專利名稱：盤驅(qū)動(dòng)裝置及信息記錄再生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)光盤等盤狀信息記錄媒體，特別是一種關(guān)于保持盤狀信息記錄媒體的技術(shù)。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，光盤、磁盤等具有可移動(dòng)性的盤狀信號(hào)記錄媒體被廣泛地普及，其記錄密度逐漸向高密度化發(fā)展，例如直徑12cm的光盤就有640MByte的小型盤CD、4.7～9.4GByte的DVD以及25～50GByte的藍(lán)光盤(blu-raydisc)。
光盤裝置，將從光撿出(optical pick-up)射出的激光照射在光盤的記錄面上，通過(guò)檢測(cè)其反射光來(lái)讀取信息。另外，光盤裝置通過(guò)使光盤記錄面的記錄膜的狀態(tài)發(fā)生變化來(lái)記錄數(shù)據(jù)。此時(shí)，如果激光與光盤記錄面發(fā)生相對(duì)傾斜的話，就會(huì)產(chǎn)生被稱為慧形像差(coma aberration)的像差，而對(duì)信號(hào)的再生及記錄產(chǎn)生影響。
為修正光盤記錄面與光撿出之間的傾斜(以下稱為傾斜(tilt))，已有各種各樣的傾斜修正機(jī)構(gòu)被提議。
例如提議有，在光撿出上搭載用于檢測(cè)盤的傾斜的傾斜傳感器，并使光撿出傾斜以修正此傾斜傳感器檢測(cè)出的傾斜，或者使物鏡傾斜的方式。
還提議有如專利文獻(xiàn)1(日本專利公開公報(bào)平8-167272)中公開的，矯正盤本身的傾斜的光盤保持方法。此結(jié)構(gòu)是將在轉(zhuǎn)盤上保持盤的夾具(clamper)增大到與盤相同的大小，以此矯正盤的反翹(warp)。
以往的光盤裝置的盤保持方法如圖10所示。另外圖11示意了專利文獻(xiàn)1中記載的光盤裝置的盤保持方法。
如圖10所示，在一般的光盤裝置中，光盤101被載放在轉(zhuǎn)盤102上時(shí)，由夾具103夾持并被保持在轉(zhuǎn)盤102上。夾具103和轉(zhuǎn)盤102在半徑方向上大致相同的位置夾持住光盤101，且兩者夾持部分的寬度大致相同。這種光盤裝置，由于超出轉(zhuǎn)盤102的外圍的光盤101會(huì)因?yàn)樽灾囟l(fā)生下垂變形，所以通過(guò)在圖中未表示的光撿出側(cè)調(diào)整物鏡的傾角等，可使光學(xué)特性不受損害。
另外，在圖11所示的專利文獻(xiàn)1記載的盤裝置中，使盤101貼緊轉(zhuǎn)盤102的夾具104的大小幾乎涉及到整個(gè)光盤表面，此夾具104，通過(guò)從上方推壓盤101來(lái)減小反翹，起到穩(wěn)定器的作用。
然而，以往的根據(jù)傾斜傳感器的檢測(cè)結(jié)果來(lái)使物鏡傾斜的方式，由于需要另外的用于使傾斜傳感器或光撿出傾斜的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所以不僅有使結(jié)構(gòu)復(fù)雜化的問(wèn)題，還有很難降低成本的問(wèn)題。而且，由于需要額外的與物鏡角度調(diào)整量相應(yīng)的電力，所以還存在消費(fèi)電力增大的問(wèn)題。另外，隨著角度調(diào)整量的增大，設(shè)計(jì)時(shí)就需要留出相應(yīng)的空間余地，從而還引起妨礙裝置小型化的問(wèn)題。
另外，在專利文獻(xiàn)1記載的以往的結(jié)構(gòu)，由于作為夾具來(lái)使用的穩(wěn)定器104的形狀較大，因此使裝置很難小型化。而且，由于穩(wěn)定器104與盤101成為一體而旋轉(zhuǎn)因此質(zhì)量變大，這樣就需要轉(zhuǎn)矩較大的馬達(dá)，因而成為增加成本的主要原因。
另外，雖然盤101由轉(zhuǎn)盤102來(lái)保持，但是盤101超出轉(zhuǎn)盤102的外側(cè)會(huì)因?yàn)楸P101的自重而產(chǎn)生向下的力矩，這也是盤傾斜的主要原因之一，而且即使設(shè)置所述的夾具104也無(wú)法解決此光盤傾斜的問(wèn)題。
另外，光盤裝置中保持盤的區(qū)域，即夾持區(qū)域，例如CD或DVD被規(guī)定為直徑22mm～32mm(半徑11mm～16mm)。然而，在實(shí)際的光盤裝置結(jié)構(gòu)中，為確保光撿出的物鏡可以可靠地訪問(wèn)盤最內(nèi)周區(qū)域，經(jīng)常會(huì)將盤馬達(dá)的轉(zhuǎn)盤只設(shè)置在其內(nèi)周側(cè)而不是夾持區(qū)域的全域，以使光撿出的物鏡驅(qū)動(dòng)單元可以向內(nèi)周側(cè)進(jìn)一步移動(dòng)。然而，評(píng)價(jià)盤傾斜的盤傾斜測(cè)定器，則以由規(guī)格所決定的夾持區(qū)域來(lái)保持盤。這樣，就會(huì)有由盤傾斜測(cè)定器測(cè)定出的盤傾斜與光盤裝置所產(chǎn)生的盤傾斜，數(shù)值不一致的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為解決上述問(wèn)題，其目的在于提供一種可以簡(jiǎn)潔的構(gòu)造抑制由盤自重引起的盤傾斜的盤驅(qū)動(dòng)裝置及信息記錄再生裝置。
為達(dá)到所述目的，本發(fā)明提供一種驅(qū)動(dòng)盤的盤驅(qū)動(dòng)裝置，具有，與所述盤接觸并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；推壓所述盤的與所述盤搭載單元相反的面，并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述推壓部與所述盤搭載單元被設(shè)成，可以在抵消由于所述盤的自重而在盤上產(chǎn)生的力矩的方向上產(chǎn)生力矩的位置關(guān)系。
根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由于推壓部和盤搭載單元，在抵消因自重而產(chǎn)生的力矩的方向上產(chǎn)生力矩，所以可以減小盤傾斜。
另外，本發(fā)明還提供一種驅(qū)動(dòng)盤的盤驅(qū)動(dòng)裝置，具有，與所述盤的下面接觸并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；設(shè)置在所述盤搭載單元的上方，推壓所述盤的上面并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述推壓部被設(shè)置在相對(duì)所述盤搭載單元更靠近內(nèi)側(cè)的位置上。
根據(jù)此結(jié)構(gòu)，通過(guò)推壓部可以抑制盤的傾斜。
另外，本發(fā)明還提供一種驅(qū)動(dòng)盤的盤驅(qū)動(dòng)裝置，具有，與所述盤的上面接觸并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；設(shè)置在所述盤搭載單元的下方，推壓所述盤的下面并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述盤搭載單元被設(shè)置在相對(duì)所述推壓部靠近中心的位置上。
根據(jù)此結(jié)構(gòu)，通過(guò)盤搭載單元可以抑制盤傾斜。
而且，本發(fā)明所提供的盤驅(qū)動(dòng)裝置還可以包括碰接單元，其中，所述盤設(shè)有中心孔，所述碰接單元與所述盤中心孔的周邊部碰接并與此盤一起旋轉(zhuǎn)，并可從相對(duì)所述盤與所述盤搭載單元相同的一側(cè)，碰接所述盤。
根據(jù)此結(jié)構(gòu)，由盤自重而產(chǎn)生的力矩與受到的來(lái)自碰接單元的力而產(chǎn)生的力矩即使在同一方向上，這些力矩也會(huì)因?yàn)橥茐翰考氨P搭載單元而減小，從而得以抑制盤傾斜。
而且，這種狀態(tài)下，所述碰接單元最好具有可以與所述盤的中心孔的周邊部碰接且與所述盤的旋轉(zhuǎn)軸呈同心狀的斜面，而所述斜面可以通過(guò)與所述盤的中心孔周邊部的碰接，使所述盤的芯對(duì)準(zhǔn)。
而且，所述推壓部還可以在圓周方向上形成有以一定間隔排列的多個(gè)突起，而此時(shí)，所述推壓部最好是在半徑方向剖面上呈點(diǎn)接觸狀態(tài)。
另外，本發(fā)明還提供一種信息記錄再生裝置，具有所述盤驅(qū)動(dòng)裝置和光學(xué)頭，其中，用所述盤驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)盤，并且通過(guò)所述光學(xué)頭照射所述盤，以記錄或再生信息。
如上所述，本發(fā)明所提供的盤驅(qū)動(dòng)裝置可以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)減小由于盤自重而產(chǎn)生的傾斜。


圖1是示意應(yīng)用了本發(fā)明實(shí)施例1所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置的光盤裝置的主要部分的斜視圖。
圖2是所述盤驅(qū)動(dòng)裝置的剖面圖。
圖3(a)是示意作用在由本實(shí)施例1所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置保持的盤上的力矩的說(shuō)明圖。圖3(b)是示意作用在由以往的盤驅(qū)動(dòng)裝置保持的盤上的力矩的說(shuō)明圖。圖3(c)是示意作用在由盤傾斜測(cè)定器保持的盤上的力矩的說(shuō)明圖。
圖4是示意夾持力與盤傾斜關(guān)系的特性圖。
圖5是示意力矩比與盤傾斜的關(guān)系的特性圖。
圖6是推壓部件的斜視圖。
圖7是將推壓部件擴(kuò)大表示的剖面圖。
圖8是本發(fā)明實(shí)施例2所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置的剖面圖。
圖9是本發(fā)明實(shí)施例3所涉及的信息記錄再生裝置的概略方框圖。
圖10是以往的盤驅(qū)動(dòng)裝置的概略剖面圖。
圖11是專利文獻(xiàn)1記載的盤驅(qū)動(dòng)裝置的概略剖面圖。
具體實(shí)施例方式
以下，就本發(fā)明的實(shí)施方式參照附圖進(jìn)行說(shuō)明。
實(shí)施例1圖1及圖2示意了本發(fā)明所提供的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的一實(shí)施例。圖1是含有盤驅(qū)動(dòng)裝置30的光盤裝置的主要部分的分解斜視圖，而圖2是示意將盤1保持在轉(zhuǎn)盤5上的狀態(tài)時(shí)的剖面圖。
盤1，設(shè)有中心孔1a呈圓板狀，且設(shè)有用于記錄信息的信息記錄單元或記錄了信息的信息記錄單元。光學(xué)頭2，讀取盤1的記錄在信息記錄單元中的信息，或?qū)⑿畔⒂涗浽诒P1中。光學(xué)頭2由底盤3保持，并可沿盤1的信息記錄面在半徑方向上移動(dòng)。底盤3上固定有使盤1旋轉(zhuǎn)的盤馬達(dá)4。
盤馬達(dá)4由以下部件連為一體地構(gòu)成，與盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)體4a連為一體旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)盤5；設(shè)置在轉(zhuǎn)盤5的上方的磁鐵6；設(shè)置在轉(zhuǎn)盤5的中央部的調(diào)芯環(huán)7及中心軸4b。
調(diào)芯環(huán)7，使盤1的中心與盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)中心一致。也就是說(shuō)，調(diào)芯環(huán)7起到使盤1的芯對(duì)準(zhǔn)的作用。
轉(zhuǎn)盤5設(shè)置在盤1的下方。轉(zhuǎn)盤5具有固定在盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)體4a上的盤面本體單元5b和設(shè)在在此盤面本體外圍部的盤搭載單元5a。盤搭載單元5a相對(duì)于盤面本體單元5b向上方突出，盤搭載單元5a的上端部與盤1的下面接觸。換而言之，盤1的下面受到來(lái)自盤搭載單元5a的推壓力。盤搭載單元5a由樹脂或橡膠等摩擦系數(shù)較大的材料構(gòu)成，以防止馬達(dá)旋轉(zhuǎn)時(shí)盤1滑動(dòng)。
調(diào)芯環(huán)7包括一具有直徑向上逐漸減小的斜面7a的外端部。此斜面7a與盤馬達(dá)4的中心軸4b呈同心狀，且被設(shè)置成可與盤1的中心孔1a碰接的狀態(tài)。當(dāng)?shù)妆P3執(zhí)行上升動(dòng)作，盤1被搭載在轉(zhuǎn)盤5上時(shí)，斜面7a就與盤1的中心孔1a的周邊部碰接，且將盤1的中心引至與盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)中心一致的位置上。調(diào)芯環(huán)7是包含在本發(fā)明的碰接單元(contact portion)的概念中的，可與盤1下面的內(nèi)端部(中心孔1a的周邊部)碰接。
調(diào)芯環(huán)7，由安裝在盤馬達(dá)4的中心軸4b外側(cè)的螺旋彈簧20保持，可在盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)軸方向上移動(dòng)。螺旋彈簧20將調(diào)芯環(huán)7向上方壓靠。也就是說(shuō)，盤1在內(nèi)端部介于調(diào)芯環(huán)7受到向上的推壓力。雖然由此調(diào)芯環(huán)7構(gòu)成的調(diào)芯機(jī)構(gòu)，使用的是平板沖壓加工件或樹脂成型件等相對(duì)來(lái)說(shuō)成本較低的零件，卻實(shí)現(xiàn)了一種可靠、準(zhǔn)確的盤1的中心環(huán)的功能(center ring)。
在轉(zhuǎn)盤5的上方設(shè)置有夾具8。夾具8包括推壓盤1的推壓部件9、磁性體10及保持磁性體10和推壓部件9的保持部(holder)11。推壓部件9和保持部11由上蓋部件12保持。具體的說(shuō)就是，上蓋部件12設(shè)有貫穿孔，使推壓部件9和支持部11在與貫穿孔周圍保持一定間隙的狀態(tài)下被夾住，這樣推壓部件9和保持部11就與上蓋部件12結(jié)合在一起了。
磁性體10，在被推壓部件9與支持部11夾住的狀態(tài)下被保持。磁性體10設(shè)置在盤馬達(dá)4上設(shè)置的磁鐵6的上方，并被此磁鐵6吸引。通過(guò)此磁性引力，推壓部件9將盤1向下推壓。此時(shí)，盤1就被推壓部件9和轉(zhuǎn)盤5夾住。推壓部件9與轉(zhuǎn)盤5的直徑大致相同。
在推壓部件9的下面，設(shè)有呈向下方突起狀的推壓部9a。此推壓部9a被設(shè)置在推壓部件9半徑方向的中間部分，此推壓部9a的下端部與盤1接觸。換而言之，盤1的相對(duì)于盤搭載單元5a而靠近中心的部分的上面，受到來(lái)自推壓部9a的向下的推壓力。
接著對(duì)盤1被搭載在轉(zhuǎn)盤5上并由夾具8保持的動(dòng)作進(jìn)行說(shuō)明。
盤1被搭載在托盤13上，并由圖中未表示的盤裝載機(jī)構(gòu)(disc loading)搬運(yùn)到盤裝置內(nèi)部。之后，為避免與托盤13的干涉，通過(guò)圖中未表示的升降馬達(dá)或凸輪(cam)等升降機(jī)構(gòu)使已退讓到下方的底盤3上升。此時(shí)，固定在底盤3上的盤馬達(dá)4也上升。這樣，所述調(diào)芯環(huán)7就與圓盤1的中心孔1a的周邊部接觸，并且一邊將盤1引到其中心與盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)軸一致的位置上，一邊將盤1從托盤13上托起。
在底盤3的上升動(dòng)作停止的前一刻，由上蓋部件12保持的夾具8會(huì)與盤1接觸，將夾具8托舉至不與上蓋部件12接觸的位置。這時(shí)，設(shè)置在盤馬達(dá)4中央部分的磁鐵6就與夾具8的磁性體10接近而產(chǎn)生磁性引力。此磁性引力被設(shè)定成遠(yuǎn)大于通過(guò)調(diào)芯環(huán)7的螺旋彈簧20獲取的壓靠力。所以盤1在將調(diào)芯環(huán)7向下推壓的同時(shí)進(jìn)行芯對(duì)準(zhǔn)，而且盤1被向下推壓直至與轉(zhuǎn)盤5確切可靠地接觸，并且在與轉(zhuǎn)盤5接觸的狀態(tài)下被固定。
當(dāng)解除對(duì)盤1的保持時(shí)，對(duì)底盤3進(jìn)行下降操作。這樣磁鐵6就退讓到下方，與夾具8之間的磁性引力就被解除。此時(shí)的狀態(tài)為，盤1被搭載在托盤3上，且夾具8由上蓋部件12保持并在上方等待。
然而，產(chǎn)生將盤1推壓至轉(zhuǎn)盤5上并保持推壓力的結(jié)構(gòu)，并不局限于此。例如還可以是通過(guò)在盤馬達(dá)4處設(shè)置磁性體，并在夾具8一側(cè)設(shè)置磁鐵來(lái)產(chǎn)生引力的結(jié)構(gòu)。另外，也不局限于磁鐵與磁性體之間產(chǎn)生的磁性引力，還可以是使用彈簧部件獲取其壓靠力的結(jié)構(gòu)。
接著，當(dāng)盤1由夾具8保持在轉(zhuǎn)盤5上的狀態(tài)時(shí)，參照?qǐng)D3(a)～圖3(c)，對(duì)作用在盤1上的負(fù)荷及力矩，與以往的結(jié)構(gòu)進(jìn)行比較。圖3(a)～圖3(c)均為大概地示意了沿盤1半徑切開的剖面圖。
圖3(a)是本實(shí)施方式的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的沿半徑方向的剖面圖。在此盤裝置30中，盤1由轉(zhuǎn)盤5的盤搭載單元5a保持。此盤搭載單元5a的支持點(diǎn)在圖中表示為Pt。除了此支持點(diǎn)Pt的支承力以外，作用在盤1上的還有來(lái)自?shī)A具8的推壓力(以后稱為夾持力Clamp Force)Fc，來(lái)自調(diào)芯環(huán)7的壓靠力Fr及盤1的自重Fg。為簡(jiǎn)單起見，在此只考慮在圓周方向上具有單位寬的部位。盤1的自重Fg實(shí)際上是分布負(fù)荷，但是在此將其當(dāng)作作用在所述部位半徑方向的重心位置上的集中負(fù)荷。并且為使說(shuō)明簡(jiǎn)潔化，假設(shè)圖3(a)～圖3(c)中所示的各負(fù)荷全部都作用在所述部位上。嚴(yán)密地說(shuō)，由于所述部位在圓周方向上是連續(xù)分布的，所以與現(xiàn)實(shí)中只在某一截面上發(fā)生的負(fù)荷或力矩是有所不同的。
下面，對(duì)圖3(a)中支持點(diǎn)Pt周圍的力矩進(jìn)行計(jì)算。
盤1的自重，由于是作為集中負(fù)荷Fg作用在相對(duì)盤搭載單元5a的支持點(diǎn)Pt向外相距Lg距離的位置上的，所以由盤1自重產(chǎn)生的力矩Mg作用在正方向(圖3(a)的順時(shí)針?lè)较?上，其數(shù)值可表示為，Mg＝Lg×Fg (1)。也就是說(shuō)，在只是將盤1載設(shè)在轉(zhuǎn)盤5上的狀態(tài)下，盤1因?yàn)樽灾?，其超出盤搭載單元5a的外側(cè)部會(huì)向下垂方向傾斜。
調(diào)芯環(huán)7的壓靠力Fr，由于是作用在與支持點(diǎn)Pt相距Lr距離的位置上的，所以由壓靠力Fr產(chǎn)生的力矩Mr作用在正方向上，其數(shù)值可表示為，Mr＝Lr×Fr (2)夾持力Fc，由于是作用在與支持點(diǎn)Pt相距Lc距離的位置上的，所以由夾持力Fc產(chǎn)生的力矩Mc作用在負(fù)方向(圖3(a)的逆時(shí)針?lè)较?上，其數(shù)值可表示為，Mc＝Lc×Fc (3)。不過(guò)如前所述，為確保將盤1保持在轉(zhuǎn)盤5上，夾持力Fc被設(shè)定成遠(yuǎn)大于調(diào)芯環(huán)7的壓靠力Fr。
由此，若將支持點(diǎn)Pt周圍的力矩定義為Md1的話，那么力矩Md1就可以表示為，Md1＝Mg+Mr-Mc (4)。即，力矩Md1為Mg、Mr、Mc的代數(shù)和，作用在盤1上。此力矩Md1使盤1以支持點(diǎn)Pt為中心旋轉(zhuǎn)，或者使盤1產(chǎn)生變形。也就是說(shuō)，力矩Md1越小，對(duì)盤1的狀態(tài)或變形所產(chǎn)生的影響就越小，就可以抑制盤傾斜的發(fā)生。然而在現(xiàn)實(shí)中，由于盤1在其圓周方向上是連續(xù)的，且力矩Md1被圓周方向的成份分解，所以在經(jīng)過(guò)某種旋轉(zhuǎn)或變形之后的平衡狀態(tài)下盤才變得穩(wěn)定。
如前所述，盤1，因?yàn)榱豈g和力矩Mr，而受到以支持點(diǎn)Pt為中心的正方向(右轉(zhuǎn))的力矩，也就是盤1的外側(cè)部受到下垂方向的力矩。而盤1上的由夾持力Fc產(chǎn)生的力矩Mc是作用在抵消此力矩的方向上的。換而言之，通過(guò)利用推壓部9a積極主動(dòng)地向盤1施加，與由盤1的自重Fg及調(diào)芯環(huán)7的壓靠力Fr產(chǎn)生的力矩相反方向的力矩，就可以達(dá)到減小產(chǎn)生在盤1支持點(diǎn)Pt周圍的力矩的效果。由此，本實(shí)施方式所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置30，由于在盤1上產(chǎn)生的力矩Md1變小，所以可以使盤1的狀態(tài)(posture)更加穩(wěn)定。
而且，力矩Mc取決于夾持力Fc的大小和距支持點(diǎn)Pt的距離Lc。所以，通過(guò)調(diào)整Fc或Lc，就可以得到任意的力矩Mc。
另外，由轉(zhuǎn)盤5保持的盤1的支持區(qū)域(support area)，是位于CD或DVD規(guī)定的夾持區(qū)域內(nèi)的靠近內(nèi)周的一側(cè)。此支持區(qū)域，例如可是半徑為12-14mm的范圍。
其次，對(duì)如圖3(b)所示的以往的盤驅(qū)動(dòng)裝置的盤保持方法進(jìn)行說(shuō)明。與圖3(a)所示本實(shí)施方式相比，盤驅(qū)動(dòng)裝置的夾持力Fc的作用位置不同。即，夾持力Fc的作用點(diǎn)是處于與轉(zhuǎn)盤5的盤支持點(diǎn)Pt大致半徑相同的位置上，而其它部分則與圖3(a)相同。
由于由夾持力Fc在支持點(diǎn)Pt周圍產(chǎn)生的力矩Mc大致為“0”，所以作用在盤1支持點(diǎn)Pt周圍的力矩Md2可表示為，Md2＝Mg+Mr (5)。即在盤1上，由自重產(chǎn)生的力矩Mg與由調(diào)芯環(huán)7產(chǎn)生的力矩Mr的和作為作用在右轉(zhuǎn)方向(正方向)的力矩。也就是說(shuō)，以往的盤驅(qū)動(dòng)裝置，無(wú)法象圖3(a)所示的本實(shí)施方式涉及的盤裝置30那樣，產(chǎn)生抵消Mg與Mr的力矩Mc，所以在盤1外側(cè)部產(chǎn)生使盤向下方向偏離的傾斜，從而很難穩(wěn)定地進(jìn)行信號(hào)的記錄和再生。
圖3(c)是示意用來(lái)評(píng)價(jià)盤1的傾斜的盤傾斜測(cè)定器的盤保持方法的半徑方向剖面圖，僅供參考。盤傾斜測(cè)定器，具有以指定的夾持力夾持作為盤1的規(guī)格而被采用的夾持區(qū)域的結(jié)構(gòu)。所以，盤傾斜測(cè)定器以盤1的夾持區(qū)域的全體范圍來(lái)夾持盤1。例如CD或DVD，其半徑11mm～16mm的區(qū)域?yàn)閵A持區(qū)域，那么盤傾斜檢測(cè)器，則在半徑11mm～16mm的區(qū)域形成轉(zhuǎn)盤15的盤搭載面及夾具18的盤推壓面。
另外，由于盤傾斜測(cè)定器沒(méi)有裝置小型化的需求，所以無(wú)需采用通過(guò)磁鐵或磁性體在小范圍內(nèi)產(chǎn)生磁性引力的結(jié)構(gòu)，而是如圖3(c)所示將夾具18大型化通過(guò)其重量來(lái)得到夾持力。其結(jié)果是，盤傾斜測(cè)定器以通過(guò)盤驅(qū)動(dòng)裝置得到的夾持力數(shù)倍大小的夾持力夾持盤1。
再者，盤傾斜測(cè)定器，與迫切地需要降低成本的盤驅(qū)動(dòng)裝置不同，即使價(jià)格偏高，需要的是一種高精度及作用在盤上的負(fù)荷較小的盤保持方法。例如，不使用盤驅(qū)動(dòng)裝置中的調(diào)芯環(huán)，而使用定位針來(lái)使盤1的芯對(duì)準(zhǔn)。此定位針是通過(guò)高精度切削加工而成的，通過(guò)將定位針穿插在盤1的中心孔1a上，就可使盤1定位。這樣，就不需要象盤驅(qū)動(dòng)裝置30那樣，通過(guò)斜面7a推壓盤1中心孔1a的周邊部。所以，盤傾斜測(cè)定器中就不會(huì)產(chǎn)生將盤1中心孔1a的周邊向上推舉的壓靠力。
另外，盤傾斜測(cè)定器，如圖3(c)所示，由于由轉(zhuǎn)盤15及夾具18產(chǎn)生的夾持力，在夾持區(qū)域的全體范圍內(nèi)可近似于均等負(fù)荷，且相互反向作用保持平衡，這樣盤1在夾持區(qū)域就近似于固定端。所以可以認(rèn)為在盤1的夾持區(qū)域周圍只有由自重Fg產(chǎn)生的力矩Mg。這樣在盤傾斜測(cè)定器中，在盤1上產(chǎn)生的固定端周圍的力矩Md3為，Md3＝Mg (6)。由于盤1的夾持區(qū)域?yàn)楣潭ǘ?，即使因自重產(chǎn)生的力矩Mg會(huì)使盤1變形，也不會(huì)產(chǎn)生盤1的內(nèi)端部被向上托起的傾斜。也就是說(shuō)，盤傾斜測(cè)定器，不同于以往的盤驅(qū)動(dòng)裝置，幾乎不存在因夾持盤1而產(chǎn)生傾斜的因素。
然而，圖3(a)所示本實(shí)施方式的盤驅(qū)動(dòng)裝置30，以在支持點(diǎn)Pt與調(diào)芯環(huán)7的作用點(diǎn)之間通過(guò)推壓部件9產(chǎn)生夾持力的結(jié)構(gòu)，將推壓部件9產(chǎn)生的夾持力用于抵消由盤自重及調(diào)芯環(huán)7的壓靠力產(chǎn)生的力矩。這樣，就可以抑制盤1的內(nèi)端部托起傾斜的發(fā)生，且無(wú)需產(chǎn)生很大的夾持力，便可以達(dá)到接近盤傾斜測(cè)定器的保持狀態(tài)。
在此，對(duì)夾持力Fc與盤傾斜的關(guān)系進(jìn)行說(shuō)明。
圖4中，橫軸表示夾持力Fc，縱軸表示保持盤1的狀態(tài)下的盤傾斜。圖4中的A表示由本實(shí)施方式的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的保持方法所引起的盤傾斜，B則表示由以往的一般的盤驅(qū)動(dòng)裝置的保持方法所引起的盤傾斜。且此盤傾斜，將盤1的外側(cè)部向上翹起的方向定義為“+”方向。
由圖4可以看出，當(dāng)增大雙方的夾持力Fc時(shí)，盤傾斜就向“+”方向移動(dòng)。也就是說(shuō)，通過(guò)增大夾持力Fc，可以使盤1的外側(cè)部下垂的盤傾斜向遞減方向移動(dòng)。然而，B所表示的以往的保持方法，由于盤支持點(diǎn)與夾持力的作用點(diǎn)的半徑大致相同，所以即使增大夾持力盤傾斜也不發(fā)生什么變化。例如，即使增大夾持力，盤傾斜也只從大約-0.10度遞減到大約-0.08度。而A所表示的本實(shí)施方式，盤傾斜不僅從大約-0.06度遞減到大約-0.02度，且與以往的裝置(B)相比，可以使隨夾持力的增大而得到的盤傾斜遞減效果增大。由此可看出，本實(shí)施方式所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置30，可以通過(guò)調(diào)整夾持力而簡(jiǎn)單地調(diào)整盤傾斜。
圖5示意了力矩比與盤傾斜的關(guān)系，圖5的橫軸表示力矩比Mc/(Mg+Mr)，縱軸表示本實(shí)施方式的保持方法引起的盤傾斜。在此圖中，力矩比Mc/(Mg+Mr)是指力矩的絕對(duì)值的比，盤傾斜也取其絕對(duì)值。
由圖5可以看出，隨著左轉(zhuǎn)力矩相對(duì)右轉(zhuǎn)力矩的比Mc/(Mg+Mr)的增大，盤傾斜在逐漸地減小。當(dāng)盤傾斜的允許范圍被設(shè)為0.06度時(shí)，將力矩比設(shè)成0.7或0.7以上即可，當(dāng)盤傾斜的允許范圍被設(shè)為0.05度時(shí)，將力矩比設(shè)成0.8或0.8以上即可，而當(dāng)盤傾斜的允許范圍被設(shè)為0.04度時(shí)，則需要將力矩比設(shè)成0.95或0.95以上。也就是說(shuō)，通過(guò)將由夾持力Fc產(chǎn)生的力矩Mc設(shè)成恰當(dāng)?shù)臄?shù)值，就可以抑制因?yàn)楸P保持而產(chǎn)生的盤傾斜。
使光學(xué)頭2的光軸相對(duì)盤1記錄面產(chǎn)生總傾斜(total tilt)的要因有，例如，光學(xué)頭內(nèi)部的光學(xué)軸的調(diào)整剩余誤差(adjustment residual)(光學(xué)系統(tǒng))、光學(xué)頭移動(dòng)時(shí)導(dǎo)向軸的傾斜(驅(qū)動(dòng)系統(tǒng))、盤自身的反翹(warp)等諸多因素。于是在設(shè)計(jì)光盤裝置時(shí)，首先決定將總傾斜允許值分配給光學(xué)系統(tǒng)、驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)及盤本身，例如其中將驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的允許值設(shè)定為0.10～0.20度，這時(shí)就最好將光盤的允許值設(shè)定為遠(yuǎn)小于此值的數(shù)值，例如若將盤傾斜的允許范圍設(shè)定為0.04～0.06度就會(huì)非常有效。
如上所述，本實(shí)施方式所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置30，由于夾具8的推壓部9a將盤向轉(zhuǎn)盤5推壓的推壓位置，處在相對(duì)盤搭載單元5a的盤支持位置更靠近中心的一側(cè)，所以可以抵消由處于相對(duì)盤支持位置遠(yuǎn)離中心的一側(cè)的盤自重產(chǎn)生的力矩和由調(diào)芯環(huán)7的壓靠力產(chǎn)生的力矩。這樣，以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)就可抑制盤傾斜，從而使信號(hào)的記錄和再生可以確切可靠地進(jìn)行。
另外，由于盤傾斜得到抑制，所以可以減少在光學(xué)頭2中所進(jìn)行的物鏡2a(參照?qǐng)D2)的角度調(diào)整量。這樣，光學(xué)頭2中的用于保持物鏡2a的狀態(tài)的電流值得以降低，從而可以削減消費(fèi)電力。而且，由于可以減小物鏡2a的追從角度范圍(動(dòng)態(tài)范圍)，所以移動(dòng)物鏡2a的速度可以加快，光學(xué)特性得以提高。另外，由于可以減小物鏡2a的角度調(diào)整量，所以留出的空間余地有助于盤裝置的小型化。而且，由于可以減小物鏡2a的角度調(diào)整量，這樣在物鏡2a處就很難產(chǎn)生慧性像差，所以可以提高物鏡2a的設(shè)計(jì)自由度。另外，即使對(duì)于在光學(xué)頭中無(wú)需進(jìn)行傾斜修正的盤裝置，由于可以降低對(duì)各部件的精度要求，所以有利于削減成本。
在此，對(duì)推壓部件9的推壓部9a的詳細(xì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。推壓部9a，如圖6所示，也可以是分割成多個(gè)并在圓周方向上以一定間隔設(shè)置的結(jié)構(gòu)。圖6是從盤方向(下方)看推壓部件9的斜視圖。本實(shí)施方式中，推壓部9a分別設(shè)置在圓周方向的6處，各推壓部9a呈突起狀。這種在圓周方向設(shè)置多個(gè)小突起狀的推壓部9a的結(jié)構(gòu)，不僅使推壓盤1的推壓面易于成為平面，而且由于推壓盤1的推壓點(diǎn)確切可靠，所以可以使盤1的姿勢(shì)更為穩(wěn)定。另外，這種在圓周方向6處，等間隔地設(shè)置的結(jié)構(gòu)，可以緩和盤1表面產(chǎn)生波浪(waves)的影響，從而可得到穩(wěn)定的盤1的姿勢(shì)。以往的將轉(zhuǎn)盤的盤搭載單元與推壓部件的推壓部設(shè)置在相對(duì)置的位置上的結(jié)構(gòu)，為穩(wěn)定地保持盤就必須將推壓面積擴(kuò)大至某種程度以上，然而在本實(shí)施方式中，由于推壓部件9的推壓部9a是設(shè)置在轉(zhuǎn)盤5的盤搭載單元5a與由調(diào)芯環(huán)7構(gòu)成的碰接單元之間的，所以即使減小推壓部9a的推壓面也可以穩(wěn)定地保持盤1。而且，推壓部9a并不局限于在圓周方向分割的結(jié)構(gòu)，例如還可以是在圓周方向呈連接的圓環(huán)狀的結(jié)構(gòu)。
推壓部9a，如圖7所示，在半徑方向的剖面內(nèi)可與盤1呈點(diǎn)接觸狀。例如，推壓部9a在半徑方向的截面可以是三角形，也可以是圓弧形。由于形成這種形狀，推壓盤1的推壓點(diǎn)會(huì)變得更為確切可靠，從而可以使盤的姿勢(shì)更為穩(wěn)定。
在本實(shí)施方式1中，對(duì)盤1的內(nèi)端部由調(diào)芯環(huán)7推壓的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了說(shuō)明，不過(guò)并不局限于此。例如本發(fā)明也適用于沒(méi)有設(shè)置調(diào)芯環(huán)7的盤驅(qū)動(dòng)裝置。
實(shí)施例2圖8示意了本發(fā)明實(shí)施方式2所涉及的盤驅(qū)動(dòng)裝置30的一部分。如此圖所示，本實(shí)施方式2是將實(shí)施方式1的盤驅(qū)動(dòng)裝置30上下顛倒設(shè)置的結(jié)構(gòu)。
具體的說(shuō)就是，轉(zhuǎn)盤5被固定在盤馬達(dá)4的旋轉(zhuǎn)體4a的下端部，且盤1被設(shè)置在轉(zhuǎn)盤5的下方。
調(diào)芯環(huán)7的外端部與實(shí)施方式1的上下顛倒，具有一直徑向下逐漸減小的斜面7a。這樣斜面7a就與盤1內(nèi)端部的上端部碰接。
推壓部件9被設(shè)置在轉(zhuǎn)盤5的下方，且盤1處于被推壓部件9與轉(zhuǎn)盤5夾持的位置關(guān)系。
推壓部件9呈直徑大于轉(zhuǎn)盤5直徑的形狀。且轉(zhuǎn)盤5的盤搭載單元5a被設(shè)置在相對(duì)推壓部件9的推壓部9a靠近中心的位置。其結(jié)果是，轉(zhuǎn)盤5的盤搭載單元5a被配置成，在盤1的，可以抵消由盤1的自重在支持點(diǎn)周圍產(chǎn)生的力矩的方向上產(chǎn)生力矩。推壓部9a及盤搭載單元5a的形狀，與本實(shí)施方式2，也可以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)就可以減小盤傾斜，從而使信號(hào)記錄和再生可以確切可靠地進(jìn)行。
有關(guān)本實(shí)施方式2的其它的結(jié)構(gòu)、作用及效果因與實(shí)施方式1相同，在此省略對(duì)其說(shuō)明。
實(shí)施例3如圖9所示，本發(fā)明的實(shí)施方式3所涉及的信息記錄再生裝置，是用于將記錄在盤1中的信息再生的裝置，該信息記錄再生裝置主要包括，光學(xué)頭2、盤驅(qū)動(dòng)裝置30、檢測(cè)電路32、再生電路34、追蹤控制電路36及聚焦控制電路38等。而且，信息記錄再生裝置，還可以是能夠在盤1上記錄信息，并且將記錄在盤1中的信息再生的結(jié)構(gòu)。
光學(xué)頭2，盡管在圖中省略，其包括激光光源、光束整形器、半透鏡、物鏡、物鏡執(zhí)行機(jī)構(gòu)等。檢測(cè)電路32，根據(jù)光學(xué)頭2的激光光源射出的經(jīng)由盤1反射的反射光生成再生信號(hào)，并且根據(jù)從出射光分歧出的分歧光，生成追蹤錯(cuò)誤信號(hào)和聚焦錯(cuò)誤信號(hào)。再生電路34，根據(jù)再生信號(hào)將記錄在盤1中的信息再生。追蹤控制電路36，根據(jù)追蹤錯(cuò)誤信號(hào)對(duì)光學(xué)頭2進(jìn)行控制以補(bǔ)償追蹤誤差。聚焦控制電路38，根據(jù)聚焦錯(cuò)誤信號(hào)對(duì)光學(xué)頭2進(jìn)行控制以補(bǔ)償聚焦誤差。盤驅(qū)動(dòng)裝置30為實(shí)施方式1中所說(shuō)明的結(jié)構(gòu)，但也可以用實(shí)施方式2的結(jié)構(gòu)來(lái)替換。
有關(guān)本實(shí)施例3的其它的結(jié)構(gòu)、作用及效果因與實(shí)施方式1相同，在此省略對(duì)其說(shuō)明。
權(quán)利要求
1.一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)盤，其特征在于包括與所述盤接觸，并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；推壓所述盤的與所述盤搭載單元相反的面，并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述推壓部與所述盤搭載單元的位置關(guān)系被設(shè)置成，可以在抵消由于所述盤的自重而在盤上產(chǎn)生的力矩的方向上產(chǎn)生力矩。
2.一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)盤，其特征在于包括與所述盤的下面接觸，并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；設(shè)置在所述盤搭載單元的上方，推壓所述盤的上面并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述推壓部被設(shè)置在相對(duì)所述盤搭載單元更靠近內(nèi)側(cè)的位置上。
3.一種盤驅(qū)動(dòng)裝置，用于驅(qū)動(dòng)盤，其特征在于包括與所述盤的上面接觸，并與此盤一起旋轉(zhuǎn)的盤搭載單元；設(shè)置在所述盤搭載單元的下方，推壓所述盤的下面并與所述盤一起旋轉(zhuǎn)的推壓部，其中，所述盤搭載單元被設(shè)置在相對(duì)所述推壓部更靠近內(nèi)側(cè)的位置上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項(xiàng)所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于還包括碰接單元，其中，所述盤設(shè)有中心孔；所述碰接單元，與所述盤的中心孔的周邊部碰接，并與此盤一起旋轉(zhuǎn)，且從相對(duì)所述盤與所述盤搭載單元相同的一側(cè)，碰接所述盤。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述碰接單元，具有與所述盤的中心孔的周邊部可碰接的，且與所述盤的旋轉(zhuǎn)軸呈同心狀的斜面；所述斜面，通過(guò)與所述盤的中心孔的周邊部碰接，使所述盤的芯對(duì)準(zhǔn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任意一項(xiàng)所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述推壓部，是在圓周方向以一定間隔排列的多個(gè)突起。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置，其特征在于，所述推壓部在沿半徑方向剖面上呈點(diǎn)接觸形狀。
8.一種信息記錄再生裝置，其特征在于包括基于權(quán)利要求1至7中的任意一項(xiàng)所述的盤驅(qū)動(dòng)裝置；和光學(xué)頭，其中，利用所述盤驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)盤，利用所述光學(xué)頭照射所述盤以再生信息。
全文摘要
本發(fā)明提供一種盤驅(qū)動(dòng)裝置及信息記錄再生裝置，可以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)抑制由盤自重引起的盤傾斜。本發(fā)明所提供的盤驅(qū)動(dòng)裝置，在盤(1)的下方設(shè)置轉(zhuǎn)盤(5)，盤(1)的上方設(shè)置推壓部件(9)，轉(zhuǎn)盤(5)具有盤搭載單元(5a)，且與盤(1)接觸，推壓部件(9)具有推壓盤(1)的下面并與盤(1)一起旋轉(zhuǎn)的推壓部(9a)，調(diào)芯環(huán)(7)，從下方推壓盤(1)的內(nèi)端部，盤搭載單元(5a)被設(shè)置在相對(duì)推壓部(9a)更靠近內(nèi)側(cè)的位置上。
文檔編號(hào)G11B17/04GK1691169SQ200510067358
公開日2005年11月2日 申請(qǐng)日期2005年4月21日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月27日
發(fā)明者三東武生, 佐治義人 申請(qǐng)人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社