專利名稱：一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種全息元件的制作方法，尤其涉及一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元 件的制作方法。
背景技術：
全息術的研究從1960年世界上第一臺激光器的出現(xiàn)才進入一個新的階段，現(xiàn)在 已經拓展至全息干涉計量術、全息存儲、全息光學元件、全息顯微術、顯示全息、數字全息等 領域。近年來隨著激光技術和全息術的高速發(fā)展，全息光學元件也在光學信息處理、光學計 算、光纖通訊、全息存儲、激光掃描、像差矯正等方面有著重要的應用，如平視顯示器、全息 瞄具、激光護目鏡、全息掃描器、全息電影、全息防偽商標等。而可用作制作全息元件的相干 光源大多還是一些體形較大的固體和氣體激光器，如上所述的全息產品一般只能選擇體積 小重量輕的半導體激光器作為再現(xiàn)光源，這樣就會造成全息元件的記錄和再現(xiàn)光源波長的 不同。如何消除因波長變化而帶來的相關參數變化的影響就成為每個全息元件設計者必須 考慮的一個關鍵性問題。這也是長期以來束縛全息元件廣泛普及應用到光學產品中的一個 因素。目前利用常規(guī)方法制作的全息元件，基本都會因為記錄和再現(xiàn)波長的不同而在使 用時產生很大的像散，比如體全息光柵，由于體積全息圖的波長選擇性，利用532nm光源記 錄的光柵，在650nm光源下使用時，衍射角度就會發(fā)生很大的變化。利用常規(guī)方法記錄的全 息圖像不但存在再現(xiàn)角度上的差異，再現(xiàn)圖像的大小也會隨著再現(xiàn)光波長的不同而隨之發(fā) 生變化。要想消除這種差異和像散，最直接的方法就是使全息元件的記錄光源和再現(xiàn)光源 的波長相同，而目前能夠用于制作全息元件的光源要求必須是單模激光，這種光源不但價 格昂貴，而且一般體積都比較大。

發(fā)明內容
為了解決背景技術中存在的上述技術問題，本發(fā)明提供了一種工藝簡單、成本低、 誤差小的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法。本發(fā)明的技術解決方案是本發(fā)明提供了一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制 作方法，其特殊之處在于所述記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法包括以下步驟1)確定預期全息元件的相關參數；2)將步驟1)所得到的相關參數轉化成記錄光路的參數；3)根據記錄光路的參數搭建記錄光路；4)對已搭建的記錄光路進行曝光記錄并處理曝光過的全息記錄介質；5)完成全息元件的制作。上述步驟1)中預期全息元件的相關參數包括預期要做到的全息元件的參數、預 期要用到的再現(xiàn)光源波長以及要使用的記錄光源的波長。上述步驟中將相關參數轉化成記錄光路的參數的具體實現(xiàn)方式是根據預期的全息元件參數、再現(xiàn)光源以及記錄光源的波長計算出記錄光路的參數。上述步驟4)中處理曝光過的全息記錄介質的具體實現(xiàn)方式是根據所選用的膠 膜類型對曝光過的全息底版進行定影、顯影、干燥以及密封。本發(fā)明的優(yōu)點是本發(fā)明所提供的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法是基于預期要得到的 全息元件的最終參數根據一定的換算方法首先計算出記錄全息元件時需要實施的參數，并 采取相應的實施方案進行制作最終達到預期的效果，本發(fā)明正是利用這一思路進行理論分 析及實驗驗證，最終實施并完成了適合記錄和再現(xiàn)光源波長不同的全息元件的制作，制定 了一套相適應的制作方案和工藝流程，解決了長期以來記錄光源和再現(xiàn)光源波長不同的全 息元件制作中存在的問題。本發(fā)明在具體使用時，首先確定要制作全息元件的再現(xiàn)波長和 參數要求，依據所要采用的記錄光源的波長和換算方法計算出記錄時需要實施的各種參 數，通過一次記錄就能完成預期參數的全息元件的制作。本發(fā)明涉及一種全息元件的制作 方法，該全息元件記錄時所用的光源波長和再現(xiàn)應用時的光源波長可以是不同的，本發(fā)明 在顯微全息術和體積全息術理論的基礎上進行分析研究和實驗驗證，制定了一套完整的制 作方案和工藝流程，該制作過程工藝簡單、成本低，可以利用一種波長的光源一次完成多種 不同波長應用條件下的全息元件的制作，尤其適合離軸全息元件的記錄，可以一次記錄完 成全息元件的制造。
具體實施例方式本發(fā)明提供了一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，該方法包括1)確定預期要做到的全息元件的參數；2)確定預期要用到的再現(xiàn)光源波長根據預期的全息元件參數和再現(xiàn)光源與記 錄光源的波長這些已知數值，利用本發(fā)明中所提到的公式計算出記錄光路的參數，其中的 計算公式指的是以下公式
權利要求
1.一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，其特征在于所述記錄和再現(xiàn)波長 差異全息元件的制作方法包括以下步驟1)確定預期全息元件的相關參數；2)將步驟1)所得到的相關參數轉化成記錄光路的參數；3)根據記錄光路的參數搭建記錄光路；4)對已搭建的記錄光路進行曝光記錄并處理曝光過的全息記錄介質；5)完成全息元件的制作。
2.根據權利要求1所述的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，其特征在于所 述步驟1)中預期全息元件的相關參數包括預期要做到的全息元件的參數、預期要用到的 再現(xiàn)光源波長以及要使用的記錄光源的波長。
3.根據權利要求2所述的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，其特征在于所 述步驟幻中將相關參數轉化成記錄光路的參數的具體實現(xiàn)方式是根據預期的全息元件參數、再現(xiàn)光源以及記錄光源的波長計算出記錄光路的參數。
4.根據權利要求3所述的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，其特征在于所 述步驟4)中處理曝光過的全息記錄介質的具體實現(xiàn)方式是根據所選用的膠膜類型對曝 光過的全息底版進行定影、顯影、干燥以及密封。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法，該方法包括以下步驟1)確定預期全息元件的相關參數；2)將步驟1)所得到的相關參數轉化成記錄光路的參數；3)根據記錄光路的參數搭建記錄光路；4)對已搭建的記錄光路進行曝光記錄并處理曝光過的全息記錄介質；5)完成全息元件的制作。本發(fā)明提供了一種工藝簡單、成本低、誤差小的記錄和再現(xiàn)波長差異全息元件的制作方法。
文檔編號G11B7/0065GK102053299SQ201010583230
公開日2011年5月11日 申請日期2010年12月10日 優(yōu)先權日2010年12月10日
發(fā)明者孫建華, 李雯 申請人:西安華科光電有限公司