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      光電調(diào)變堆疊的制作方法

      文檔序號(hào):9564341閱讀:465來(lái)源:國(guó)知局
      光電調(diào)變堆疊的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及一種調(diào)變堆疊,特別涉及一種光電調(diào)變堆疊。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 近年來(lái),觸控技術(shù)已經(jīng)逐漸廣泛應(yīng)用于一般的消費(fèi)性電子商品上,例如行動(dòng)通訊裝置、數(shù)字相機(jī)、數(shù)字音樂(lè)播放器(MP3)、個(gè)人數(shù)字助理器(PDA)、衛(wèi)星導(dǎo)航器(GPS)、掌上型計(jì)算機(jī)(hand-held PC),甚至薪新的超級(jí)行動(dòng)計(jì)算機(jī)(Ultra Mobile PC, UMPC)等。然而,現(xiàn)有的觸控感測(cè)結(jié)構(gòu)遇到良率下降的問(wèn)題。
      [0003]以一種習(xí)知的觸控感測(cè)堆疊來(lái)說(shuō),其包含基板及多個(gè)觸控感測(cè)組件,觸控感測(cè)組件設(shè)置于基板上用以感測(cè)使用者的觸控而產(chǎn)生電信號(hào),電信號(hào)經(jīng)過(guò)處理后即可得到使用者的觸控坐標(biāo)。然而,由于觸控感測(cè)組件之間僅隔10 μ m?30 μ m之間的間隙,因此當(dāng)工藝中有粒子掉落、刮傷產(chǎn)生或是彎折觸控感測(cè)組件時(shí),左右或上下相鄰的觸控感測(cè)組件很容易形成短路,而造成觸控功能失效以及良率下降。
      [0004]另外,在一揭露技術(shù)中(美國(guó)專利號(hào)US20040063041A),基板上還設(shè)置抗眩聚亞酰胺涂層,以對(duì)外界入射光提供抗眩(ant1-glare)效果。而如何將此抗眩功能應(yīng)用至觸控感測(cè)顯示器也是重要課題。此外,對(duì)發(fā)光裝置或顯示裝置而言,出光具有良好的特性也是相當(dāng)重要的。
      [0005]因此,如何提供一種光電調(diào)變堆疊,能夠解決上述短路的問(wèn)題,并提升觸控效能、產(chǎn)品良率、出光特性與產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力,實(shí)為當(dāng)前重要課題之一。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0006] 有鑒于上述課題,本發(fā)明的目的在于提供一種光電調(diào)變堆疊,能夠解決工藝中造成短路的問(wèn)題,并提升觸控效能、產(chǎn)品良率、出光特性與產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力。
      [0007]為達(dá)上述目的,本發(fā)明的一種光電調(diào)變堆疊包括基板、多個(gè)觸控感測(cè)單元、至少第一抗擾斑塊以及納米結(jié)構(gòu)層。觸控感測(cè)單元共平面地設(shè)置于基板上,相鄰的觸控感測(cè)單元之間形成第一間隙區(qū)。第一抗擾斑塊設(shè)置于第一間隙區(qū)內(nèi),第一抗擾斑塊的寬度遠(yuǎn)小于基板或觸控感測(cè)單元的寬度。納米結(jié)構(gòu)層設(shè)置于第一抗擾斑塊下,并具有多個(gè)納米結(jié)構(gòu)。當(dāng)光線通過(guò)這些納米結(jié)構(gòu)及第一抗擾斑塊時(shí),光線的光學(xué)特性改變。
      [0008] 在一個(gè)實(shí)施例中,第一抗擾斑塊呈彎折樣式。
      [0009] 在一個(gè)實(shí)施例中,光電調(diào)變堆疊更包括接地單元以及至少第二抗擾斑塊。接地單元與所述多個(gè)觸控感測(cè)單元共平面,且與相鄰的觸控感測(cè)單元之間形成第二間隙區(qū)。第二抗擾斑塊設(shè)置于第二間隙區(qū)內(nèi),第二抗擾斑塊的寬度遠(yuǎn)小于基板或觸控感測(cè)單元的寬度,納米結(jié)構(gòu)層更設(shè)置于第二抗擾斑塊下。
      [0010] 在一個(gè)實(shí)施例中,通過(guò)該第一抗擾斑塊設(shè)置于相鄰觸控感測(cè)單元所形成的第一間隙區(qū)之間,使相鄰觸控感測(cè)單元的間距加大、不會(huì)受到后續(xù)工藝的粒子污染而形成短路,從而提供電性抗擾的效用。
      [0011]在一個(gè)實(shí)施例中,所述后續(xù)工藝至少包括機(jī)械薄化工藝、化學(xué)薄化工藝、機(jī)械化學(xué)薄化工藝、黃光工藝、薄膜沉積工藝、和/或薄膜蝕刻工藝。
      [0012]在一個(gè)實(shí)施例中,光電調(diào)變堆疊更包含絕緣層,其具有抗眩(ant1-glare)性質(zhì)。
      [0013]在一個(gè)實(shí)施例中,基板為軟性基板或剛性基板。
      [0014]在一個(gè)實(shí)施例中,納米結(jié)構(gòu)包含納米銅或納米銀。
      [0015]在一個(gè)實(shí)施例中,納米結(jié)構(gòu)層更包括基質(zhì),這些納米結(jié)構(gòu)設(shè)置于基
      [0016]質(zhì)內(nèi)。
      [0017]在一個(gè)實(shí)施例中,基質(zhì)與這些納米結(jié)構(gòu)的折射率不同。
      [0018]承上所述,在本發(fā)明的光電調(diào)變堆疊中,將第一抗擾斑塊設(shè)置于相鄰觸控感測(cè)單元所形成的第一間隙區(qū)內(nèi),以致觸控感測(cè)單元的間距加大,例如從原本的10 μ m與30 μ m之間變?yōu)?0 μ m與130 μ m之間。如此,即使有粒子掉落或刮傷產(chǎn)生時(shí),相鄰的觸控感測(cè)單元也不會(huì)形成短路,第一抗擾斑塊提供電性抗擾的效用,進(jìn)而避免觸控失效而能提升產(chǎn)品良率與可彎折性。
      [〇〇19]此外,原本觸控感測(cè)單元的間距加大可能會(huì)讓人眼辨識(shí)其存在,但通過(guò)彎折圖樣的第一抗擾斑塊設(shè)置于相鄰觸控感測(cè)單元之間,而能使觸控感測(cè)單元隱形化,使得人眼不易發(fā)現(xiàn),故能提供光學(xué)抗擾的效用并提升顯示效能。并且第一抗擾斑塊結(jié)合基板的曲面邊緣更能夠提供光學(xué)抗擾的效用,而能提升立體顯示效能。
      [0020]另外,納米結(jié)構(gòu)層的設(shè)置,使得顯示模塊發(fā)出的光線通過(guò)納米結(jié)構(gòu)層與抗擾斑塊,而能改善光線的光學(xué)特性,例如消除光學(xué)色差(mura)、光學(xué)干涉(moire)及霧度、并可加大可視角度(viewing angle),提供光學(xué)抗擾的效用,也能避免工藝微粒造成短路從而提供電性抗擾。
      [0021]此外,本發(fā)明的絕緣層具有抗眩性質(zhì),使能夠吸收、過(guò)濾外界入射光,降低外界入射光與金屬網(wǎng)柵產(chǎn)生的反射、干涉效果,而能增加顯示面板的亮度對(duì)比,并且能對(duì)外界入射光具抗眩效果。
      [0022]此夕卜,通過(guò)使用納米材料,本發(fā)明具有低線接面電阻(wire junct1nresistance)、平滑表面、優(yōu)良機(jī)械結(jié)合性與可撓性,同時(shí)維持高穿透性與低片電阻值(sheet resistance)。此外,添加納米導(dǎo)電粒子也有助于光學(xué)稱合效率提升并增加光學(xué)散射度,使得面板顯示視角擴(kuò)大,顯示效率提升。
      【附圖說(shuō)明】
      [0023]圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光電調(diào)變堆疊的剖面示意圖。
      [0024]圖2至圖10為本發(fā)明不同實(shí)施例的光電調(diào)變堆疊的示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0025]以下將參照相關(guān)附圖,說(shuō)明根據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的一種光電調(diào)變堆疊,其中相同的組件將以相同的參照符號(hào)加以說(shuō)明。
      [0026]圖1為本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的光電調(diào)變堆疊1的剖面示意圖。如圖1所示,光電調(diào)變堆疊1包含基板11、多個(gè)觸控感測(cè)單元12、至少第一抗擾斑塊13以及納米結(jié)構(gòu)層14。
      [0027]基板11可為透光基板或非透光基板。其中透光基板例如是玻璃基板、塑料基板或其它材質(zhì)的基板,在此以玻璃基板為例。基板11可為剛性基板或軟性基板,當(dāng)為軟性基板時(shí),其可應(yīng)用于可撓性顯示器。在應(yīng)用上,基板11可為透光蓋板(cover glass)以減少應(yīng)用的顯示面板的厚度,在透光蓋板邊緣可為曲面,以提升立體顯示的效果。
      [0028]觸控感測(cè)單元12共平面地設(shè)置于基板11上,在此以設(shè)置在基板11的一表面111上而形成共平面設(shè)置。相鄰的觸控感測(cè)單元12之間形成第一間隙區(qū)121。觸控感測(cè)單元12可由透光導(dǎo)電材質(zhì)制成,例如由氧化銦錫(Indium tin oxide, ΙΤ0)或其它金屬氧化物制成。圖1所示的兩個(gè)觸控感測(cè)單元12以相互絕緣為例。
      [0029]第一抗擾斑塊13設(shè)置于第一間隙區(qū)121內(nèi),且第一抗擾斑塊13的寬度遠(yuǎn)小于基板11或觸控感測(cè)單元12的寬度(圖中尺寸僅為示意不代表真實(shí)尺寸),例如第一抗擾斑塊13的寬度小于基板11或觸控感測(cè)單元12的寬度的五分之一。在實(shí)施上,為減少工藝步驟,可令第一抗擾斑塊13與觸控感測(cè)單元12在同一工藝中制造而成,且二者具有相同的材質(zhì)。然而,本發(fā)明不以此為限。在此,第一抗擾斑塊13由導(dǎo)電材質(zhì)制成,且其電性浮接,且第一抗擾斑塊13與相鄰的觸控感測(cè)單元12之間間隔一距離。通過(guò)將第一抗擾斑塊13設(shè)置于第一間隙區(qū)121內(nèi),可使觸控感測(cè)單元12的間距(第一間隙區(qū)121)加大,如此一來(lái),即使有粒子P掉落或刮傷產(chǎn)生時(shí),相鄰的觸控感測(cè)單元12也不會(huì)形成短路,因而避免觸控失效并能提升產(chǎn)品良率。粒子P例如來(lái)自后續(xù)工藝,后續(xù)工藝可至少包括機(jī)械薄化工藝、化學(xué)薄化工藝、機(jī)械化學(xué)薄化工藝、黃光工藝、薄膜沉積工藝、和/或薄膜蝕刻工藝。通過(guò)第一抗擾斑塊13設(shè)置于相鄰觸控感測(cè)單元12所形成的第一間隙區(qū)121之間,可使相鄰觸控感測(cè)單元的間距加大、不會(huì)受到后續(xù)工藝的粒子污染或彎曲使用而造成短路,從而提供電性抗擾的效用。
      [0030]此外,原本觸控感測(cè)單元12的間距加大可能會(huì)讓人眼辨識(shí)其存在,但通過(guò)第一抗擾斑塊13設(shè)置于相鄰觸控感測(cè)單元12之間,使得人眼不易發(fā)現(xiàn),因而能維持顯示效能。舉例來(lái)說(shuō),第一抗擾斑塊13的寬度介于50μπι與70μπι之間,第一間隙區(qū)121的寬度介于70μπι與130μπι之間。在一個(gè)實(shí)施例中,第一抗擾斑塊13的材質(zhì)可包含金屬氧化物。另夕卜,第一抗擾斑塊的圖樣13可為塊狀斑塊或包含至少?gòu)澱蹱畎邏K。第一抗擾斑塊13可呈彎折圖樣。
      [0031]納米結(jié)構(gòu)層14設(shè)置于第一抗擾斑塊13下,并具有多個(gè)納米結(jié)構(gòu)141。納米結(jié)構(gòu)層14可與第一抗擾斑塊13直接連接或間接連接。并且,納米結(jié)構(gòu)層14可為圖案化或不具圖案,當(dāng)納米結(jié)構(gòu)層14為圖案化時(shí),其圖案可與第一抗擾斑塊13的圖案相同,當(dāng)納米結(jié)構(gòu)層14為非圖案化時(shí),其可為連續(xù)不間斷的平坦層。另外,納米結(jié)構(gòu)層14可與第一抗擾斑塊13設(shè)置于基板11的同一側(cè)或不同側(cè)。于此,納米結(jié)構(gòu)層14為圖案化,且其圖案與第一抗擾斑塊13的圖案相同,即二者完全重疊,并且,納米結(jié)構(gòu)層14與第一抗擾斑塊13設(shè)置于基板11的同一側(cè)。當(dāng)光線通過(guò)這些納米結(jié)構(gòu)141及第一抗擾斑塊13時(shí),光線的光學(xué)特性改變,例如消除光學(xué)色差(mura)、光學(xué)干涉(moire)及霧度、并可加大可視角度(viewing angle),提供光學(xué)抗擾的效用。并且納米結(jié)構(gòu)層14的設(shè)置也能避免工藝微粒造成短路從而提供電性抗擾。
      [0032]納米結(jié)構(gòu)141例如為納米粒子或納米線,其材質(zhì)可為納米銀(Silvernanowires)、納米鎂銀合金或納米銅。納米粒子例如為納米導(dǎo)電粒子,其材質(zhì)包括氧化銦錫(ΙΤ0)、氧化銦鎵鋅(IGZ0)、摻鋅氧化銦(ΙΖ0)、ΑΖ0(摻鋁的ZNO)、GZ0(摻鎵的ΖΝ0)、碳納米管(CNT)、或石墨烯。另外,納米結(jié)構(gòu)層14、第一抗擾斑塊13及/或觸控感測(cè)單元12可由納米導(dǎo)電粒子添加在納米金屬線(metal nanowires)的復(fù)合材料所構(gòu)成。納米結(jié)構(gòu)層14例如通過(guò)印刷(printing)、噴墨印刷(inkjet printing)、網(wǎng)版印刷(screen printing)、涂布(coating)、雷射或微影工藝而形成。
      [0033]納米結(jié)構(gòu)層14可更包括基質(zhì)142,這些納米結(jié)構(gòu)141設(shè)置于基質(zhì)142內(nèi)?;|(zhì)142與納米結(jié)構(gòu)141的折射率可不同,藉以達(dá)到某種光學(xué)目的,例如使光擴(kuò)散。
      [0034]另外,以下是納米銀線的制造方法的實(shí)施例。首先,納米銀線溶液(SeashellTechnology,AgNW-115)是以1000r/min的速度在PET基板上旋轉(zhuǎn)60秒以形成不規(guī)則散布的納米銀線網(wǎng)絡(luò),并
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