專利名稱：一種與非磁性金屬合金膜的生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種與非磁性金屬合金膜的生產(chǎn)工藝，尤其是磁性層與非磁性層界面處不僅有沿膜面法向的平移不變性的中斷，還有晶格不匹配引起的應(yīng)力，兩種原子混合引起的界面合金化、粗糙度和電子軌道雜化等決定生產(chǎn)工藝的制造水平。
背景技術(shù)：
目前，采用的存儲(chǔ)介質(zhì)是具有垂直磁化的非晶稀土一過(guò)渡金屬合金膜，盡管對(duì)其單軸磁各向異性、熱穩(wěn)定性的機(jī)制還不十分清楚。為滿足信息化時(shí)代對(duì)圖、文、聲、像等海量信息的數(shù)字化處理，提高記錄介質(zhì)的存儲(chǔ)密度一直是光盤存儲(chǔ)技術(shù)的主要發(fā)展目標(biāo)之一， 并希望有對(duì)短波長(zhǎng)激光記錄靈敏的、穩(wěn)定的和可擦寫(xiě)的存儲(chǔ)介質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種與非磁性金屬合金膜的生產(chǎn)工藝，它可以相當(dāng)好地滿足短波長(zhǎng)磁光存儲(chǔ)記錄介質(zhì)的需要。關(guān)注Co/Pt多層膜的另一個(gè)原因是它的垂直磁各向異性的制造環(huán)節(jié)關(guān)鍵技術(shù)。為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所采用技術(shù)方案是濺射磁光薄膜是使用多靶或復(fù)合靶，通過(guò)改變各種濺射參數(shù)來(lái)研究濺射參數(shù)與各種磁光性能之間的關(guān)系，而實(shí)際磁光盤生產(chǎn)線上大都使用合金濺射靶濺射記錄介質(zhì)膜，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是得到高品質(zhì)的合金膜樣品及相應(yīng)實(shí)驗(yàn)技術(shù)指標(biāo)、磁和磁光性能測(cè)試和生產(chǎn)技術(shù)工藝。
具體實(shí)施方式1、用己掌握的數(shù)控電子束蒸發(fā)鍍膜技術(shù)，控制CoxPth等合金膜的成份、厚度，分別使用多靶、復(fù)合靶、合金靶，以玻璃或硅片為襯底，制備各種濺射參數(shù)情況下的金屬合金膜。2、用俄歇譜儀確定膜的成份和厚度，采用透射電鏡、χ射線衍射儀分析樣品的明場(chǎng)象和合金膜衍射曲線。3、采用振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)測(cè)定樣品磁性，以及短波長(zhǎng)激光下樣品的磁光性能。4、以實(shí)驗(yàn)結(jié)果為依據(jù)，分析樣品成份、厚度以及制備參數(shù)對(duì)金屬合金膜的磁和磁光性能的影響記錄出完整的制造工藝。
權(quán)利要求
1.一種與非磁性金屬合金膜的生產(chǎn)工藝。
2.物理模型和計(jì)算機(jī)擬合計(jì)算，探討合金膜的垂直磁各向異性、飽和磁化、熱穩(wěn)定性、 矯頑力、信噪比等的起源和變化的物理機(jī)制，本技術(shù)工藝目標(biāo)為研制納米級(jí)合金模。
3.CoxPth等磁性金屬與非磁性金屬的合金膜有望成為對(duì)短波長(zhǎng)激光記錄靈敏的、穩(wěn)定的和可擦重寫(xiě)的海量信息存儲(chǔ)介質(zhì)工藝是關(guān)鍵。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種與非磁性金屬合金膜的生產(chǎn)工藝。CoxPt1-x等磁性金屬與非磁性金屬合金膜的電子束蒸發(fā)制備技術(shù)及所制備的合金膜的磁和磁光性能，其目標(biāo)是開(kāi)發(fā)適應(yīng)磁光存儲(chǔ)中直接重寫(xiě)和磁超分辯讀出技術(shù)的高密度存儲(chǔ)介質(zhì)。以實(shí)驗(yàn)結(jié)果為依據(jù)，分析不同溫度、氣壓、復(fù)合靶、合金靶等制備工藝條件以及成份、摻雜等對(duì)合金膜的磁和磁光性能的影響。
文檔編號(hào)G11B7/26GK102479529SQ20101056950
公開(kāi)日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月30日
發(fā)明者冉勤 申請(qǐng)人:冉勤