同視圖(例如，提供五個(gè)不同視圖的五個(gè)透鏡)對(duì)應(yīng)的反射光116，其中從稍微不同的角度接收五個(gè)不同視圖中的每個(gè)視圖。在一個(gè)示例性布置中，探測(cè)器106包括多個(gè)傳感器。在一個(gè)優(yōu)選的布置中，多個(gè)傳感器被布置在傳感器陣列中，諸如攝像機(jī)的傳感器陣列。

信號(hào)處理器108接收來(lái)自探測(cè)器106的輸出107。輸出107是通過(guò)探測(cè)器106探測(cè)的反射光116的表示。信號(hào)處理器108被配置為執(zhí)行與所公開(kāi)的生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象104的指紋的方法和系統(tǒng)相關(guān)的若干不同的功能。信號(hào)處理器108從探測(cè)器106接收輸出107并且至少部分基于信號(hào)處理器108從探測(cè)器106接收的輸出107存儲(chǔ)圖像144。被存儲(chǔ)的圖像144可以采用若干形式。在一個(gè)布置中，圖像144包括通過(guò)探測(cè)器106收集的特定原始數(shù)據(jù)。當(dāng)圖像114包括通過(guò)探測(cè)器106收集的初始數(shù)據(jù)時(shí)，圖像144包括參考對(duì)象104的表面105的多個(gè)視圖。在其它示例性布置中，被存儲(chǔ)的圖像144包括經(jīng)過(guò)處理的圖像，該經(jīng)過(guò)處理的圖像至少包括參考對(duì)象104的表面105的單個(gè)視圖。

如在本公開(kāi)的上下文中所使用的，術(shù)語(yǔ)“圖像”不旨在排除其中生成或產(chǎn)生表示圖像的數(shù)據(jù)，但是不生成或顯示可視圖像的實(shí)施方式或示例。因此，如在本公開(kāi)中使用的，術(shù)語(yǔ)“圖像”涉及可視圖像以及表示可視圖像的數(shù)據(jù)二者。只是作為一個(gè)示例，一些實(shí)施方式可以生成至少一個(gè)可視圖像，并且(一個(gè)或更多個(gè))系統(tǒng)的處理器可以對(duì)表示可視圖像的數(shù)據(jù)進(jìn)行操作。

在其中圖像114包括參考對(duì)象104的表面105的單個(gè)視圖的一個(gè)布置中，信號(hào)處理器108被配置為分析參考對(duì)象104的各種視圖，以便確定單個(gè)圖像。在另選的布置中，其中圖像144包括參考對(duì)象104的表面105的單個(gè)視圖，信號(hào)處理器108被配置為分析參考對(duì)象104的各種視圖，以便確定已經(jīng)去除照明效果的單個(gè)圖像。例如，這種照明效果可以包括不合需要的照明效果，諸如鏡面反射和/或顏色失真。這種照明效果在它們具有導(dǎo)致指紋被生成有重復(fù)性的小機(jī)會(huì)的趨勢(shì)時(shí)是不合需要的。例如，鏡面反射和顏色失真能夠從場(chǎng)景(例如，工作環(huán)境)至場(chǎng)景(例如，另一個(gè)工作環(huán)境)而變換，并且導(dǎo)致相同對(duì)象基于何時(shí)和如何生成圖像不同地出現(xiàn)。這個(gè)變換是不合需要的，因?yàn)槠浣档陀糜诤线m地確定參考對(duì)象何時(shí)實(shí)際地呈現(xiàn)在場(chǎng)景中的能力。

作為示例，信號(hào)處理器108被配置為分析參考對(duì)象104的各種視圖，以便確定已經(jīng)去除鏡面反射的單個(gè)圖像。在其中去除鏡面反射的情況中，信號(hào)處理器108能夠被配置為以各種方式去除鏡面反射。在一個(gè)示例中，信號(hào)處理器108通過(guò)分析參考對(duì)象104的各種視圖去除鏡面反射，以確定多個(gè)圖像的光中性版本。光中性圖像可以允許被表示在圖像中的對(duì)象與對(duì)象的具有不同光照的隨后生成的圖像進(jìn)行比較。例如，為了確定多個(gè)圖像的光中性版本，信號(hào)處理108比較參考對(duì)象104的各種視圖并且創(chuàng)造去除亮點(diǎn)的單個(gè)視圖的圖像。亮點(diǎn)能夠發(fā)生在光經(jīng)歷鏡面反射而不是漫反射處。通過(guò)以與入射角相同的角度，反射光能夠?qū)е络R面反射。鏡面反射能夠?qū)е聦?duì)表示在圖像144中的參考對(duì)象104的觀察和成像方面的困難。

在一個(gè)優(yōu)選的布置中，信號(hào)處理器108被配置為生成圖像144的指紋146(其中已經(jīng)去除或沒(méi)有已經(jīng)去除光照效果)。作為一個(gè)示例，指紋146包括以更小文件尺寸表示圖像144的一組數(shù)據(jù)。在一個(gè)示例中，圖像144的指紋146包括對(duì)表示在圖像144中的參考對(duì)象104是唯一的一組數(shù)據(jù)。因此，如果在生成第一圖像之后生成第二圖像，則第二生成圖像的指紋能夠與初始指紋146進(jìn)行比較，以便確定是否相同參考對(duì)象104被用于創(chuàng)造初始指紋146。

在另一個(gè)示例中，圖像144的指紋146包括對(duì)圖案唯一的一組數(shù)據(jù)，該圖案被提供在表示在圖像144中的參考對(duì)象104的表面105上。因此，如果在圖像144之后生成候選圖像(例如，第二圖像)，則該候選圖像的指紋能夠與指紋146進(jìn)行比較，以確定表示在該候選圖像中的對(duì)象是否具有與原始創(chuàng)建的指紋146的表面圖案相同的表面圖案。僅作為一個(gè)示例，相同表面圖案是時(shí)常有用的，以確定兩個(gè)復(fù)合層壓層片是否具有相似的編織圖案和/或相似的纖維尺寸。另外，圖像144和候選圖像可以利用不同的光源產(chǎn)生。僅作為一個(gè)示例，可以通過(guò)利用激光作為光源102以照亮參考對(duì)象104來(lái)產(chǎn)生圖像144，然而可以通過(guò)利用環(huán)境光作為光源102以照亮參考對(duì)象104來(lái)產(chǎn)生候選圖像。

優(yōu)選地，信號(hào)處理器108包括處理器模塊110和存儲(chǔ)器模塊112。在一個(gè)優(yōu)選的布置中，利用通用處理器、內(nèi)容可尋址存儲(chǔ)器、數(shù)字信號(hào)處理器、專用集成電路、場(chǎng)可編程門(mén)陣列、合適可編程邏輯裝置、離散門(mén)或晶體管邏輯、離散硬件組件、或經(jīng)設(shè)計(jì)以執(zhí)行本文中所描述的功能的其任何組合，實(shí)施或?qū)崿F(xiàn)信號(hào)處理器108的處理器模塊110。在這個(gè)方式中，在一個(gè)布置中，處理器被實(shí)現(xiàn)為微處理器、控制器、微控制器、狀態(tài)機(jī)等。另選地，處理器被實(shí)施為包括硬件和/或軟件的計(jì)算裝置的組合，例如，數(shù)字信號(hào)處理器和微處理器的組合、多個(gè)微處理器、與數(shù)字信號(hào)處理器核結(jié)合的一個(gè)或更多個(gè)微處理器、或任何其它的這種配置。優(yōu)選地，處理器模塊110被配置為執(zhí)行本文中公開(kāi)的一些或全部的功能，諸如與信號(hào)處理器108關(guān)聯(lián)的功能。

優(yōu)選地，信號(hào)處理器108的存儲(chǔ)器模塊112包括數(shù)據(jù)存儲(chǔ)區(qū)域，其包括經(jīng)格式化以支持系統(tǒng)100的操作的存儲(chǔ)器。存儲(chǔ)器模塊112被配置為根據(jù)需要存儲(chǔ)、維持和提供數(shù)據(jù)，以支持系統(tǒng)100的功能性。僅作為一個(gè)示例，但不限于此，存儲(chǔ)器模塊112存儲(chǔ)反射光116的強(qiáng)度、指紋146、圖像144和/或其它圖像相關(guān)數(shù)據(jù)。

在一個(gè)優(yōu)選的布置中，存儲(chǔ)器模塊112包括非易失性存儲(chǔ)裝置(非易失性半導(dǎo)體存儲(chǔ)器、硬盤(pán)裝置、光盤(pán)裝置等)、隨機(jī)訪問(wèn)存儲(chǔ)裝置(例如，SRAM、DRAM)、或其它相似存儲(chǔ)介質(zhì)。

在一個(gè)優(yōu)選布置中，存儲(chǔ)器模塊112被耦合至處理器模塊110。例如但不限于此，存儲(chǔ)器模塊112被配置以存儲(chǔ)數(shù)據(jù)庫(kù)、通過(guò)處理器模塊110執(zhí)行的計(jì)算機(jī)程序、操作系統(tǒng)、應(yīng)用程序、在執(zhí)行程序過(guò)程中使用的試驗(yàn)數(shù)據(jù)、或其它應(yīng)用程序。另外，在一個(gè)布置中，存儲(chǔ)器模塊112表示含有用于更新數(shù)據(jù)庫(kù)等的表格的動(dòng)態(tài)更新數(shù)據(jù)庫(kù)。

存儲(chǔ)器模塊112被耦合至處理器模塊110，使得處理器模塊110能夠從存儲(chǔ)器模塊112讀取信息并且能夠向存儲(chǔ)器模塊112寫(xiě)入信息。在一個(gè)示例性布置中，處理器模塊110訪問(wèn)存儲(chǔ)器模塊112以檢索和/或存儲(chǔ)所接收的光116、指紋146、圖像144和/或其它數(shù)據(jù)。

在一個(gè)布置中，處理器模塊110和存儲(chǔ)器模塊112駐留在相應(yīng)的專用集成電路(ASIC)或其它可編程裝置中。存儲(chǔ)器模塊112能夠被集成在處理器模塊110中。在一個(gè)布置中，處理器模塊112包括在執(zhí)行用于通過(guò)處理器模塊110執(zhí)行的指令期間用于存儲(chǔ)臨時(shí)變量或其它中間信息的高速緩存存儲(chǔ)器。

圖2是生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象104的指紋(諸如圖1例示的指紋146)的另一個(gè)系統(tǒng)200的圖解表示。具體地，圖2是包括光場(chǎng)攝像機(jī)230(即，也稱為全光攝像機(jī))的示例性光場(chǎng)攝像機(jī)系統(tǒng)200的例示。系統(tǒng)200與圖1例示的系統(tǒng)100相似，其中系統(tǒng)100、200二者利用相似光源102、102A、102B，二者利用多個(gè)透鏡134、234，二者利用相似探測(cè)器106，并且二者操作以照亮參考對(duì)象104的表面105。此外，系統(tǒng)100、200均包含信號(hào)處理器108，該信號(hào)處理器108操作以接收來(lái)自探測(cè)器106的輸出、生成圖像144并且生成指紋146。雖然這兩個(gè)光源102A、102B以與系統(tǒng)100的光源102相似的方式操作，但是在這兩個(gè)系統(tǒng)100、200之間的一個(gè)區(qū)別是圖2的系統(tǒng)200利用兩個(gè)光源102A和102B。在這兩個(gè)系統(tǒng)100、200之間的另一個(gè)區(qū)別是在系統(tǒng)200中的多個(gè)透鏡234被布置在二維陣列中。

利用圖2中例示的光場(chǎng)攝像機(jī)230以根據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式獲得參考對(duì)象104的圖像。作為本文中所使用，光場(chǎng)攝像機(jī)230是一種類型的攝像機(jī)，其基于通過(guò)攝像機(jī)接收的光的強(qiáng)度生成圖像。此外，光場(chǎng)攝像機(jī)230收集關(guān)于光進(jìn)入光場(chǎng)攝像機(jī)230的角度的信息。在一個(gè)示例性布置中，光場(chǎng)攝像機(jī)230被配置有多個(gè)透鏡234。在多個(gè)透鏡234內(nèi)的每個(gè)透鏡被配置為將光聚焦在優(yōu)選地含有在光場(chǎng)攝像機(jī)230中的探測(cè)器106上。在這個(gè)例示布置中，多個(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡基于以稍微不同的角度從參考對(duì)象104的表面105被反射的光將光聚焦在探測(cè)器106上。因此，探測(cè)器106接收與參考對(duì)象104的多個(gè)不同視圖相關(guān)的圖像數(shù)據(jù)。例如，在一個(gè)優(yōu)選的布置中，光場(chǎng)攝像機(jī)系統(tǒng)200被用于生成包括復(fù)合層壓層或?qū)悠膮⒖紝?duì)象104的圖像，該復(fù)合層壓層或?qū)悠趶?fù)合層壓鋪層期間被使用或鋪層。

在圖2所示的實(shí)施方式中，利用102A和102B兩個(gè)光源以照亮參考對(duì)象104。具體地，利用102A和102B兩個(gè)光源以照亮參考對(duì)象104的表面105。如上所述，以與圖1例示的系統(tǒng)100的光源102相似的方式運(yùn)行光源102A和102B。放置系統(tǒng)200(圖2)的這兩個(gè)光源102A和102B以導(dǎo)致光218以多個(gè)相應(yīng)入射角148入射在參考對(duì)象104的表面105上。以相應(yīng)入射角148放置光源102A和102B允許參考對(duì)象104的表面105被均勻地照亮。

與參照?qǐng)D1中例示的系統(tǒng)100的討論相似，系統(tǒng)200中的光源102A和102B被例示為離散元件。然而，在另選的布置中，要么第一光源102A要么第二光源102B(或二者)可以包括環(huán)境光。例如，可以存在比諸如太陽(yáng)光或室內(nèi)照明的環(huán)境光的一個(gè)來(lái)源更多的來(lái)源，其提供入射在參考對(duì)象104的表面105上的光218A、218B。光源102A和102B分別提供入射光218A、218B，其從參考對(duì)象104的表面105反射。這個(gè)入射光218A、218B然后作為反射光216被反射。通過(guò)光場(chǎng)攝像機(jī)230的多個(gè)透鏡234接收這個(gè)反射光216。多個(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡被配置為將反射光216聚焦至光場(chǎng)攝像機(jī)230的探測(cè)器106。與參照?qǐng)D1所描述的系統(tǒng)100相似，在一個(gè)優(yōu)選的布置中，探測(cè)器106包括傳感器陣列，該傳感器陣列包括多個(gè)傳感器。

入射在參考對(duì)象104的表面105上的光218A、218B以多個(gè)入射角度148入射并且朝向攝像機(jī)230作為反射光216反射。多個(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡被配置為接收反射光216并且每個(gè)透鏡將反射光216聚焦在探測(cè)器106上。因?yàn)槎鄠€(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡以反射的不同角度接收反射光216，所以反射光216將有利地表示參考對(duì)象104的表面105的不同視圖。因此，探測(cè)器106收集參考對(duì)象104的圖案的數(shù)據(jù)。因?yàn)樘綔y(cè)器106接收來(lái)自多個(gè)不同角度的反射光216，所以在一個(gè)布置中，可以基于分析從多個(gè)不同角度生成的各種圖像去除光照效果(諸如，鏡面反射和/或顏色失真)。在另一個(gè)另選的布置中，在探測(cè)器106接收來(lái)自多個(gè)不同角度的反射光216之后，沒(méi)有光照效果被去除。

不同于圖1例示的多個(gè)透鏡，例示在圖2中的多個(gè)透鏡234被布置為二維陣列。優(yōu)選地，多個(gè)透鏡234的二維陣列導(dǎo)致探測(cè)器106基于多個(gè)透鏡234的陣列收集圖像的陣列。如前所述，例示在圖2中的系統(tǒng)200被耦合至信號(hào)處理器108，其與參照?qǐng)D1本文中描述的信號(hào)處理器108相似。

圖3是根據(jù)本公開(kāi)的一個(gè)實(shí)施方式的生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象104(示出在圖1和圖2中)的指紋的示例性方法的流程圖。可以通過(guò)軟件、硬件、固件、計(jì)算機(jī)可讀軟件、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)、或其任何組合機(jī)械地執(zhí)行與方法300有關(guān)執(zhí)行的各種任務(wù)。

出于例示的目的，參照?qǐng)D1中例示的系統(tǒng)100和圖2中例示的系統(tǒng)200，方法300的以下描述涉及本文所述的元件。在一個(gè)布置中，通過(guò)系統(tǒng)100和系統(tǒng)200的不同元件(諸如，光源102、102A或102B、參考對(duì)象104、探測(cè)器106、信號(hào)處理器108、多個(gè)透鏡134、234和光場(chǎng)攝像機(jī)230)執(zhí)行方法300的部分。應(yīng)該理解的是，在一個(gè)布置中，方法300包含任何數(shù)量的額外或另選的任務(wù)。此外，圖3中示出的任務(wù)不需要以示出的順序執(zhí)行。此外，方法300能夠被并入具有沒(méi)有被詳細(xì)地描述在本文中的附加功能的更多全面程序或處理中。

方法300適合于許多不同應(yīng)用，其包含制造應(yīng)用。在一些情況中，將物理標(biāo)簽或標(biāo)記應(yīng)用至對(duì)象是不實(shí)際的。方法300使用光學(xué)技術(shù)和光學(xué)識(shí)別以避免以物理方式標(biāo)記各種對(duì)象。在一個(gè)示例中，生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像允許將指紋生成。當(dāng)指紋對(duì)具體對(duì)象唯一時(shí)，這個(gè)指紋被用于之后驗(yàn)證對(duì)象是與以前成像的對(duì)象相同的對(duì)象。如果指紋不匹配，則其可以確定的是隨后成像對(duì)象是與初始成像的對(duì)象不同。這個(gè)示例可以用于制造環(huán)境中以正確地識(shí)別用于使用在復(fù)合層壓制造中的特定類型的復(fù)合層壓層或?qū)悠?。在一個(gè)示例性布置中，第一指紋被生成用于這種層或?qū)悠?，其?duì)碳纖維的特定層或?qū)悠俏ㄒ坏摹Ｈ缓?，生成第二指紋以驗(yàn)證碳纖維的層或?qū)悠莵?lái)自更早制造活動(dòng)的相同的層或?qū)悠?。有利地，這個(gè)驗(yàn)證能夠在不需要必須向?qū)踊驅(qū)悠锢硖砑訕?biāo)簽或標(biāo)記的情況下發(fā)生。

在不同應(yīng)用中，對(duì)象完全相同是沒(méi)有必要的。相反，可能需要的是對(duì)象大體上相似。在這種應(yīng)用中，指紋被生成對(duì)對(duì)象的類型唯一，但是對(duì)該特定對(duì)象沒(méi)有必要唯一。因此，利用候選指紋(例如，第二或隨后指紋)以確定被用于創(chuàng)造候選指紋的對(duì)象是否大體上與被原始地用于創(chuàng)造參考指紋的對(duì)象(例如，第一或初始指紋)相似。確定兩個(gè)或更多指紋之間的大體的相似可以在使用碳纖維層或?qū)悠膹?fù)合層壓制造過(guò)程方面是有用的。例如，基于層或?qū)悠谋砻鎴D案，可以生成碳纖維的第一層片的初始指紋。在后來(lái)的過(guò)程中，可以生成第二指紋以驗(yàn)證第二層或?qū)悠哂信c來(lái)自涉及第一層片的制造過(guò)程的更早步驟的初始指紋相同的表面圖案。能夠完成這個(gè)而不需要必須向?qū)踊驅(qū)悠锢淼靥砑訕?biāo)簽或標(biāo)記。相同表面圖案可以是有用的以確定第一和第二層或?qū)悠欠窬哂邢嗨凭幙棃D案和/或相似纖維尺寸。在一個(gè)示例中，對(duì)比兩個(gè)或更多指紋能夠幫助確定碳纖維層或?qū)悠恼_類型在復(fù)合層壓制造過(guò)程中被正確地鋪層。

方法300通過(guò)生成至少一個(gè)參考對(duì)象的參考圖像在步驟302處開(kāi)始。在一個(gè)布置中，通過(guò)系統(tǒng)100和與參照?qǐng)D1的圖像114描述相似的方式生成參考圖像。另選地，通過(guò)如參照?qǐng)D2例示和討論的光場(chǎng)攝像機(jī)系統(tǒng)200生成參考圖像。在一個(gè)布置中，步驟302在驗(yàn)證對(duì)象(例如，用于復(fù)合層壓鋪層的層或?qū)悠?確實(shí)是正確對(duì)象(例如，用于所需鋪層程序的正確層或?qū)悠?的制造過(guò)程期間被執(zhí)行。步驟302還能夠在驗(yàn)證一個(gè)碳纖維部件(例如，參考對(duì)象)是與以前成像的碳纖維部件相同的碳纖維部件以將碳纖維部件裝備在碳纖維部件的組件中的制造過(guò)程期間被執(zhí)行。例如，在復(fù)合層壓過(guò)程中，在鋪層過(guò)程之后(之前)，成像復(fù)合層壓的層或?qū)悠员阍诰唧w制造過(guò)程期間驗(yàn)證使用正確層或?qū)悠?/p>

在收集圖像數(shù)據(jù)和生成至少一個(gè)參考圖像之前，照亮諸如層或?qū)悠蛱祭w維的部件的參考對(duì)象。優(yōu)選地，通過(guò)環(huán)境光或作為如本文描述的系統(tǒng)100、200的部分的光源102、102A、102B提供照亮。

在一個(gè)優(yōu)選的方法中，在步驟302處通過(guò)利用探測(cè)器，諸如如圖2所示的光場(chǎng)攝像機(jī)230的探測(cè)器收集參考圖像數(shù)據(jù)，并且可選擇地，使用信號(hào)處理器108從參考圖像數(shù)據(jù)產(chǎn)生參考圖像。另選地，通過(guò)利用探測(cè)器，諸如圖1的探測(cè)器106在步驟302處收集參考圖像數(shù)據(jù)。如前所述，光場(chǎng)攝像機(jī)230是基于通過(guò)攝像機(jī)接收的光的強(qiáng)度產(chǎn)生圖像，而且獲得關(guān)于在光進(jìn)入攝像機(jī)230處的角度信息的一種類型的攝像機(jī)。在一個(gè)示例中，光場(chǎng)攝像機(jī)230被配置有多個(gè)透鏡234。多個(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡將反射光216聚焦在光場(chǎng)攝像機(jī)230的探測(cè)器106上。然而，多個(gè)透鏡234中的每個(gè)透鏡基于以稍微不同的角度從參考對(duì)象104的表面105反射的反射光216將反射光216聚焦在探測(cè)器106上。同樣地，探測(cè)器106收集與參考對(duì)象104的多個(gè)不同視圖相關(guān)的參考圖像數(shù)據(jù)。

在一個(gè)布置中，在步驟302處，方法300生成多于一個(gè)的參考圖像。例如，一個(gè)或更多個(gè)參考圖像能夠各自表示在步驟302處生成的圖像的各種視圖的具體區(qū)域。在其它示例中，基于在步驟320處生成的圖像的各種視圖的不同的平均值生成一個(gè)或更多個(gè)參考圖像。在一個(gè)布置中，不同平均值被用于創(chuàng)造一個(gè)或更多個(gè)參考圖像，以便使得步驟306的隨后指紋更穩(wěn)健并且更有可能地創(chuàng)造是唯一的指紋146。

方法300通過(guò)從在步驟302處生成的至少一個(gè)參考圖像生成至少一經(jīng)過(guò)處理的圖像在步驟304處繼續(xù)。僅作為一個(gè)示例，在步驟304處，至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像可以通過(guò)從至少一個(gè)參考圖像去除光照效果生成。例如，這種光照效果可能包含鏡面反射。在一個(gè)布置中，信號(hào)處理器108分析在步驟302處產(chǎn)生的圖像的各種視圖，以生成單個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像。在另選的布置中，信號(hào)處理器108分析在步驟302處產(chǎn)生的圖像的各種視圖，以生成去除光照效果(例如，鏡面反射)的單個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像。如前所述，信號(hào)處理器108優(yōu)選地被配置為使用各種方法去除鏡面反射。在一個(gè)示例中，通過(guò)分析參考對(duì)象104的各種視圖，信號(hào)處理器108通過(guò)去除鏡面反射創(chuàng)建經(jīng)過(guò)處理的圖像，以確定多個(gè)圖像的光中性版本，這是經(jīng)過(guò)處理的圖像。為了確定光中性圖像，信號(hào)處理器108比較參考對(duì)象104的各種視圖并且創(chuàng)建去除亮點(diǎn)的單個(gè)視圖的經(jīng)過(guò)處理的圖像。亮點(diǎn)能夠發(fā)生在光經(jīng)歷鏡面反射處，而不是漫反射處。通過(guò)以與入射角相同的角度的光反射導(dǎo)致鏡面反射。鏡面反射可以導(dǎo)致在觀看通過(guò)圖像表示的對(duì)象方面的困難。

在一些示例中，基于在步驟302處產(chǎn)生的參考圖像的各種視圖的統(tǒng)計(jì)分析去除鏡面反射。例如，因?yàn)殓R面反射導(dǎo)致圖像中的光點(diǎn)，所以參考圖像的多個(gè)各種視圖可以與彼此進(jìn)行比較，以去除鏡面反射。作為比較的部分，通過(guò)確定產(chǎn)生的參考圖像的給定特征是否是與其它產(chǎn)生的參考圖像中的相似特征統(tǒng)計(jì)地相似，可以將亮點(diǎn)從生成的參考圖像去除。如果相似特征沒(méi)有出現(xiàn)在各種生成的參考圖像之間，則這個(gè)特征被去除。在另一個(gè)示例中，在步驟302處收集的圖像數(shù)據(jù)的各種視圖可以被一起取平均以形成經(jīng)過(guò)處理的圖像。然而，作為取平均的部分，將去除具有來(lái)自其它參考圖像的統(tǒng)計(jì)偏差的參考圖像的部分。

光場(chǎng)攝像機(jī)230在給定時(shí)間處收集參考對(duì)象104的數(shù)個(gè)不同視圖的數(shù)據(jù)。參考對(duì)象104的不同視圖中的一些或全部可以含有鏡面反射。當(dāng)對(duì)參考圖像取平均以形成經(jīng)過(guò)處理的圖像時(shí)，鏡面反射被識(shí)別為與跨越不同視圖的該相應(yīng)點(diǎn)的平均值的統(tǒng)計(jì)偏差。在一個(gè)優(yōu)選的布置中，在取平均之前去除這些統(tǒng)計(jì)偏差。一旦去除鏡面反射點(diǎn)并且對(duì)參考圖像的剩余部分取平均，光中性圖像就被創(chuàng)建并且被存儲(chǔ)為經(jīng)過(guò)處理的圖像。

如本文中之前所述，在一個(gè)示例中，可以利用信號(hào)處理器108或可以不利用信號(hào)處理器108以去除鏡面反射。如果利用信號(hào)處理器108以去除諸如鏡面反射的光照效果，其可以通過(guò)分析參考對(duì)象104的各種視圖以確定多個(gè)參考圖像的光中性版本來(lái)這樣做。光中性圖像可以允許表示在參考圖像中的參考對(duì)象與具有不同光照的參考對(duì)象的隨后生成的圖像進(jìn)行比較。例如，為了確定多個(gè)圖像的光中性版本，信號(hào)處理器108比較參考圖像104的各種視圖，并且創(chuàng)建去除亮點(diǎn)的單個(gè)視圖的圖像。亮點(diǎn)能夠發(fā)生在光經(jīng)歷鏡面反射處而不是漫反射處。通過(guò)以與入射角度相同的角度反射的光可以導(dǎo)致鏡面反射。鏡面反射能夠?qū)е略谟^看和成像被表示在圖像144中的參考對(duì)象104方面的困難。

方法300在步驟306處繼續(xù)，其中方法300基于在步驟304處(去除或不去除光照效果)生成的至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)參考對(duì)象104的參考指紋146。如以前所述，在一個(gè)布置中，參考指紋146包括以更小文件尺寸表示的經(jīng)過(guò)處理的圖像的一組數(shù)據(jù)。在一個(gè)示例中，經(jīng)過(guò)處理的圖像的參考指紋146是對(duì)表示在圖像中的參考對(duì)象104唯一的一組數(shù)據(jù)。因此，如果在生成初始圖像之后，生成候選圖像或隨后圖像，則候選圖像的候選指紋能夠與初始參考指紋146進(jìn)行比較，以確定是否相同參考對(duì)象被用于創(chuàng)建候選指紋以及初始生成的參考指紋146。在另一個(gè)示例中，經(jīng)過(guò)處理的圖像的參考指紋146包括對(duì)表示在圖像中的參考對(duì)象104的表面105上提供的圖案唯一的一組數(shù)據(jù)。因此，如果在第一參考圖像之后其它參考圖像被生成，則隨后生成的參考圖像的指紋能夠與初始指紋146進(jìn)行比較，以確定兩個(gè)對(duì)象是否具有相同表面圖案。相同表面圖案是有用的，以確定碳纖維的兩個(gè)層或片是否具有相似編織圖案和/或相似纖維尺寸。

方法300在步驟308處繼續(xù)，此處候選圖像數(shù)據(jù)被收集用于生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像。在一個(gè)布置中，通過(guò)光場(chǎng)攝像機(jī)230(如圖2所示)收集候選圖像數(shù)據(jù)，并且在另一布置中，使用多個(gè)透鏡134和探測(cè)器106(如圖1所示)收集候選圖像數(shù)據(jù)。在步驟308處，方法300以與參照其中收集參考對(duì)象104的參考圖像數(shù)據(jù)的步驟302的上述相似方式收集候選圖像數(shù)據(jù)。然而，在一個(gè)布置中，在與步驟302相比的不同時(shí)間和不同光照條件處收集候選圖像數(shù)據(jù)。例如，在步驟302處，方法300可以在制造過(guò)程中的一個(gè)階段處收集參考圖像數(shù)據(jù)，并且在步驟308處，方法300可以在制造過(guò)程中的不同階段處收集候選圖像數(shù)據(jù)。另外，在步驟302處，方法300可以收集通過(guò)第一光源(例如過(guò)濾光源)照亮的參考對(duì)象的參考圖像數(shù)據(jù)，而在步驟308處，該方法可以收集通過(guò)第二光源(例如，環(huán)境光)照亮的候選對(duì)象的候選圖像數(shù)據(jù)，其中第二光源與第一光源不同。

另選地，方法300的步驟308可以包含利用不是光場(chǎng)攝像機(jī)230的攝像機(jī)收集候選圖像的步驟。在其中步驟308收集用于單個(gè)圖像的候選圖像數(shù)據(jù)的情況下，以與在步驟304處去除鏡面反射相似的方式簡(jiǎn)單地去除鏡面反射可以是不可能的。在這個(gè)情況下，在步驟308處，過(guò)程可以簡(jiǎn)單地存儲(chǔ)被收集的單個(gè)候選圖像數(shù)據(jù)。

在一些示例中，步驟308可以可選擇地包括與在步驟304處發(fā)生的可選擇的處理相似的處理，其中將鏡面反射從至少一個(gè)參考圖像去除?；谏蓤D像的類型，步驟308可以或可以不將鏡面反射從至少一個(gè)候選圖像去除。例如，當(dāng)步驟308收集與候選對(duì)象的多個(gè)圖像對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)(例如，使用光場(chǎng)攝像機(jī)230)時(shí)，可以參照步驟304如本文中所述去除鏡面反射。然而，在一些情況下，當(dāng)步驟308收集用于利用探測(cè)器106(圖1)產(chǎn)生候選圖像的數(shù)據(jù)時(shí)，候選圖像數(shù)據(jù)可以產(chǎn)生候選圖像的單個(gè)視圖并且鏡面反射去除步驟304可以是不適合的。所以在這個(gè)情況下，步驟308可以或可以不包含針對(duì)包含參考對(duì)象的單個(gè)視圖的候選圖像的不同鏡面反射去除技術(shù)(如與步驟304進(jìn)行比較)。這些技術(shù)可以包含去除亮點(diǎn)或裁減所存儲(chǔ)的候選圖像，使得候選圖像不含有疑似是鏡面反射的區(qū)域。另選地，在步驟308處，沒(méi)有去除技術(shù)被利用。

在步驟310處，方法300基于在步驟308處生成的至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)候選對(duì)象的候選指紋。優(yōu)選地，信號(hào)處理器108(圖1和圖2)生成這個(gè)候選指紋。步驟310以與在步驟306處生成參考指紋相似的方式生成候選指紋。然而，步驟310基于步驟308處生成的至少一個(gè)候選圖像而不是步驟306處生成的至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的參考圖像生成候選指紋。另選地，如果步驟308包括包含與發(fā)生在步驟304處的處理類似的處理的可選的步驟，則步驟310基于至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的候選圖像生成候選指紋。

在步驟312處，方法300比較候選指紋和參考指紋，以確定候選指紋和參考指紋之間的相關(guān)性。通過(guò)比較候選指紋和參考指紋，確定這兩個(gè)指紋是相似的可能性。例如，在一個(gè)布置中，候選指紋和參考指紋可以各自包括多個(gè)標(biāo)記，其中各種標(biāo)記之間具有幾何關(guān)系。用于確定候選指紋和參考指紋是相似的可能性的一個(gè)方法將是對(duì)匹配的標(biāo)記的數(shù)目計(jì)數(shù)并且然后檢查標(biāo)記之間的指紋的幾何關(guān)系是否是打亂的。如果候選指紋和參考指紋的給定標(biāo)記的比例是在特定閾值之上，則兩個(gè)指紋可以說(shuō)是匹配的。這個(gè)特定閾值優(yōu)選地包括可調(diào)整閾值并且是可控制的，以便允許該方法權(quán)衡誤報(bào)(false positive)和漏報(bào)(false negative)的比例。在其中指紋對(duì)特定參考對(duì)象是唯一的示例中，在步驟312處，方法300基于這個(gè)比較步驟證實(shí)表示在兩個(gè)圖像中的對(duì)象是否是相同的對(duì)象。例如在復(fù)合層壓制造過(guò)程中，可需要的是驗(yàn)證在制造過(guò)程中的一個(gè)階段處的復(fù)合層壓層或?qū)悠窃谥圃爝^(guò)程的不同階段期間使用的相同類型的層或?qū)悠?/p>

在其中基于在參考對(duì)象104的表面105上的圖案創(chuàng)建指紋146的示例中，在步驟312處，方法300證實(shí)表示在兩個(gè)圖像中的對(duì)象是否具有相同表面圖案。用于完成這個(gè)確認(rèn)的一個(gè)方式是通過(guò)本文中討論的幾何關(guān)系確定的方式。例如，在制造過(guò)程中，通常期望在制造過(guò)程中的一個(gè)階段處使用具有特定特征(諸如特定編織圖案和/或特定編織維度)的復(fù)合層壓層或?qū)悠Ｒ虼?，在步驟312處，方法300驗(yàn)證復(fù)合層壓層或?qū)悠哂姓_圖案和/或正確編織維度，并且因此是用于那個(gè)特定制造過(guò)程的合適復(fù)合層壓層或?qū)悠?/p>

在步驟314處，方法300基于比較候選指紋和參考指紋生成警告。這種警告可以是指示候選指紋和參考指紋之間的相關(guān)性存在。在一些步驟中，在步驟314處的方法在候選指紋和參考指紋之間存在一些相關(guān)性時(shí)提供警告，其指示參考對(duì)象和候選對(duì)象之間存在一定等級(jí)的相似性。在另選的布置中，在步驟314處方法300可以在指紋沒(méi)有匹配時(shí)提供警告，其指示相似性的低等級(jí)。例如，如果根據(jù)如本文中討論的幾何關(guān)系確定相似性，如果候選指紋和參考指紋的給定標(biāo)記的比例在特定閾值之下，則兩個(gè)指紋可以被稱為不匹配。因此，系統(tǒng)100、200將提供在候選指紋和參考指紋之間不存在強(qiáng)的相關(guān)性的指示。

另外，本公開(kāi)包括根據(jù)以下實(shí)施例的實(shí)施方式：

實(shí)施例1.一種生成驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法，所述方法包括以下步驟：生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像；從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果，以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像；基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋；生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像；基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋；以及比較所述候選指紋和所述參考指紋，以確定相關(guān)性是否存在于所述候選指紋和所述參考指紋之間；以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告，其中所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性存在。

實(shí)施例2.根據(jù)實(shí)施例1所述的方法，其中，生成至少一個(gè)參考圖像的步驟包括生成復(fù)合層壓層片的至少一個(gè)參考圖像的步驟。

實(shí)施例3.根據(jù)實(shí)施例1或2所述的方法，其中，生成至少一個(gè)參考圖像的步驟包括生成復(fù)合層壓層片的表面的至少一個(gè)參考圖像的步驟。

實(shí)施例4.根據(jù)實(shí)施例1至3所述的方法，其中，基于所述至少一個(gè)參考圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋的步驟包括基于所述參考對(duì)象的表面生成所述參考指紋的步驟。

實(shí)施例5.根據(jù)實(shí)施例1至4所述的方法，其中，生成所述警告的步驟進(jìn)一步包括確定所述參考對(duì)象是否是與所述候選對(duì)象相同的對(duì)象的步驟。

實(shí)施例6.根據(jù)實(shí)施例1至5所述的方法，其中，生成候選指紋的步驟進(jìn)一步包括基于所述候選對(duì)象的表面生成所述候選指紋的步驟。

實(shí)施例7.根據(jù)實(shí)施例6所述的方法，其中，生成所述警告的步驟包括確定所述參考對(duì)象的表面是否與所述候選對(duì)象的所述表面相似的步驟。

實(shí)施例8.根據(jù)實(shí)施例1至7所述的方法，其中，生成至少一個(gè)參考對(duì)象圖像的步驟包括從多個(gè)角度生成所述參考對(duì)象的多個(gè)圖像的步驟。

實(shí)施例9.根據(jù)實(shí)施例1至8所述的方法，其中，所述至少一個(gè)參考圖像包括多個(gè)參考圖像，以及去除光照效果的步驟進(jìn)一步包括以下步驟：使所述多個(gè)參考圖像互相比較；生成光中性圖像；以及存儲(chǔ)所述光中性圖像作為所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像。

實(shí)施例10.根據(jù)實(shí)施例1至9所述的方法，其中，所述方法進(jìn)一步包括以下步驟：從所述至少一個(gè)候選圖像去除光照效果；創(chuàng)建經(jīng)過(guò)處理的所述至少一個(gè)候選圖像；以及基于經(jīng)過(guò)處理的所述至少一個(gè)候選圖像針對(duì)所述候選對(duì)象生成所述候選指紋。

實(shí)施例11.一種用于執(zhí)行實(shí)施例1至10的所述方法的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：至少一個(gè)探測(cè)器，其被配置為生成所述至少一個(gè)參考圖像并且生成所述至少一個(gè)候選圖像；以及信號(hào)處理器，其被配置為去除所述光照效果，生成所述參考指紋，生成所述候選指紋，比較所述候選指紋和所述參考指紋，以及生成所述警告。

實(shí)施例12.一種生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括：

至少一個(gè)探測(cè)器，其被配置為：生成所述參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像；以及生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像；以及

信號(hào)處理器，其被配置為：從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果，以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像；基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像，生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋；基于所述至少一個(gè)候選圖像，生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋；比較所述候選指紋和所述參考指紋以確定所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性；以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告，其中，所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的所述相關(guān)性存在。

實(shí)施例13.根據(jù)實(shí)施例12所述的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括第一光源，其被配置為照亮所述參考對(duì)象，其中，所述信號(hào)處理器進(jìn)一步被配置為去除通過(guò)所述第一光源導(dǎo)致的光照效果。

實(shí)施例14.根據(jù)實(shí)施例12或13所述的系統(tǒng)，所述系統(tǒng)進(jìn)一步包括第二光源，其被配置為照亮所述候選對(duì)象，其中，所述信號(hào)處理器進(jìn)一步被配置為去除通過(guò)所述第二光源導(dǎo)致的光照效果。

實(shí)施例15.根據(jù)實(shí)施例12至14所述的系統(tǒng)，其中，所述參考指紋是基于所述參考對(duì)象的表面。

實(shí)施例16.根據(jù)實(shí)施例12至15所述的系統(tǒng)，其中，所述信號(hào)處理器被配置為確定所述參考對(duì)象是否是所述候選對(duì)象。

實(shí)施例17.根據(jù)實(shí)施例12至16所述的系統(tǒng)，其中，所述候選指紋是基于所述候選對(duì)象的表面。

實(shí)施例18.根據(jù)實(shí)施例12至17所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個(gè)探測(cè)器進(jìn)一步被配置有多個(gè)透鏡，所述多個(gè)透鏡導(dǎo)致所述至少一個(gè)探測(cè)器接收從所述參考對(duì)象以多個(gè)不同角度反射的光。

實(shí)施例19.根據(jù)實(shí)施例18所述的系統(tǒng)，其中，所述多個(gè)透鏡導(dǎo)致所述至少一個(gè)探測(cè)器記錄從所述參考對(duì)象反射并且與所述多個(gè)透鏡中的每個(gè)透鏡相關(guān)的所述光的表示。

實(shí)施例20.一種方法，包括配置信號(hào)處理器以：從探測(cè)器接收輸出并且存儲(chǔ)：參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像，和候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像；從所述至少一個(gè)參考圖像去除光照效果以創(chuàng)建至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像；基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋；基于所述至少一個(gè)候選圖像，生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋；以及比較所述候選指紋和所述參考指紋以確定所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性。

實(shí)施例21.根據(jù)實(shí)施例20所述的方法，所述方法進(jìn)一步包括配置所述信號(hào)處理器以基于所述候選指紋和所述參考指紋的比較生成警告，其中，所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的所述相關(guān)性存在。

實(shí)施例22.一種生成用于驗(yàn)證參考對(duì)象的指紋的方法，所述方法包括以下步驟：生成參考對(duì)象的至少一個(gè)參考圖像；從所述至少一個(gè)參考圖像生成至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像；基于所述至少一個(gè)經(jīng)過(guò)處理的圖像生成針對(duì)所述參考對(duì)象的參考指紋；生成候選對(duì)象的至少一個(gè)候選圖像；基于所述至少一個(gè)候選圖像生成針對(duì)所述候選對(duì)象的候選指紋；比較所述候選指紋和所述參考指紋，以確定相關(guān)性是否存在于所述候選指紋和所述參考指紋之間；以及基于所述候選指紋和所述參考指紋的所述比較生成警告，其中，所述警告是指示所述候選指紋和所述參考指紋之間的相關(guān)性存在。

除非另外特別地聲明，在這個(gè)文檔中使用的術(shù)語(yǔ)和短語(yǔ)及其變型應(yīng)該解釋為與限制性相反的開(kāi)放式。作為上述的示例：術(shù)語(yǔ)“包括”應(yīng)該被理解為“包括，但不限于”等的含義；術(shù)語(yǔ)“示例”被用于提供討論中條款的示例性實(shí)例，但不是其窮盡或限制性列表；并且諸如“常規(guī)的”、“通常的”、“一般的”、“標(biāo)準(zhǔn)的”、“已知的”的形容詞以及相似含義的術(shù)語(yǔ)不應(yīng)該被解釋為限制描述的項(xiàng)到給定時(shí)間段或限制到給定時(shí)間可用的項(xiàng)，而是相反，應(yīng)該被理解為包含可以是現(xiàn)在或在未來(lái)的任何時(shí)間可用或已知的常規(guī)的、通常的、一般的或標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)。

同樣地，與連接詞“和”關(guān)聯(lián)的一組項(xiàng)不應(yīng)該被理解為要求在這些組中呈現(xiàn)這些項(xiàng)的每個(gè)或每一個(gè)，而是應(yīng)該被理解為“和/或”，除非另有明確地規(guī)定。類似地，與連接詞“或”關(guān)聯(lián)的一組項(xiàng)不應(yīng)該被理解為要求在這些組中的互斥性，而是應(yīng)該被理解為“和/或”，除非另有明確地規(guī)定。此外，盡管可以以單數(shù)形式描述或要求本公開(kāi)的項(xiàng)、元件或組件，但是復(fù)數(shù)也被考慮在其的范圍內(nèi)，除非明確地規(guī)定限制于單數(shù)。在一些實(shí)例中呈現(xiàn)的諸如“一個(gè)或更多個(gè)”、“至少”、“但不限于”等短語(yǔ)的擴(kuò)展詞語(yǔ)和短語(yǔ)不應(yīng)該被理解為在沒(méi)有出現(xiàn)這種擴(kuò)展詞語(yǔ)的實(shí)例中打算或者需要更窄情況的含義。

上述描述將元件或節(jié)點(diǎn)稱為“連接”或“耦合”在一起。如本文中使用的，除非另有明確地規(guī)定，則“連接”意味著一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征被直接地并且不必要機(jī)械地接合至另一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征(或直接與另一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征通信)。同樣地，除非另有明確地規(guī)定，“耦合”意味著一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征直接地或間接地并且不必要機(jī)械地接合至另一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征(或直接或非直接與另一個(gè)元件/節(jié)點(diǎn)/特征通信)。因此，雖然圖1和圖2描述元件的示例布置，附加的中間元件、裝置、特征、或組件的布置可以被呈現(xiàn)在本公開(kāi)的實(shí)施方式中。

在這個(gè)文檔中，通?？梢允褂眯g(shù)語(yǔ)“計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品”、“計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)”、“計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)”等以指代諸如例如存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)裝置、或存儲(chǔ)單元的介質(zhì)。這些和其它形式的計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)可以參與存儲(chǔ)用于通過(guò)處理器模塊110使用的一個(gè)或更多個(gè)指令以導(dǎo)致處理器模塊110執(zhí)行規(guī)定的操作。這種指令，通常被稱作為“計(jì)算機(jī)程序代碼”或“程序指令”(其可以以計(jì)算機(jī)程序或其它組群的形式被分組)，當(dāng)被執(zhí)行時(shí)，使系統(tǒng)100和系統(tǒng)200能夠執(zhí)行本文中描述的各種功能。

作為本文中使用，除非另有明確地聲明，“可操作”意味著能夠被使用，適合或容易用于使用或服務(wù)，針對(duì)特定目的是可使用的、以及能夠執(zhí)行本文中描述的所敘述的或所需的功能。關(guān)于系統(tǒng)和裝置，術(shù)語(yǔ)“可操作”意味著系統(tǒng)和/或裝置完全是功能性的和校準(zhǔn)的，該系統(tǒng)和/或裝置包括針對(duì)可適用操作性需求的元件，以及該系統(tǒng)和/裝置滿足可適用操作性需求，以在激活時(shí)執(zhí)行所敘述的功能。關(guān)于系統(tǒng)和電路，術(shù)語(yǔ)“可操作”意味著系統(tǒng)和/或電路完全是功能性的和校準(zhǔn)性的，該系統(tǒng)和/電路包括針對(duì)可適用操作性需求的邏輯，以及該系統(tǒng)和裝置滿足可適用操作性需求，以在激活時(shí)執(zhí)行所敘述的功能。

出于例示和描述的目的已經(jīng)呈現(xiàn)不同有利布置的描述，并且不旨在以公開(kāi)的形式詳盡或限制該示例。許多修改和變形將對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見(jiàn)。另外，不同有利示例可以提供與其它有利示例相比不同的優(yōu)勢(shì)。挑選和描述選擇的一個(gè)示例或更多個(gè)示例以便更好解釋該示例的原理，實(shí)際應(yīng)用，以及使本領(lǐng)域其它技術(shù)人員能夠理解各種示例的公開(kāi)，其中各種示例具有適合于預(yù)期的特定用途的各種修改。