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      光拾取裝置的制作方法

      文檔序號:6779384閱讀:128來源:國知局
      專利名稱:光拾取裝置的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及利用激光來執(zhí)行讀出記錄在光盤上的信號的操作、在 光盤上記錄信號的操作的光拾取裝置。
      背景技術(shù)
      能夠通過將從光拾取裝置照射出的激光照射到光盤的信號記錄 層上來執(zhí)行信號的讀出操作、信號的記錄操作的光盤裝置正在普及。作為光盤裝置, 一般普遍使用稱為CD、 DVD的光盤的裝置,但 最近,也開發(fā)出了使用提高了記錄密度的光盤、即藍(lán)光(Blu-ray)標(biāo)準(zhǔn) 或HD醫(yī)DVD (高密度數(shù)字通用盤,High Density Digital Versatile Disc) 標(biāo)準(zhǔn)的光盤的裝置。使用波長為780nm的紅外光作為執(zhí)行記錄在CD標(biāo)準(zhǔn)的光盤上 的信號的讀出操作的激光,使用波長為650nm的紅光作為執(zhí)行記錄到 DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤上的信號的讀出操作的激光。相對于相關(guān)的CD標(biāo)準(zhǔn)和DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤,作為執(zhí)行記錄在 Blu-ray或HD-DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤上的信號的讀出操作的激光使用了波 長較短的激光,例如波長是405mn的藍(lán)光。設(shè)置在Blu-ray標(biāo)準(zhǔn)的光盤的信號記錄層上面的保護(hù)層的厚度是 O.lmm。為執(zhí)行從該信號記錄層讀出信號的操作而使用的物鏡的數(shù)值 孔徑被設(shè)定為0.85。另一方面,設(shè)置在HD-DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤中的信號記錄層上面的 保護(hù)層的厚度為0.6mm,為執(zhí)行從該信號記錄層讀出信號的操作而使
      用的物鏡的數(shù)值孔徑被設(shè)定為0.65。如前所述,由于能夠使用波長為405nm的藍(lán)光作為用于執(zhí)行記 錄在Blu-ray標(biāo)準(zhǔn)或HD-DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤上的信號的讀出操作的激 光,因此,能夠制作通過兼用激光二極管來執(zhí)行從兩種標(biāo)準(zhǔn)的光盤上 讀出信號的操作的光拾取裝置。但是,由于兩種光盤是在距離激光的輸入面的彼此不同的位置上 設(shè)置信號記錄層,因此,從物鏡到信號記錄層的距離變得大大不同。 而且,由于物鏡所需的數(shù)值孔徑如前所述也有很大差異,所以為了從 兩光盤上讀出信號,有必要根據(jù)各光盤來切換數(shù)值孔徑,于是就開發(fā) 了能夠執(zhí)行相關(guān)操作的光拾取裝置(參見特開2006-172605號公報)。另外,與這種謀求提高記錄密度的光盤標(biāo)準(zhǔn)相對應(yīng)的光拾取裝 置,伴隨著記錄密度的提高,其為提高信號記錄品質(zhì)所要求的光學(xué)特 性也變得嚴(yán)格。光拾取裝置構(gòu)成為控制提供給激光二極管的驅(qū)動電流,以便得到 為讀出記錄在光盤上的信號而適當(dāng)?shù)募す廨敵?、或為向光盤記錄信號 而適當(dāng)?shù)募す廨敵?。另外,?gòu)成為能夠執(zhí)行使從光拾取裝置照射出的激光光點聚焦到 光盤上的信號記錄層上的控制操作即聚焦控制操作、或使激光光點追 蹤到信號軌道的控制操作即循跡控制操作。而且,在光盤裝置中,光盤被裝栽在由主軸馬達(dá)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動的轉(zhuǎn)臺 上,被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動,但是,因為光盤自身的翹曲或?qū)τ谵D(zhuǎn)臺的裝栽狀態(tài) 以及機(jī)械誤差而引起在光盤上發(fā)生了歪斜。 一旦光盤歪斜,激光光軸 相對于光盤信號面的歪斜就偏離了最佳狀態(tài)。由于伴隨著記錄在光盤上的信號的高密度化,出現(xiàn)了前述的激光 光軸相對于光盤信號面的偏差變大的問題,因此,在最近的光拾取裝 置中,開發(fā)了具有能夠執(zhí)行調(diào)整激光光軸相對于光盤信號面的歪斜的 操作的、所謂傾斜控制操作的傾斜線團(tuán)。利用前述專利文件1中記栽的技術(shù),能夠制造用于執(zhí)行記錄在 Blu-ray標(biāo)準(zhǔn)或HD-DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤上的信號的讀出操作的光拾取裝
      置。但是,在光拾取裝置中,產(chǎn)生了因存在于光盤的激光入射面與信號記錄層之間的覆蓋(cover)層的厚度等而產(chǎn)生的稱為球面象差、彗形 象差的象差,從而存在信號的再現(xiàn)操作、記錄操作不能正常執(zhí)行的問 題,這樣,就開發(fā)了解決相關(guān)問題的技術(shù)(參見特開2006-147069號公 報)。根據(jù)特開2006-147069號公報內(nèi)記載的技術(shù),由于需要構(gòu)成為 在能夠校正球面象差、彗形象差的相關(guān)技術(shù),將校正兩象差的象差校 正元件設(shè)置在將激光二極管放射出的激光導(dǎo)入到物鏡的光路內(nèi),且為 了校正彗形象差而使所述象差校正元件朝著2軸方向位移,因此,難 以避免光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造的復(fù)雜化,在要求精度的光拾取裝置中不適用的 問題。發(fā)明內(nèi)容有關(guān)本發(fā)明一個側(cè)面的、對從光盤的入射面入射利用物鏡會聚的 激光并存儲在信號記錄層的信號進(jìn)行讀取的德光拾取裝置,其特征在 于,具有使上述物鏡在朝向上述光盤的面的方向上位移的聚焦線 圏;使上述物鏡在上述光盤的徑向上位移的循跡線圏;校正上述物 鏡的光軸相對上述光盤的面的歪斜的傾斜線圏;變更上述激光相對 上述物鏡的入射角,以使上述激光對焦到上述光盤的上述信號記錄層 上的入射角變更元件;控制所述傾斜線團(tuán)的驅(qū)動,以校正彗形象差 的傾斜控制部。對于本發(fā)明的其他特征,通過附圖以及本說明書的記栽可以更明了。


      為了更完全地理解本發(fā)明及其優(yōu)點,希望將以下說明與附圖 一同參照。圖l是用于說明本發(fā)明一實施方式的光拾取裝置的操作的圖, 圖2圖示了有關(guān)本發(fā)明一實施方式的光拾取裝置中的激光和光
      盤的關(guān)系。圖3圖示了有關(guān)本發(fā)明一實施方式的關(guān)拾取裝置中的激光和光 盤的另一個關(guān)系。
      具體實施方式
      通過本說明書和附圖的記載,至少可以明了以下事項。在圖1中,僅僅記栽了本發(fā)明操作所必需的光學(xué)部件,省略了產(chǎn) 生作為主光束的0次光、作為子光束的+1次光以及-1次光的衍射光 柵、改變激光相位的1/4波片等。在該圖中,1是激光二極管,用于放射出波長為405nm的藍(lán)光 的激光。2是準(zhǔn)直透鏡,其上入射有作為從該激光二極管l放射出的 發(fā)散光的激光,它起到了使入射的發(fā)散光改變?yōu)槠叫泄獾淖饔谩?是 偏光分束器,其上入射有作為從所述準(zhǔn)直透鏡2出射的平行光的激光, 并形成有反射膜3a,用于使從所述準(zhǔn)直透鏡2 —側(cè)入射的激光透過, 并且如后所述,還使從光盤D反射回的返回光得以反射。4是激光光路控制元件(入射角度變更元件),將其設(shè)置在透過所 述偏光分束器3的反射膜3a的激光的光路內(nèi),并且隨著盤切換操作 而沿著激光光軸方向、即圖中箭頭A和B方向上位移,并且起到變更 入射的平行光的激光向后述的物鏡入射角度的作用,該激光光路控制 元件構(gòu)成為具有對由光盤D的覆蓋層所產(chǎn)生的球面象差進(jìn)行校正的 作用,同時,還借助于盤切換兼象差校正用線團(tuán)5而向著光軸方向位移。6是將其設(shè)置在透過激光光路控制元件4的激光所入射的位置 上,并且使該入射的激光反射向物鏡方向的立起反射鏡。7是入射有 從所述立起反射鏡6反射的激光的物鏡,起到了使得激光作為光點聚 焦在光盤D的信號記錄層上的作用。8是孔徑限制元件(數(shù)值孔徑變更元件),被配置在從所述立起的 反射鏡6反射之后入射到所述物鏡7的激光的光路內(nèi),并且與所使用 的光盤D對應(yīng)地改變該物鏡的數(shù)值孔徑,它能夠使用液晶來構(gòu)成。
      在相關(guān)結(jié)構(gòu)中,從激光二極管l放射出的激光經(jīng)由準(zhǔn)直透鏡2、 偏光分束器3、激光光路控制元件4、立起反射鏡6以及孔徑控制元 件8入射到物鏡7上之后,利用該物鏡7的對焦操作而作為光點照射 到光盤D的信號記錄層上,但照射到該信號記錄層上的激光作為返回 光而被反射。從光盤D的信號記錄層反射出的返回光經(jīng)由物鏡7、孔徑控制元 件8、立起反射鏡6以及激光光路控制元件4,入射到偏光分束器3 的反射膜3a上。如此,入射到偏光分束器3的反射膜3a上的返回光 被改變?yōu)榻柚谝?/4波片執(zhí)行的相位改變操作而被偏光的激光。因 此,不透過所述反射膜3a,而被反射為控制用激光Lc。9是入射了由所述偏光分束器3的反射膜3a反射的控制用激光 Lc的傳感透鏡,起到了使控制用激光Lc集光、照射到在被稱為PDIC 的光檢測器10內(nèi)設(shè)置的受光部內(nèi)的作用。在所述檢測器10內(nèi)設(shè)置有 眾所周知的4分傳感器等,構(gòu)成為執(zhí)行伴隨著利用主波束的照射操作 而記錄到光盤D的信號記錄層上的信號的讀取操作的信號生成操作、 以及用于利用非點象差法來執(zhí)行聚焦控制操作的信號生成操作、還有 利用2個子波束的照射操作來執(zhí)行循跡控制操作的信號生成操作。如前所述構(gòu)成了根據(jù)本發(fā)明的光拾取裝置,而在相關(guān)結(jié)構(gòu)中,所 述物鏡7在光拾取裝置的基臺上,被固定在受到4條支持線支持的、 可向著垂直于光盤D的信號面的方向位移以及向著光盤D的徑向方 向位移的透鏡保持框(圖中未示出)上。11是設(shè)置在固定有所述物鏡7的透鏡保持框內(nèi)的聚焦線圏,它 起到了以下作用通過與固定在基臺上的磁鐵聯(lián)動,使物鏡7朝著垂 直于光盤D的信號面的方向(面方向)位移。12是設(shè)置在固定有所述物 鏡7的支持框上的循跡線團(tuán),它具有以下作用通過與固定在基臺上 的磁鐵的聯(lián)動,使物鏡7朝著光盤D的徑向位移。另外,本發(fā)明的光拾取裝置裝有傾斜調(diào)整功能,能夠調(diào)整物鏡7 的光軸相對于光盤D的信號面的角度.13是調(diào)整有關(guān)傾斜的傾斜線 圍。
      安裝有前述的聚焦線團(tuán)11、循跡線團(tuán)12以及傾斜線團(tuán)13的光 拾取裝置的結(jié)構(gòu)以及因各線圏的驅(qū)動操作而執(zhí)行的聚焦控制操作、循 跡控制操作以及傾斜控制操作是眾所周知的,其說明在這里予以省 略。14是用于生成RF信號的RF信號生成電路,所述RF信號是從 構(gòu)成所述光檢測器10的接受主波束的傳感器中得到的與光盤D的信 號記錄層上記錄的信號的讀取操作相對應(yīng)的信號。15是用于生成聚焦 誤差信號的聚焦誤差信號生成電路,所述聚焦誤差信號是從接受主波 束的傳感器中與激光的對焦操作相對應(yīng)地得到的信號。16是生成循跡 誤差信號的循跡誤差信號生成電路,循跡誤差信號是從接受副波束的 傳感器中與激光的循跡操作對應(yīng)地得到的信號。17是控制電路,基于從所述RF信號生成電路14、聚焦誤差信 號生成電路15以及循跡誤差信號生成電路16等得到的信號,來執(zhí)行 光拾取裝置的各種控制操作。18是聚焦線團(tuán)驅(qū)動電路,基于由所述聚 焦誤差信號生成電路15生成后被輸入的聚焦誤差信號,來輸入由所 述控制電路17輸出的聚焦控制信號,聚焦線圏驅(qū)動電路18構(gòu)成為向 所述聚焦線團(tuán)ll提供驅(qū)動信號。19是循跡線團(tuán)驅(qū)動電路,基于由所 述循跡誤差信號生成電路16生成后被輸入的循跡誤差信號,而輸入 從所述控制電路17輸入出的循跡控制信號,循跡線團(tuán)驅(qū)動電路19構(gòu) 成為向所述循跡線圍12提供驅(qū)動信號。20是盤歪斜檢測電路(歪斜檢測電路),用于在將光盤D裝載到 轉(zhuǎn)臺(圖中未示)時,檢測相對于光盤D的基準(zhǔn)面的歪斜。作為由該盤 歪斜檢測電路20執(zhí)行的檢測操作,例如,能夠使用伴隨著在使光拾 取裝置從光盤D的內(nèi)周一側(cè)向外周一側(cè)移動期間所執(zhí)行的聚焦控制 操作而變化的、提供給聚焦線團(tuán)11的直流電壓的變化。即,在光盤D 傾斜的情況下,伴隨著光拾取裝置從內(nèi)周側(cè)向外周側(cè)移動,物鏡7和 光盤D的信號記錄層間的距離發(fā)生變化,通過測量為了校正該變化而 用于使物鏡7相對于光盤D的信號面方向向垂直方向位移的直流驅(qū)動 信號的變化度,就能夠識別出光盤D的歪斜程度。
      另外,設(shè)置了用于使光照射到光盤D的信號面上的歪斜檢測用 發(fā)光二極管,利用從該發(fā)光二極管照射到光盤D的信號面上的光的反 射角的變化等,也能夠檢測光盤D的歪斜。該技術(shù)由于是眾所周知的, 因此,其說明予以省略。21是想要根據(jù)使用的光盤D的種類將所述激光光路控制元件4 位移到適合各光盤D的位置上而向所述盤切換兼象差校正用線團(tuán)5提 供驅(qū)動信號的盤切換兼象差校正用線團(tuán)驅(qū)動電路,所述盤切換兼象差 校正用線團(tuán)驅(qū)動電路構(gòu)成為基于從所述控制電路17輸出的驅(qū)動控 制信號來輸出驅(qū)動信號。22是想要根據(jù)使用的光盤D的種類將所述號的孔徑限制元件驅(qū)動電路,孔徑限制元件驅(qū)動電路22構(gòu)成為基于 從所述控制電路17輸出的驅(qū)動控制信號來輸出驅(qū)動信號。如前所述,根據(jù)使用的光盤D,可以將所述盤切換兼象差校正用 線團(tuán)驅(qū)動電路21和孔徑限制元件驅(qū)動電路22切換到適應(yīng)于各光盤D 的狀態(tài)。例如,在光盤D是Blu-ray標(biāo)準(zhǔn)的光盤的第1光盤的情況下, 如圖2所示作為設(shè)置在信號記錄層Ll上面的保護(hù)層的覆蓋層Cl的厚 度薄至O.lmm,所述激光光路控制元件4通過所述盤切換兼象差校正 用線閨5的驅(qū)動操作而被位移保持在這樣一個位置激光Lb作為平 行光入射到物鏡8上。另外所述孔徑限制元件8通過孔徑限制元件驅(qū) 動電路22的驅(qū)動操作而被保持,以使得物鏡7的數(shù)值孔徑變?yōu)?.85。而且,在光盤D是HD-DVD標(biāo)準(zhǔn)的光盤的第2光盤的情況下, 如圖3所示,作為設(shè)置在信號記錄層L2上面的保護(hù)層的覆蓋層C2 的厚度厚至0.6mm,所述激光光路控制元件4通過所述盤切換兼象差 校正用線閨5的驅(qū)動操作而被位移保持在這樣一個位置激光Lh作 為發(fā)散光入射到物鏡7。另外,所述孔徑限制元件8通過孔徑限制元 件驅(qū)動電路22的驅(qū)動操作而被保持,以使得物鏡7的數(shù)值孔徑變?yōu)?0.65。通過根據(jù)光盤D的種類來切換控制所述激光光路控制元件4和 孔徑限制元件8,如圖2和圖3所示,能夠使激光對焦在各光盤D的
      信號記錄層L1和L2上。另外,作為判斷所使用的光盤D的種類的 方法,例如有在使物鏡7向著光盤D的信號面方向位移的情況下,使 用從聚焦誤差信號生成電路15得到的聚焦誤差信號的方法。23是物鏡位移量檢測電路(位移量檢測電路),用于從由所述循跡 線團(tuán)驅(qū)動電路19提供給所述循跡線圏12的驅(qū)動信號中,檢測出物鏡 7的位移量、即物鏡7相對于構(gòu)成光拾取裝置的基臺的位移量。^沒置 在光盤D的信號記錄層上的信號軌道形成為螺旋狀,為了使激光光點 追蹤所述信號軌道,需要使物鏡7沿著光盤D的徑向位移。使所述物鏡7朝著作為光盤D徑向的外周方向位移的操作是這 樣執(zhí)行的使從循跡線團(tuán)驅(qū)動電路19提供給循跡線團(tuán)12的驅(qū)動信號 的直流電壓逐次增大。因此,通過檢測該直流電壓的大小就能夠識別 物鏡7相對于基臺的位移量。我們知道,在執(zhí)行記錄在光盤D上的信號的讀取操作的情況下 發(fā)生的彗形象差與物鏡7的位移量是成比例的關(guān)系。本發(fā)明是著眼于 這一點而作出的。24是彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路(存儲電路),用于 存儲用來根據(jù)所述物鏡位移量檢測電路23檢測出的物鏡7的位移量 來校正彗形象差所適用的校正數(shù)據(jù)。即,在所述彗形象差校正數(shù)據(jù)存 儲電路24內(nèi),存儲了用于執(zhí)行適用于校正因物鏡7的位移而產(chǎn)生的 彗形象差的傾斜校正操作的數(shù)據(jù)。25是傾斜控制信號生成電路,輸入了基于從所述盤歪斜檢測電 路20得到的信號以及從彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路24得到的信號而 從控制電路17輸出的控制信號,構(gòu)成為輸出用于進(jìn)行傾斜控制操作 的傾斜控制信號。26是輸入了從所述傾斜控制信號生成電路25輸出 的傾斜控制信號的傾斜驅(qū)動電路,它構(gòu)成為向所述傾斜線團(tuán)13提供 驅(qū)動信號。另外,控制電路17、物鏡位移量檢測電路23、彗形象差校正數(shù) 據(jù)存儲電路24、傾斜控制信號生成電路25、傾斜線團(tuán)驅(qū)動電路26構(gòu) 成了傾斜控制部.若將光盤D裝栽在轉(zhuǎn)臺上,就執(zhí)行用于識別光盤D的種類的操
      作。若光盤D被識別為是第1光盤,則從控制電路17向盤切換兼象 差校正用線圏驅(qū)動電路21輸出信號,該信號是用于變到用于讀取記 錄在該第1光盤的信號記錄層L1上的信號的讀出操作的狀態(tài)的信號。
      若將該信號輸入到所述盤切換兼象差校正用線圏驅(qū)動電路21, 則從該盤切換兼象差校正用線團(tuán)驅(qū)動電路21向盤切換兼象差校正用 線圏5輸出驅(qū)動信號。其結(jié)果是,激光光路控制元件4位移到箭頭B 方向的第l光盤用操作位置上,激光Lb作為平行光入射到物鏡7上。
      若光盤D被識別為是第1光盤,則如前所述,從所述控制電路 17向盤切換兼象差校正用線圏驅(qū)動電路21輸出信號,該信號是用于 變到用于執(zhí)行記錄在該第1光盤的信號記錄層Ll上的信號的讀出操 作的狀態(tài)的信號,但此時,還向孔徑限制元件驅(qū)動電路22輸出信號, 該信號是用于變到用于進(jìn)行記錄在第1光盤的信號記錄層Ll上的信 號的讀出操作的狀態(tài)的信號。
      若將該信號輸入到所述孔徑限制元件電路22,則從該孔徑限制 元件驅(qū)動電路22向孔徑限制元件8輸出驅(qū)動信號。其結(jié)果是,所述 孔徑限制元件8變?yōu)檫@樣一種狀態(tài)將物鏡7的數(shù)值孔徑限制在0.85。圖2所示的狀態(tài)表示激光光路控制元件4和孔徑限制元件8位于 適于執(zhí)行記錄在第1光盤的信號記錄層Ll的信號的讀出操作的第1 光盤用操作位置以及孔徑限制位置的狀態(tài),能夠使激光的光點對焦在 信號記錄層Ll上。在處于該狀態(tài)的情況下,由于將基于從光檢測器 10得到的信號而由聚焦誤差信號生成電路15生成的聚焦誤差信號以 及由循跡誤差信號生成電路16生成的循跡誤差信號輸入到控制電路 17,因此,利用聚焦線團(tuán)11執(zhí)行了物鏡7朝向光盤D的信號面方向 的位移操作、以及利用循跡線圏12執(zhí)行了物鏡7朝向光盤D的徑向 的位移操作。因此,執(zhí)行光拾取裝置的聚焦控制操作以及循跡控制操作,就能 夠執(zhí)行記錄在光盤D的信號記錄層Ll上的信號的再現(xiàn)操作。該再現(xiàn) 信號通過對RF信號生成電路14生成的RF信號進(jìn)行解調(diào),可以得到 信息數(shù)據(jù)。
      如前所述,激光光路控制元件4被移動到在用于讀出記錄在信號 記錄層Ll上的信號所適合的第1光盤用操作位置上,而該第1光盤 用操作位置被設(shè)定為球面象差最小的位置。該位置的設(shè)置操作也可以 設(shè)定為再現(xiàn)信號內(nèi)所包含的抖動值為最合適的值的位置、RF信號 電平最大的位置、或者是循跡誤差信號的電平最大的位置。雖然通過執(zhí)行前述調(diào)整操作,能夠最大地抑制在輸入到物鏡7 上后照射到光盤D的信號記錄層Ll上的激光光點內(nèi)所呈現(xiàn)的球面象 差,但因物鏡7在徑向上位移而產(chǎn)生了彗形象差。由于若物鏡7沿著 徑向位移,則循跡線團(tuán)驅(qū)動電路19提供給循跡線團(tuán)12的驅(qū)動信號內(nèi) 所包含的直流電壓值會發(fā)生變化,因此,物鏡位移量檢測電路23通 過檢測其直流電壓值來執(zhí)行檢測物鏡7的位移量的操作。在由所述物鏡位移量檢測電路23執(zhí)行了檢測操作后,其檢測輸 出被輸入給彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路24。其結(jié)果是基于存儲在所 述彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路24內(nèi)的數(shù)據(jù),向控制電路17輸出與物 鏡的位移量相適應(yīng)的、用于校正彗形象差的彗形象差校正用傾斜控制 信號。在向所述控制電路17輸入了來自所述彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電 路24的彗形象差校正用傾斜控制信號后,將為與由盤歪斜檢測電路 20之前檢測出的盤的歪斜相對應(yīng)地執(zhí)行傾斜調(diào)整而設(shè)定的信號與所 述彗形象差校正用傾斜控制信號相加,將相加后所得到的控制信號輸 入給傾斜控制信號生成電路25。當(dāng)將該控制信號輸入給傾斜控制信號生成電路25時,從該傾斜將該4斜控制信號輸入到所^傾斜線閨驅(qū)動電路26時,從^:斜: 團(tuán)驅(qū)動電路26向傾斜線圍13提供驅(qū)動信號。當(dāng)將該驅(qū)動信號提供給 傾斜線圍13時,由該傾斜線團(tuán)13來執(zhí)行用于改變物鏡7相對于光盤 D的信號面的光軸的操作、即傾斜調(diào)整操作。通過執(zhí)行該傾斜控制操 作,能夠抑制彗形象差。前述的操作是以光盤D為笫1光盤的情況進(jìn)行的說明,以下,
      就第2光盤的情況下的操作進(jìn)行說明。在光盤D被識別為是第2光盤時,從控制電路17向盤切換兼象 差校正用線圏驅(qū)動電路21輸出一種信號,該信號是用于變到用來執(zhí) 行記錄在該第2光盤的信號記錄層L2上的信號的讀出操作的狀態(tài)的 信號。在將該信號輸入到所述盤切換兼象差校正用線圏驅(qū)動電路21 時,從該盤切換兼象差校正用線圏驅(qū)動電路21向盤切換兼象差校正 用線圏5輸出驅(qū)動信號。其結(jié)果是激光光路控制元件4位移到箭頭 A方向的第2光盤用操作位置上。圖3表示激光光路控制元件4位移 到該第2光盤用操作位置上的狀態(tài),激光Lh作為發(fā)散光入射到物鏡 8上。若光盤D被識別為是第2光盤,則如前所述,從所述控制電路 17向盤切換兼象差校正用線圍驅(qū)動電路21輸出信號,該信號是用于 變到用來執(zhí)行記錄在該第2光盤的信號記錄層L2上的信號的讀出操 作的狀態(tài)的信號,此時,還向孔徑限制元件驅(qū)動電路22輸出信號, 該信號是用于變到用來執(zhí)行記錄在第2光盤的信號記錄層L2上的信 號的讀出操作的狀態(tài)的信號。在將該信號輸入到所述孔徑限制元件驅(qū)動電路22之后,從該孔 徑限制元件驅(qū)動電路22向孔徑限制元件8輸出驅(qū)動信號。其結(jié)果是 所述孔徑限制元件8變成這樣一種狀態(tài)將物鏡7的數(shù)值孔徑限制為 0.65。圖3所示的狀態(tài)表示激光光路控制元件4和孔徑限制元件8處于 第2光盤用操作位置以及孔徑限制位置的狀態(tài),這一位置適于執(zhí)行記 錄在第2光盤的信號記錄層L2上的信號的讀出操作。該狀態(tài)能使激 光的光點對焦到信號記錄層L2上。由于處于該狀態(tài)時,會將基于從 光檢測器10得到的信號由聚焦誤差信號生成電路15生成的聚焦誤差 信號以及由循跡誤差信號生成電路16生成的循跡誤差信號輸入給控 制電路17,因此,由聚焦線圍11執(zhí)行物鏡7朝向光盤D的信號面方 向位移操作、以及由循跡線圍12執(zhí)行物鏡7朝向光盤D的徑向位移
      因此,執(zhí)行光拾取裝置的聚焦控制操作以及循跡控制操作,就能夠執(zhí)行記錄在光盤D的信號記錄層L2上的信號的再現(xiàn)操作。該再現(xiàn) 信號可通過對從RF信號生成電路14生成的RF信號執(zhí)行解調(diào)而得到 信息數(shù)據(jù)。如前所述,可使激光光路控制元件4移動到適于讀出記錄在信號 記錄層L2上的信號的第2光盤用操作位置上,該第2光盤用操作位 置被設(shè)定為球面象差為最小的位置。該位置的設(shè)置操作也可以設(shè)定 為再現(xiàn)信號內(nèi)所包含的抖動值為最合適的位置、RF信號的電平為 最大的位置、或者是循跡誤差信號的電平為最大的位置。執(zhí)行前述調(diào)整操作并入射到物鏡7上,能夠最大地抑制照射到光 盤D的信號記錄層L2上的激光光點中所呈現(xiàn)的球面象差,但由于物 鏡7在徑向上位移而產(chǎn)生了彗形象差。若物鏡7沿徑向位移,則從循 跡線圍驅(qū)動電路19提供給循跡線團(tuán)12的驅(qū)動信號內(nèi)所包含的直流電 壓的值發(fā)生變化,因此,物鏡位移量檢測電路23通過檢測該直流電 壓值來執(zhí)行檢測物鏡7的位移量的操作。在利用所述物鏡位移量檢測電路執(zhí)行了檢測操作后,將該檢測輸 出輸入到彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路24.其結(jié)果是基于存儲在所述 彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電路24內(nèi)的數(shù)據(jù),而向控制電路17輸出與物 鏡的位移量相應(yīng)的、校正彗形相差的彗形象差校正用傾斜控制信號。當(dāng)向所述控制電路17輸入了來自所述彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲電 路24的彗形象差校正用傾斜控制信號,則將為根據(jù)由盤歪斜檢測電 路20之前檢測出的盤的歪斜相對應(yīng)地執(zhí)行傾斜調(diào)整所設(shè)定的信號與 所述彗形象差校正用傾斜控制信號相加,并將相加后的控制信號提供 給傾斜控制信號生成電路25。當(dāng)將該控制信號輸入給傾斜控制信號生成電路25時,從該傾斜將該傾;控制信號輸入°到所^傾斜線團(tuán)驅(qū)動電路26時,從該傾斜^ 團(tuán)驅(qū)動電路26向傾斜線閨13提供驅(qū)動信號。當(dāng)將該驅(qū)動信號提供給
      傾斜線圏13時,由該傾斜線圏13執(zhí)行用于改變物鏡7相對于光盤D 的信號面的光軸的操作、即傾斜調(diào)整操作。通過執(zhí)行該傾斜控制操作 能夠抑制彗形象差。另外,由于在第l光盤和第2光盤中產(chǎn)生的彗形象差的大小和物 鏡的位移量之間的關(guān)系在兩種光盤之間是不同的,因此,將用于校正 各光盤的彗形象差所適合的校正數(shù)據(jù)存儲在彗形象差校正數(shù)據(jù)存儲 電路24中。本實施方式,由于利用為了校正光軸相對于光盤信號面的歪斜所 設(shè)置的傾斜線圏來校正彗形象差,因此,能夠簡化這樣構(gòu)成的光拾取 裝置的光學(xué)結(jié)構(gòu)通過改變物鏡的數(shù)值孔徑來執(zhí)行記錄在距離激光入 射面的距離不同的位置上設(shè)置有信號記錄層標(biāo)準(zhǔn)不同的光盤上的信 號的讀取操作。因此,根據(jù)本實施方式,不僅能夠提高光拾取裝置的信號再現(xiàn)特 性或信號記錄特性,還能夠便宜地制造光拾取裝置.以上前述的發(fā)明的實施方式是為了容易理解本發(fā)明而做的,并不 用來限定、解釋本發(fā)明。本發(fā)明還包含不脫離其宗旨經(jīng)過變更、修改 可得到的內(nèi)容、同時本發(fā)明還包含其等價物。
      權(quán)利要求
      1、一種光拾取裝置,對從光盤的入射面入射利用物鏡會聚的激光并存儲在信號記錄層的信號進(jìn)行讀取,其特征在于,具有使上述物鏡在朝向上述光盤的面的方向上位移的聚焦線圈;使上述物鏡在上述光盤的徑向上位移的循跡線圈;校正上述物鏡的光軸相對上述光盤的面的歪斜的傾斜線圈;變更上述激光相對上述物鏡的入射角,以使上述激光對焦到上述光盤的上述信號記錄層上的入射角變更元件;控制所述傾斜線圈的驅(qū)動,以校正彗形象差的傾斜控制部。
      2、 如權(quán)利要求l所述的光拾取裝置,其特征在于 上述傾斜控制部根據(jù)上述物鏡的位移量,生成提供給上述傾斜線團(tuán)的驅(qū)動電流。
      3、 如權(quán)利要求2所述的光拾取裝置,其特征在于 上述傾斜控制部具有根據(jù)提供給上述循跡線團(tuán)的驅(qū)動電流,檢測上述物鏡相對上述徑向的位移量的位移量檢測電路,根據(jù)在上述位移檢測電路檢測出的上述物鏡相對上述徑向的位 移量,生成供給上述傾斜線圏的驅(qū)動電流。
      4、 如權(quán)利要求3所述的光拾取裝置,其特征在于 上述傾斜控制部具有存儲校正數(shù)據(jù)的存儲電路,該校正數(shù)據(jù)是用于校正與上述位移量檢測電路檢測的上述物鏡相對上述徑向的位移 量對應(yīng)的上述彗形象差,根據(jù)從上述存儲電路讀出的上述校正數(shù)據(jù),生成提供給上述傾斜 線團(tuán)的驅(qū)動電流,
      5、 如權(quán)利要求l所述的光拾取裝置,其特征在于,具有 在從作為自激光入射面到信號記錄層的距離不同的所述光盤的第1光盤和第2光盤分別讀取信號時,變更數(shù)值孔徑的物鏡;變更上述物鏡的數(shù)值孔徑,以使上述激光對焦到上述第1光盤及 第2光盤的上述信號記錄層的數(shù)值孔徑變更元件。
      6、 如權(quán)利要求4所述的光拾取裝置,其特征在于,具有 在從作為自激光入射面到信號記錄層的距離不同的所述光盤的第1光盤和第2光盤分別讀取信號時,變更數(shù)值孔徑的物鏡;變更上述物鏡的數(shù)值孔徑,以使上述激光對焦到上述第1光盤及 第2光盤的上述信號記錄層的數(shù)值孔徑變更元件。
      7、 如權(quán)利要求l所述的光拾取裝置,其特征在于 上述入射角變更元件設(shè)置在從激光二極管發(fā)射的上述激光的光路內(nèi),并在上述激光的光軸方向上位移,以校正球面象差。
      8、 如權(quán)利要求6所述的光拾取裝置,其特征在于,還具有 檢測轉(zhuǎn)臺上的上述第1光盤和第2光盤相對基準(zhǔn)面歪斜的歪斜檢領(lǐng)'J電路,上述傾斜控制部根據(jù)從上述存儲電路讀出的上述校正數(shù)據(jù)以及 在上述歪斜檢測電路檢測出的上述轉(zhuǎn)臺上的光盤的歪斜,生成提供給 上述傾斜線圍的驅(qū)動電流。
      全文摘要
      一種光拾取裝置,對從光盤的入射面入射利用物鏡會聚的激光并存儲在信號記錄層的信號進(jìn)行讀取,其特征在于,具有使上述物鏡在朝向上述光盤的面的方向上位移的聚焦線圈;使上述物鏡在上述光盤的徑向上位移的循跡線圈;校正上述物鏡的光軸相對上述光盤的面的傾斜的傾斜線圈;變更上述激光相對上述物鏡的入射角,以使上述激光對焦到上述光盤的上述信號記錄層上的入射角變更元件;控制所述傾斜線圈的驅(qū)動,以校正彗形象差的傾斜控制部。
      文檔編號G11B7/09GK101159144SQ200710152978
      公開日2008年4月9日 申請日期2007年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2006年10月6日
      發(fā)明者川崎良一, 真坂茂樹 申請人:三洋電機(jī)株式會社;三洋光學(xué)設(shè)計株式會社
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