專利名稱：光記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過利用近場來光學(xué)性地進行信號的記錄、再生的光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
在DVD等光記錄介質(zhì)的記錄和再生中使用的是由物鏡會聚的光點。波長越短、或物鏡的數(shù)值孔徑(以下稱為NA)越大，該光點的尺寸越小，就可以進行更高密度的記錄、再生。為了實現(xiàn)高密度的記錄和再生，一直以來有很多的途徑。其中，作為將物鏡的NA飛躍式地提高的方法，近年來受到注目的是使用了固體浸沒透鏡(以下稱為SIL)的光學(xué)系統(tǒng)。若使用SIL，則能夠?qū)⒃诖髿庵袨镮的光的入射側(cè)之折射率根據(jù)SIL的材質(zhì)進行提高，可將物鏡的NA大幅地增大。但是，為了經(jīng)由近場光使光從SIL向光記錄介質(zhì)高效率地傳播，需要將兩者之間的距離(以下稱為間隙)保持得非常小，達到波長的數(shù)分之一以下。由此，這也就發(fā)生了現(xiàn)有的光學(xué)系統(tǒng)中所沒有的問題。對于該問題進行詳述之前，先使用圖2A和圖2B所示的例子，對于使用了 SIL的記錄再生裝置進行說明。如圖2A所示，從光源201射出的光，經(jīng)由平行光管202成為平行光線，且通過PBS (偏振光分束器)203、1/4波長板204。之后，光通過由凸透鏡205和SIL206構(gòu)成的物鏡被會聚到SIL的底面。光從SIL的底面經(jīng)由近場光到達光記錄介質(zhì)207的信號層，并被反射而通過物鏡、1/4波長板。其后，光由PBS203反射、被會聚透鏡208會聚到PD(光電探測器)209上。PD209如圖2B所示被分割成209A、209B、209C、209D這4個區(qū)域。由會聚透鏡208聚集的光作為光點201被調(diào)整到位于4個區(qū)域的中心附近的位置。來自各區(qū)域的信號被用于信息的再生、調(diào)焦、傾斜伺服等各種目的。物鏡能夠通過致動器211和傾斜調(diào)整部212等而使之沿水平、垂直、傾斜等方向調(diào)整。還有，該圖示例是為了容易說明光記錄再生裝置的基本結(jié)構(gòu)而進行了簡化的結(jié)構(gòu)。一般來說，通常所使用的記錄再生裝置其記錄再生裝用和伺服控制用會分別具有不同的光源和H)。關(guān)于ro也會根據(jù)用途使用一分為二或不進行分割的。接著，對于采用了 SIL光學(xué)系統(tǒng)時的問題進行闡述。首先，在SIL和光記錄介質(zhì)之間穩(wěn)定地保持現(xiàn)有的萬分之一左右的這一非常小的間隙，在現(xiàn)有技術(shù)中非常困難。作為對此有效的方法，提出有被稱為間隙伺服的技術(shù)。該方法由專利文獻I等公開。該方法中，隨著間隙的大小而變化的、來自SIL的底面的全反射區(qū)域的反射光量通過PD209得以檢測，與該反射光量相應(yīng)的信號被輸入到間隙伺服回路，且、驅(qū)動致動器211而使間隙控制為恒定。來自全反射區(qū)域的反射光量，如圖3所示，在間隙充分大時其為恒定。但是，若間隙處于波長的二分之一以下左右的近場區(qū)域，則反射光量具有隨著間隙變小而變小的性質(zhì)。因此，能夠根據(jù)反射光量估算間隙的大小。另外，在SIL光學(xué)系統(tǒng)的非常小的間隙下，即使SIL的底面和光記錄介質(zhì)的表面只有一點點傾斜，也會有容易發(fā)生接觸這樣的問題。對此，還提出有與間隙伺服同樣地利用來自SIL的底面的全反射區(qū)域的反射光之傾斜伺服技術(shù)。該方法中，因傾斜度變得不均勻的間隙所發(fā)生的反射光的非對稱性通過PD209得以檢測，由傾斜伺服回路驅(qū)動傾斜調(diào)整部，從而對傾斜進行適當?shù)目刂啤Ｔ谠搩A斜伺服中，提出有使用有別于記錄再生光的光源的方法和使用同一光源的方法。從制造成本和調(diào)整的容易度的觀點出發(fā)，強烈期望使用同一光源的方法，但卻存在后述的課題，還沒有達到實用化。作為使用同一光源的技術(shù)，例如提出有專利文獻2、專利文獻3等方法。專利文獻I :再公表03/021583號公報 專利文獻2 :特開2005-259329號公報專利文獻3 :特開2006-4596號公報但是，上述所示的這種傾斜伺服具有下述的課題。第一，所具有的課題是，在開始傾斜伺服之前，SIL底面和光記錄介質(zhì)碰撞的可能性高。如果使用上述的傾斜伺服，則在傾斜大致接近零的區(qū)域，能夠?qū)A斜較小地保持。但是，在開始傾斜伺服時就留有如下的重大課題。在不使用SIL的現(xiàn)有的光學(xué)系統(tǒng)中，即使是在傾斜伺服開始前的狀態(tài)下，避免物鏡與光記錄介質(zhì)的接觸也很容易。但是在使用SIL的光學(xué)系統(tǒng)中，因為間隙非常小，所以在開始傾斜伺服前，SIL和光記錄介質(zhì)的表面只要稍微地傾斜就容易發(fā)生碰撞，而使SIL受到損傷的可能性非常高。第二，專利文獻2所述的傾斜伺服技術(shù)中，需要在使光記錄介質(zhì)靜止的狀態(tài)下進行傾斜的初期調(diào)整。因此，就具有實際上對光記錄介質(zhì)的信息層訪問的時間變長這樣的課題。另外，一旦SIL與光記錄介質(zhì)發(fā)生接觸，就會導(dǎo)致污染或是損傷，其危險非常高。第三，所具有的課題是，專利文獻3所述的傾斜伺服技術(shù)中，因為光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜，所以調(diào)整非常困難。記錄再生光和傾斜伺服使用不同的光源的其他現(xiàn)有的傾斜伺服技術(shù)，也同樣具有因光學(xué)系統(tǒng)復(fù)雜而引發(fā)的課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明鑒于以上的情況而形成。本發(fā)明的目的在于，提供一種具有在使用SIL光學(xué)系統(tǒng)的光記錄再生中將記錄再生光的一部分也利用于傾斜伺服的單純的光學(xué)系統(tǒng)、且在傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質(zhì)不會發(fā)生碰撞的方法。(用于解決課題的方法)為了達成上述的目的，本發(fā)明的光記錄再生方法中，實施如下伺服，S卩，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質(zhì)反射所得到的反射光，對光記錄介質(zhì)表面和SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質(zhì)的表面的傾斜，其中，該光記錄再生方法具有如下工序(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態(tài)下開始間隙伺服，并且使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動的工序；(B)所述傾斜伺服的開始的工序；(C)通過將所述間隙縮小而使SIL在既定的位置配置的工序，按順序進行所述(A)至(C)的工序。在此,所謂將焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動,例如不僅包括該焦點位于光記錄介質(zhì)本身的情況，也包括其位于SIL和記錄介質(zhì)之間的間隙的情況。所謂既定的位置，例如是用于記錄再生的位置。另外，所謂光例如是記錄再生用的光。還有，在(A)的工序中，在間隙比進行光記錄再生時要大的狀態(tài)下開始間隙伺服、和使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動，其順序顛倒也可。 在此，因為是在SIL最接近光記錄介質(zhì)之前開始傾斜伺服，所以能夠使SIL和光記錄介質(zhì)的接觸的可能性達到最小。另一方面，間隙越大，來自SIL的底面的反射光的非對稱性越小(光學(xué)增益的降低)，傾斜伺服的開始變得困難。但是，在前述(A)的工序中，通過使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動，在SIL的底面中的記錄再生光的截面(以下稱為SIL的出射面)擴展，反射光的非對稱性變大(光學(xué)增益的增大)，因此能夠使傾斜伺服穩(wěn)定地開始。此外，在前述(A)的工序中，將焦點按照與在光記錄介質(zhì)的可合焦的信號層之中、從SIL的底面看處于最遠位置的信號層相接近的方式移動也可。在此，所謂將焦點按照接近信號層的方式移動，是指盡可能地接近作為目標的信號層，包括焦點位置至信號層上為止移動的情況，也包括不在信號層上而至其附近為止移動的情況。此外這時，在上述焦點的移動中，利用聚焦伺服的初始條件也可。在此，能夠使光迅速地與最遠位置的信號層合焦。取而代之的是，在前述的(A)的工序中，將焦點按照與在光記錄介質(zhì)的可合焦的信號層之中、從SIL的底面看處于最近位置的信號層相接近的方式移動也可。此外這時，在焦點的移動中，利用聚焦伺服的初始條件也可。在此，能夠使光迅速地與最近位置的信號層合焦。此外，在具有從同一面?zhèn)瓤梢院辖沟男盘枌拥墓庥涗浗橘|(zhì)中，根據(jù)SIL的底面和光記錄介質(zhì)的信號層的距離，使所述傾斜伺服的回路增益變化也可。在此，通過對光學(xué)增益的變化量進行補正，能夠使傾斜伺服穩(wěn)定。這時，SIL的底面和各信號層的距離越大，光學(xué)增益就越大，因此回路增益減小也可。此外，本發(fā)明的光記錄再生方法中，在所述(A)的工序中，通過使用聚焦伺服來檢測SIL的底面的位置也可。由此，即便在光學(xué)系統(tǒng)偏移發(fā)生時，將焦點位置高精度地移動至既定的位置也可。此外，在本發(fā)明的光記錄再生方法中，在所述(B)工序中，使所述光的SIL出射面的直徑Do調(diào)整為7 y m以上90 y m以下。這具有進一步降低SIL和光記錄介質(zhì)的碰撞可能性的效果。此外，通過使SIL出射面的直徑Do調(diào)整為25 ii m以上50 ii m以下，具有進一步降低碰撞可能性的效果。
本發(fā)明的光記錄再生裝置，具有如下伺服機構(gòu)，即，間隙伺服機構(gòu)，利用由來自SIL底面的光在光記錄介質(zhì)反射所得到的反射光，對光記錄介質(zhì)的表面和所述SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服機構(gòu)，對所述光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服機構(gòu)，利用所述反射光，控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質(zhì)的表面的傾斜，其中，所述光記錄再生裝置實施如下步驟(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態(tài)下開始間隙伺服，并且使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將SIL在既定位置配置的步驟，并且，將所述㈧ (C)的步驟順次進行。本發(fā)明的計算機程序，使計算機實施如下伺服，S卩，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質(zhì)反射所得到的反射光，對光記錄介質(zhì)表面和SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和所述SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用所述反射光控制SIL的底面相對于所述光記錄介質(zhì)的表面的傾斜，其中，所述程序?qū)嵤┤缦虏襟E(A)在所述間隙比進行光記錄再生時要大的狀態(tài)下開始間隙伺服，并且使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動的步驟；(B)所述傾斜伺服的開始的步驟；(C)通過將所述間隙縮小而將SIL在既定位置配置的步驟，并且，使所述㈧ (C)步驟順次實施。本發(fā)明的光記錄介質(zhì)，是通過使用SIL光學(xué)系統(tǒng)可進行光記錄再生的光記錄介質(zhì)，所述光記錄介質(zhì)具有基板、保護層和至少一個信號層。信號層在基板和保護層之間形成，距SIL的底面的距離在O. 9 μ m以上、38 μ m以下的范圍。此外，信號層具有滿足如下條件的引入?yún)^(qū)域在λ設(shè)為來自SIL的光的波長，D設(shè)為SIL的底面的直徑或最長軸徑時，表面的傾斜度Θ滿足Θ <arCsinU/D)。并且，該引入?yún)^(qū)域在信號層的一周遍布，且在半徑方向具有20 μ m以上的寬度。在此，所謂引入?yún)^(qū)域是在光記錄介質(zhì)中進行焦點的引入的區(qū)域。引入?yún)^(qū)域例如是記錄再生裝置最初訪問的存儲有管理信息的管理區(qū)域也可。在此，光記錄介質(zhì)的表面傾斜度在可制造的范圍內(nèi)減小，且可以降低SIL與光記錄介質(zhì)的碰撞的可能性。此外，信號層在距SIL的底面的距離為3. 3μπι以上、21μπι以下的范圍也可。另外，引入?yún)^(qū)域的表面傾斜度Θ滿足Θ < arcsin( λ/2D)也可。引入?yún)^(qū)域被配置于在半徑16_以上、43_以下的范圍的位置也可，或者被配置于在半徑17mm以上、25mm以下的范圍的位置也可?；搴捅Ｗo層的折射率的差為O. 35以上也可。此外，光記錄介質(zhì)具有多個信號層和在該信號層間所形成的中間層，并且，基板和中間層的折射率的差為O. 35以上也可。 此外，上述折射率的差為O. 45以上也可。根據(jù)本發(fā)明的光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質(zhì)，即使在使用SIL光學(xué)系統(tǒng)時，也能夠在傾斜伺服開始時避免SIL與光記錄介質(zhì)碰撞。


圖I是表示第一實施方式的光記錄再生方法的流程圖的一例的2是表示第一實施方式的光記錄再生裝置的結(jié)構(gòu)和該光記錄再生裝置的H)的區(qū)域的圖。圖3是表示間隙與全反射光量的關(guān)系的圖。圖4是表示光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)例的圖。圖5是表示第一實施方式的光記錄再生方法的SIL與光記錄介質(zhì)的位置關(guān)系的 圖。圖6是表示第一實施方式的光記錄再生方法的間隙與傾斜度β的關(guān)系的圖。圖7是表示第一實施方式的光記錄再生方法的傾斜伺服的穩(wěn)定性的圖。圖8是表示第一實施方式的光記錄再生方法的出射面的直徑與偏移量的相互關(guān)系的圖。圖9是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)例的圖。圖10是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)例的圖。圖11是表示在光記錄介質(zhì)的中間層形成中現(xiàn)有的樹脂涂布方法及其課題的圖。圖12是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的制造方法的示例的圖。圖13是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的制造方法的示例的圖。圖14是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的制造工序中的凹坑的形狀例的圖。圖15是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的表面的傾斜度的圖。圖16是表示第二實施方式的光記錄介質(zhì)的折射率差和反射率的關(guān)系圖。符號說明201 光源202 平行光管203 PBS204 1/4 波長板205 凸透鏡206 SIL207 光記錄介質(zhì)208 會聚透鏡209 PD208 會聚透鏡210 光點211 致動器212 傾斜調(diào)整部213 指令機構(gòu)1001 基板1002 中間層1003 保護層
1004第二信號層1005測定范圍1101帽體1102凸起部 1103帽體端面1104凸起部端面1201凹坑1202凹坑的外端1203凹坑的內(nèi)端1204滴下區(qū)域的內(nèi)周端1205凹坑的深度1301樹脂封擋1302樹脂封擋外端1303樹脂封擋內(nèi)端1501標準1502標準
具體實施例方式(第一實施方式)一邊參照附圖，一邊對于本發(fā)明的第一實施方式的記錄再生方法和實施該方法的記錄再生裝置進行說明。圖I表示本實施方式的光記錄再生方法的流程圖的一例，圖2表示本實施方式的光記錄再生裝置的一例，圖4表示能夠用于本實施方式的光記錄再生方法的光記錄介質(zhì)的結(jié)構(gòu)例。還有，所謂本實施方式的光記錄再生，是指光學(xué)性地進行記錄、再生的任意一方或雙方?！垂庥涗浽偕b置〉本實施方式的光記錄再生方法，通過使用圖2所示的光記錄再生裝置來進行。如圖2(a)所示，從光源201射出的光經(jīng)由平行光管202而成為平行光線，通過PBS203、1/4波長板204。其后，光通過由凸透鏡205和SIL206構(gòu)成的物鏡被會聚到SIL的底面。光從SIL的底面經(jīng)由近場光到達光記錄介質(zhì)207的信號層、并被反射而通過物鏡、1/4波長板。其后，光被PBS203反射，被會聚透鏡208會聚到TO209。PD209如圖2(b)所示，被分割成209A、209B、209C、209D這4個區(qū)域。由會聚透鏡208聚集的光，被調(diào)整作為光點210位于4個區(qū)域的中心附近。來自各區(qū)域的信號被用于信息的再生、調(diào)焦、傾斜調(diào)整等各種目的。物鏡通過致動器211和傾斜調(diào)整部212等，就能夠在水平、垂直、傾斜等的方向上得以調(diào)整。在該光記錄再生裝置中，能夠在例如透鏡、致動器和傾斜伺服回路等各構(gòu)成元件使用現(xiàn)有技術(shù)的結(jié)構(gòu)。本實施方式的光記錄再生方法的特征在于，由這些各構(gòu)成元件構(gòu)成的功能的操作方法、步驟；本實施方式的光記錄再生裝置的特征在于，用于存儲上述光記錄再生方法并加以實行的指令機構(gòu)213。
在此，指令機構(gòu)213由存儲器和運算裝置等構(gòu)成。就指令機構(gòu)213而已，使用由存儲器所存儲的信息或根據(jù)需要從各構(gòu)成元件所輸出的信息，運算各構(gòu)成元件應(yīng)該實行的操作，且根據(jù)其運算結(jié)果對各構(gòu)成元件輸出初始條件、操作步驟和操作方法等的指令。圖2中指令機構(gòu)213以一個部件加以表示，但是由多個部件構(gòu)成也可，被分散配置在傾斜伺服回路和間隙伺服回路等其他的構(gòu)成元件之中也可。還有，該圖示例是用于方便說明本實施方式的光記錄再生裝置的基本結(jié)構(gòu)而進行了簡易化的結(jié)構(gòu)。例如，透鏡、致動器和傾斜伺服回路等的各構(gòu)成元件只要是具備各基本功能的、不具有其形態(tài)而本實施方式的效果也不會受到破壞。另外，關(guān)于可以利用現(xiàn)有的技術(shù)的部分，在方法、裝置、介質(zhì)中均適宜省略詳細的說明?！垂庥涗浽偕椒ā?
使用圖I，對于本實施方式的光記錄再生方法的操作順序進行說明。本實施方式的光記錄再生方法，即使在SIL和光記錄介質(zhì)發(fā)生相對性地傾斜時也不會互相接觸，可以穩(wěn)定地向記錄再生狀態(tài)過渡。為此，至使SIL移動到光記錄再生時的既定的位置為止，按如下的順序進行各工序。首先，建立符合了以下三個條件的狀態(tài)(以下稱“狀態(tài)A”)。第一個條件間隙(SIL和光記錄介質(zhì)的距離)比實際進行光記錄再生時大。第二個條件記錄再生光的焦點位置位于比SIL的底面更靠光記錄介質(zhì)側(cè)。第三個條件間隙伺服開始。用于滿足這三個條件的操作，其進行的順序?qū)Ρ緦嵤┓绞降男Ч麤]有影響，但例如圖1(a)、圖1(b)、圖1(c)所示的操作順序，在順暢地進行各操作這一點上優(yōu)選。對于在將SIL配置于光記錄再生時的既定的位置之前，建立“狀態(tài)A”的優(yōu)點進行說明。在該狀態(tài)下，因為間隙比記錄再生時大，所以能夠?qū)IL和光記錄介質(zhì)接觸的可能性大幅降低。一般來說，為了極力提高近場光的傳播效率，進行記錄再生時的間隙會被設(shè)定得非常小，達λ/20左右。相對于此，“狀態(tài)Α”的間隙被保持在間隙伺服可以開始的上限，即λ/2(參照圖3)左右。由此，能夠允許的SIL和光記錄介質(zhì)的相對的傾斜度可達到10倍左右，就使SIL和光記錄介質(zhì)的接觸的可能性大幅減小。但是，在間隙為λ/2的狀態(tài)下，用于間隙伺服的光學(xué)增益(相對于間隙和傾斜的變化量的、由TO209檢測的光信號的變化的比例)小，穩(wěn)定地保持間隙伺服困難的情況也存在。這種情況下，若將“狀態(tài)Α”的間隙減小至λ /4左右，則光學(xué)增益以數(shù)倍 十倍左右大幅地增大，能夠使伺服穩(wěn)定化。關(guān)于傾斜伺服，也是間隙越大而光學(xué)增益越低，穩(wěn)定地操作變得困難。但是，在“狀態(tài)Α”下，如圖5(a)所示，記錄再生光的焦點位置位于比SIL的底面更靠光記錄介質(zhì)側(cè)，由此達成光學(xué)增益的大幅增大。對于該光學(xué)增益的增大進行說明。利用記錄再生光的傾斜伺服中，利用的是根據(jù)圖5(a)所示的dl與d2的差分而變化的TO209的光點210的非對稱性。在此，如果SIL與光記錄介質(zhì)的相對的傾斜度β相同，則dl與d2的差分與記錄再生光的出射面的直徑Do成正比。即，出射面的直徑越大，光學(xué)增益越大。在現(xiàn)有的記錄再生方法中，如圖5(b)所示，因為在SIL的底面配置有焦點的狀態(tài)下進行傾斜伺服，所以出射面就成為記錄再生光的焦點程度的大小。焦點的大小與記錄再生光的波長λ成正比，與物鏡的NA成反比。比例系數(shù)會根據(jù)光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計而多少有一些變化，但是在一般的結(jié)構(gòu)下，使用波長405nm、NAl. 65時，焦點的大小為200nm左右。相對于此，若物鏡的孔徑角(絞>9角)設(shè)為α、焦點位置的距SIL的偏移量設(shè)為A，則本實施方式的記錄再生方法中的出射面的直徑Do表示為
Do = 2*A*tan α。在此，例如如果A為Ιμπκα為60度，則Do為3.5左右。即，Do急劇增大為現(xiàn)有的方法的10 20倍，能夠?qū)σ蜷g隙大而降低的光學(xué)增益進行補償。其結(jié)果是，在“狀態(tài)Α”下也可穩(wěn)定地進行傾斜伺服。 如以上說明，在“狀態(tài)Α”下，以比以往間隙大的狀態(tài)就可以進行傾斜伺服的驅(qū)動。該“狀態(tài)Α”形成后，首先，開始傾斜伺服(圖I的工序4)。通過傾斜伺服驅(qū)動，SIL與光記錄介質(zhì)的相對的傾斜度被保持得很小，因此不會彼此接觸，可以使之向?qū)嶋H進行光記錄再生的位置接近(圖I的工序5)。在使之接近進行光記錄再生的距離、例如至20nm左右的狀態(tài)下，即使Do很小，也能夠得到用于傾斜伺服的充分的光學(xué)增益。因此，能夠自由地變更焦點位置，使之向既定的信號層合焦。在本實施方式的方法和裝置中，例如，使用圖4所示的這種光記錄介質(zhì)。圖4(a)所示的記錄介質(zhì)中，在表面形成有信號層。圖4(b)所示的記錄介質(zhì)，在一個信號層之上形成有保護層。圖4(c)所示的記錄介質(zhì)中，具有由中間層隔離的多個信號層，其中之一被形成于表面。圖4(d)所示的記錄介質(zhì)中，具有由中間層隔離的多個信號層，在表面形成有保護層。如果在圖I的工序5之后，例如即使合焦于圖4(a)、圖4(c)的第一信號層，也可以穩(wěn)定地驅(qū)動傾斜伺服。還有，圖4是在本實施方式中使用的光記錄介質(zhì)的基本結(jié)構(gòu)的示例，并沒有完全表示信號層的數(shù)量和配置的全部。以下，對于“狀態(tài)A”進行更詳細的說明。但是，在此闡述的條件和結(jié)構(gòu)，是用于最大限度獲得本實施方式的效果的條件和結(jié)構(gòu)。因此，本實施方式并不限定于以下的條件和結(jié)構(gòu)。首先，對于有關(guān)“狀態(tài)A”的第一條件進行說明。如前述，根據(jù)本實施方式的方法，因為能夠在比以往間隙大的狀態(tài)下開始傾斜伺月艮，所以能夠減小SIL和光記錄介質(zhì)的碰撞的可能性。但是也可考慮的情況是，若SIL與光記錄介質(zhì)的相對的傾斜度過大，則在成為“狀態(tài)A”的條件下的間隙的時刻就已經(jīng)發(fā)生了碰撞。在此，若設(shè)SIL與光記錄介質(zhì)的相對的傾斜度為β，設(shè)SIL的底面的直徑為D，設(shè)間隙的大小為G，則是否發(fā)生碰撞的臨界條件表示為β = arcsin (2G/D)。這時的傾斜度β和G、D的關(guān)系表示在圖6中。若記錄再生光使用400nm左右的波長，則間隙IOOnm相當于入/4、而20011111相當于λ/2。由圖形可知，為了增大β，SIL的底面的直徑D盡可能小的方法即可。另一方面，其與前述的SIL的出射面的直徑Do存在Do< D的關(guān)系。因此，為了使傾斜伺服穩(wěn)定化而增大Do，為此D大的方法即可，因此需要從兩個方面選擇平衡性的大小。雖然認為如果使Do為以往的數(shù)十倍 數(shù)百倍，則在使傾斜伺服的穩(wěn)定化上能夠得到充分的效果，但其實際的效果的調(diào)查結(jié)果如圖7所示。這是在使用NA為1.65、α為60度、λ為405nm的光學(xué)系統(tǒng)且焦點的距SIL底面的偏移量A變化的情況下、間隙G = λ /4和G= λ/2時的傾斜伺服的穩(wěn)定性的調(diào)查結(jié)果。Do是基于A和α的計算值。在此，穩(wěn)定性的評價有三個等級，伺服無法進行時為不可，可以進行但低于I分鐘就中斷時為可以，穩(wěn)定一分鐘以上時為良好。根據(jù)該結(jié)果可知，為了特別大地發(fā)揮本實施方式的效果，出射面的直徑Do為了實現(xiàn)穩(wěn)定的伺服，在G = λ /4時優(yōu)選為7μπι以上，在G =λ/2時更優(yōu)選為25 μ m以上。其中，若考慮SIL的加工和光軸調(diào)整的容限±5μπι，則SIL的底面的直徑D的適合的范圍比Do大10 μ m，優(yōu)選為17 μ m以上，更優(yōu)選為35 μ m以上。關(guān)于間隙G，從避免碰撞的關(guān)點出發(fā)，當然是大的一方為宜，優(yōu)選的近場效果開始呈現(xiàn)的λ/2，但如前述，為了得到充分的光學(xué)增益，也有需要減小至λ/4左右的情況。關(guān)于間隙G為λ/2的情況和為λ/4的情況，若計算用于避免碰撞的β的必要條 件，則G= λ /2 時，β < arcsin(λ /D),G= λ/4 時，β < arcsin ( λ/2D)。對于光記錄介質(zhì)以外的元件可以比較容易地進行傾斜的調(diào)整，但即使傾斜實質(zhì)上被調(diào)整為0，光記錄介質(zhì)的表面的傾斜度Θ也需要滿足以下的條件。在此，Θ為相對于以光記錄介質(zhì)的旋轉(zhuǎn)軸為法線之平面的傾斜度。G= λ /2 時，Θ < arcsin(λ /D),G= λ/4 時，Θ < arcsin ( λ/2D)。如果在預(yù)先已知光記錄介質(zhì)的表面的傾斜度Θ滿足該條件區(qū)域?qū)嵤┍緦嵤┓绞降挠涗浽偕椒ǎ瑒t具有能夠極力降低碰撞的可能性的效果。在此，對于滿足這些條件的光記錄介質(zhì)、本實施方式的光再生記錄方法和裝置的實現(xiàn)性進行補充。雖然詳情后述，但本實施方式中使用的光記錄介質(zhì)的試制后的結(jié)果，如果作為Θ為O. 2度左右，則可以充分穩(wěn)定地進行制造。在該值得以允許用的D通過使用圖6加以估算之際，可知在G= λ/2時，D為IOOym以下即可。另外可知，進一步能夠使傾斜伺服穩(wěn)定化的G= λ/4時，D大約為60μπι以下即可。如前述可知，用于使傾斜伺服的光學(xué)增益充分增大的條件為，D在17 μ m以上，更優(yōu)選為35 μ m以上，因此可知整體上條件充分成立。若對以上內(nèi)容進行歸納，就D、Do的大小來說，為了特別大地獲得本實施方式的效果，D的大小優(yōu)選為17 μ m以上，100 μ m以下，特別優(yōu)選為35 μ m以上，60 μ m以下。關(guān)于Do根據(jù)D來決定其上限，若考慮SIL的加工和光軸調(diào)整的容限±5 μ m，則優(yōu)選為7 μ m以上，90 μ m以下，特別優(yōu)選為25 μ m以上，50 μ m以下。還有，關(guān)于D、Do，即使在這些范圍以外，即使本實施方式的效果變小，也不會完全沒有效果。其次，對于有關(guān)“狀態(tài)A”的第二條件進行說明。首先，為了使焦點位置位于比SIL的底面更靠光記錄介質(zhì)側(cè)，就需要正確地把握焦點位置。作為最簡易的方法，是在記錄再生裝置的制造時預(yù)先使之存儲焦點位置而在記錄再生時再讀取的方法。但是，還要考慮到出于某種原因而導(dǎo)致記錄再生時和制造時焦點位置發(fā)生偏移的情況。優(yōu)選對于這種情況進行防備，定期地在創(chuàng)造“狀態(tài)A”的過程中，使焦點位置通過SIL的底面，將這時得到的聚焦信號的S形曲線檢測出，且在制造時有偏移則進行調(diào)整。另外，運用該方法時，即使預(yù)先不存儲焦點位置，也可以根據(jù)S形曲線檢測的條件，計算其后應(yīng)該移動的焦點位置而加以實行。接下來，對于焦點位置應(yīng)該位于何處進行說明。
從傾斜伺服的穩(wěn)定性的方面考慮，焦點位置的偏移量越大越優(yōu)選，如果出射面的直徑Do在前述的合適的范圍，則能夠特別高效地發(fā)揮本實施方式的效果。另一方面，從傾斜伺服穩(wěn)定化后的便利性的觀點出發(fā)，如果焦點位置以如下方式設(shè)定，則能夠得到本實施方式的新的效果。焦點位置的偏移量盡可能大時，焦點位置被移動到最接近于在最深層所配置的信號層(圖4(a)、(b)中為第一信號層，圖4(c)、圖4(d)中為第四信號層)的地方。這種情況下，就光記錄介質(zhì)而言，本實施方式的光記錄再生裝置可以合焦于全部的信號層，信號層是一個也可，是多個也可。這時，本實施方式的光記錄再生裝置預(yù)先存儲有從單側(cè)可合焦的信號層內(nèi)的、在合焦于最深層的信號層時的聚焦伺服的初始條件，并使用該條件。由此所具有的效果是，在傾斜伺服開始后，如果將間隙調(diào)整到記錄再生狀態(tài)的量，則能夠迅速地開始聚焦伺服。
另一方面，在使用具有多個信號層的光記錄介質(zhì)之際，使上述焦點位置調(diào)節(jié)到最接近于從單側(cè)可合焦的信號層內(nèi)的、被配置在最淺層的信號層(圖4的全部的情況的第一信號層)的地方，這樣的方法也有優(yōu)點。這種方法具有的效果是，例如，在存儲有光信息記錄介質(zhì)的類別、推薦的使用方法、數(shù)據(jù)的配置等的管理信息的管理區(qū)域被配置在最淺層的信號層等情況下，光記錄再生裝置最初訪問最淺層的信號層時，可縮短訪問所需要的時間。在最初合焦于最淺層的信號層的方法中，至最初的合焦為止，應(yīng)該計數(shù)的聚焦信號的S形的數(shù)目成為最小，因此也有不容易發(fā)生計數(shù)錯誤這樣的優(yōu)點。這時，本實施方式的光記錄再生裝置預(yù)先存儲有在合焦于最淺層的信號層時的聚集伺服的初始條件，并使用該條件。由此所具有的效果是，在傾斜伺服開始后，如果將間隙調(diào)整到記錄再生狀態(tài)的量，則能夠迅速開始聚焦伺服。還有，與“狀態(tài)A”沒有直接關(guān)系，但在使用具有多個信號層的光記錄介質(zhì)時，根據(jù)距所合焦的信號層的表面的距離，傾斜伺服的光學(xué)增益改變。因此，若按照與之相抵消的方式變更傾斜伺服回路的電路增益，則具能夠使傾斜伺服穩(wěn)定化的效果。這時，越是合焦于更深層的信號層，光學(xué)增益就越大，因此優(yōu)選降低回路增益。以上，對于本實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置進行了詳述。<第一實施方式的效果>根據(jù)本實施方式的光記錄再生方法和裝置，不用使用多個光源，既具有簡易的結(jié)構(gòu)，又能夠避免在傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質(zhì)碰撞。另外，能夠縮短對具有多個信號層的光記錄介質(zhì)上的信息的訪問時間?！吹诙嵤┓绞健怠垂庥涗浗橘|(zhì)〉以下，對于本發(fā)明的第二實施方式的光記錄介質(zhì)進行說明。上述的第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置，針對可以由SIL光學(xué)系統(tǒng)進行記錄再生的光記錄介質(zhì)全面具有重大的效果。但是，本實施方式的光記錄介質(zhì)至少一并具有以下的兩個特征，從而能夠更適用于第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置。第一，在光記錄再生側(cè)的距出射面的距離與“狀態(tài)A”下合適的焦點位置的偏移量A實質(zhì)上一致的位置，至少具有一個信號層。由此，在本實施方式的方法的“狀態(tài)A”下，能夠使焦點位置的偏移量A與該信號層的深度相符后，使傾斜伺服穩(wěn)定地開始。此外這種情況下，只是將間隙變更為記錄再生狀態(tài)的量，就能夠?qū)⒔裹c位置以實質(zhì)上與信號層同等的深度配置，因此能夠迅速地開始聚焦伺服。其次，對于信號層應(yīng)該配置的深度進行說明。如前述，本實施方式的記錄再生方法和裝置的效果與Do的范圍有著很大的關(guān)系，但這時的焦點位置的偏移量A隨著物鏡的孔徑角α而變化。在此，兼顧到制造上的難度和可達成的記錄密度，α在50度 75度之間進行設(shè)計是切實可行的。圖8是在α為50度、60度、75度時的出射面的直徑Do與焦點位置的偏移量A的關(guān)系之計算結(jié)果的圖。由結(jié)果可知，為了特別大地發(fā)揮第一實施方式的記錄再生方法和裝置的效果，偏移量A優(yōu)選為O. 9 μ m以上、38 μ m以下，更優(yōu)選為3. 3 μ m以上、21 μ m以下。由此可見，本實施方式的光記錄介質(zhì)，在距出射面的距離為O. 9μπι以上38μπι以 下、更優(yōu)選3. 3 μ m以上21 μ m以下的位置，至少具有一個信號層。由此具有的效果是，可以迅速地開始聚焦伺服，而使對光記錄介質(zhì)的信息進行訪問的時間縮短。即便信號層的位置稍稍脫離上述的范圍時，本實施方式的效果也不會完全喪失。第二，本實施方式的光記錄介質(zhì)中，表面的傾斜度Θ滿足Θ < arcsin( λ/D)的引入?yún)^(qū)域，按照遍布一周并在半徑方向具有20 μ m以上的寬度的方式形成。由此，在“狀態(tài)A”下，即使接近SIL直至間隙達到λ/2，也能夠?qū)⑴鲎驳目赡苄员３值梅浅５匦?。在此，弓丨入?yún)^(qū)域遍布一周并在半徑方向具有20 μ m以上的寬度，則光記錄再生裝置可以容易地訪問引入?yún)^(qū)域，而不用對光記錄介質(zhì)的信息進行訪問。還有，如果以滿足Θ < arcsin (λ/2D)的方式形成，則即使接近SIL直至間隙達到λ /4，也能夠?qū)⑴鲎驳目赡苄员３值梅浅５匦。虼烁鼮閮?yōu)選。還有，所謂引入?yún)^(qū)域，是指在光記錄介質(zhì)中進行焦點引入的區(qū)域。在本實施方式中，例如也可以是記錄再生裝置最初訪問的、存儲有管理信息的管理區(qū)域。具有上述的特征的本實施方式的光記錄介質(zhì)，還具有以下的特征，從而進一步發(fā)揮效果。本實施方式的光記錄介質(zhì)，在位于信號層的引入?yún)^(qū)域的深層的區(qū)域具有識別區(qū)域，該識別區(qū)域記錄有可以對該信號層進行識別的標識符。由此，焦點在位于該信號層或其鄰域時，就可以識別該信號層。圖9(a)和圖9(b)中，使用本實施方式的光記錄介質(zhì)的截面的示例，表示引入?yún)^(qū)域與識別區(qū)域的位置關(guān)系的一例。識別區(qū)域其形成方式為，在光記錄介質(zhì)的半徑方向的寬度上，與引入?yún)^(qū)域?qū)嵸|(zhì)上一致或比引入?yún)^(qū)域大。由此，如果在引入?yún)^(qū)域中有焦點引入，則能夠確實地讀取識別區(qū)域的信息。還有，標識符優(yōu)選作為凹點序列或蛇行(wobbling)溝槽等的形狀被記錄，使其再生信號的S/N比主數(shù)據(jù)的再生信號的S/N比大，使之在聚焦伺服未驅(qū)動的狀態(tài)下也可被預(yù)先讀取即可。例如，如果使凹點序列或蛇行溝槽的基本周期為主數(shù)據(jù)的記錄所使用的凹點或標記之中最短的長度的10倍以上，則能夠比較容易地讀取。在此，所謂主數(shù)據(jù)是用戶可以利用的信息，占光記錄介質(zhì)的存儲容量的大部分。還有，識別區(qū)域不在全部的信號層上形成也可，例如還有的利用法是，只形成于最深層的信號層上，讀取該標識符時，焦點偏移不再增大。
另外，本實施方式的光記錄媒體，在位于信號層的引入?yún)^(qū)域的深層的區(qū)域設(shè)置管理區(qū)域也可。在此，所謂管理區(qū)域，是存儲所推薦的使用方法、數(shù)據(jù)的配置等的管理信息的區(qū)域。由此，在引入?yún)^(qū)域聚焦伺服驅(qū)動后，不用在半徑方向移動，或者以最小限度的移動量就可以迅速地訪問管理信息。引入?yún)^(qū)域和管理區(qū)域的半徑方向的位置關(guān)系，可以與引入?yún)^(qū)域和識別區(qū)域的位置關(guān)系一樣。還有，管理區(qū)域不需要在全部的層上配置。另外，管理區(qū)域因為以下幾點而優(yōu)選配置在最 初應(yīng)該合焦的信號層上。如果將管理區(qū)域配置在最深層的信號層上，則具有的優(yōu)點是，在“狀態(tài)A”下的焦點位置的偏移加大后，容易縮短訪問時間。另一方面，如果配置在最淺層的信號層上，則至合焦為止，應(yīng)該計數(shù)的聚焦信號的S形的數(shù)目成為最小，因此也有不容易發(fā)生計數(shù)錯誤這樣的優(yōu)點。以下，表示本實施方式的光記錄介質(zhì)的制造方法的示例。圖10(a)和圖10(b)是表示呈有中心孔的圓盤形狀的本實施方式的光信息記錄介質(zhì)的示例?；?001能夠使用各種玻璃、金屬、硅、聚碳酸脂、烯烴和PMMA等可形成平面的各種材料。但是，根據(jù)后述的理由，基板1001與中間層1002或保護層1003的折射率的差越大越為優(yōu)選。在此，在SIL用的光記錄介質(zhì)中，保護層或中間層的折射率高的一方容易提高記錄密度。因此，為了使保護層或中間層與基板的折射率差加大，基板優(yōu)選使用折射率比較低的材料。另外，從制造成本的觀點出發(fā)，優(yōu)選塑料材料。根據(jù)以上的觀點，例如在基板1001中特別適合使用聚碳酸酯、烯烴和PMMA等。在該基板上，以注塑成型或熱轉(zhuǎn)印等方法形成凹凸圖案，在其上使用濺射、蒸鍍或旋涂等方法形成一層以上的記錄材料，形成第二信號層1004。還有，制作再生專用的光記錄介質(zhì)時，替代記錄材料只形成反射材料也可。接著，說明中間層1002的形成方法。首先，以旋涂法、絲網(wǎng)印刷或噴墨印刷等方法，涂布構(gòu)成中間層的液體的樹脂。在SIL用的光記錄介質(zhì)中，與DVD和藍光光盤等現(xiàn)有的光記錄介質(zhì)相比，物鏡的NA要大得多，焦深變淺，并且需要穩(wěn)定地保持為現(xiàn)有技術(shù)的數(shù)萬分之一、即數(shù)十nm左右的非常小的間隙。因此，就必須使中間層和后述的保護層等的厚度精度非常高，而通過液體的樹脂的涂布不易實現(xiàn)這一精度。特別存在的課題是，若同一半徑的一周內(nèi)的厚度變動大，則穩(wěn)定的記錄再生將非常困難。基于減小一周內(nèi)的厚度變動這一觀點，在前面列舉的涂布方法之中，旋涂法最為適合，因此優(yōu)選使用該方法。然而在旋涂法中，可知若涂布厚度為10 μ m以下，則會發(fā)生以下所述的全新課題。在旋涂布中，由于是以離心力使樹脂延伸，所以內(nèi)周部分的涂布厚度有變薄的傾向。特別是像光盤這樣有中心孔的形狀的情況下，因為不能直接在中心涂布，所以該傾向顯著，達成需要的厚度分布非常困難。作為其對策，提出并得到實用化的方法有，使用如圖11(a)所示的帽體1101或圖11 (b)所示的凸起部1102等來堵住中心孔，從接近中心軸的位置滴下樹脂?？墒?，若涂布厚度為ΙΟμπι以下，特別是在5μπι以下，則帽體端面1103和凸起部端面1104的一點點的起伏都會致使涂布時的樹脂的流動受到非常大的影響，可知有圖11(c)所示的這些以端面為起點的放射狀的厚度變動會大量發(fā)生。為了解決這一課題，本實施方式的光記錄介質(zhì)通過以下的方法制成。首先，如圖12(a)所示，在基板的內(nèi)周部將平緩的凹坑1201環(huán)狀地制作，成為可蓄積樹脂的構(gòu)造。利用該構(gòu)造，即使沒有帽體和凸起部，內(nèi)周部分的涂布厚度也難以變薄。凹坑的深度1205為期望涂布厚度的30倍以上時效果大。另外，需要在樹脂滴下后至延伸開始為止之間樹脂擴 展的區(qū)域整體、傾斜度連續(xù)變化。若任何一處存在不連續(xù)的傾斜度的變化，則都會發(fā)生與在帽體和凸起部的端面發(fā)生的同樣的放射狀的厚度分布。至少需要使凹坑的外端1202部分的傾斜度連續(xù)地變化，在凹坑的內(nèi)部、凹坑的內(nèi)端1203等未被樹脂覆蓋的部分，有傾斜度不連續(xù)變化的部分也可。由此，涂布的均一性比現(xiàn)有的方法有所提高?？墒?，在該方法中，雖然半徑方向的厚度變動有所改善，但是周向的厚度變動卻超過了 lOOnm。這在藍光光盤等現(xiàn)有的利用遠場光學(xué)系統(tǒng)的光記錄介質(zhì)中雖然不構(gòu)成問題，但對于SIL用的光記錄介質(zhì)來說卻是重大的課題。對于該周內(nèi)厚度變動進行調(diào)查的結(jié)果判明，圖12(b)所示的樹脂的滴下區(qū)域的內(nèi)端部1204的形狀會產(chǎn)生很大的影響。因此，如圖13(a)所示，使用在比凹坑1201更靠近中心側(cè)形成有同心圓狀的樹脂封擋1301的基板進行涂布。如圖13(b)所示，使樹脂的滴下區(qū)域的內(nèi)周端與樹脂封擋外端1302成為同心圓狀之結(jié)果，即使進行平均3. O μ m的涂布時，也能夠?qū)⒅軆?nèi)的厚度變動急劇減小到20nm以下。另外，如圖13(a)所示，通過從樹脂封擋外端向內(nèi)周側(cè)隆起的狀態(tài)下滴下樹脂，對于半徑方向的厚度分布來說，可改善內(nèi)周部變薄的傾向。作為樹脂封擋的形狀，只要位于比凹坑更靠中心側(cè)，傾斜度不連續(xù)地變化即可。另外，如圖14(a)所示，從凹坑向樹脂封擋的傾斜度的變化Y優(yōu)選為45度以上，更優(yōu)選為90度以上。此外，為了積極地利用樹脂向內(nèi)周的隆起，樹脂封擋內(nèi)端與樹脂外端的距離優(yōu)選相距50 μ m以上，更優(yōu)選為100 μ m以上。還有，這些不是必要的條件。作為本實施方式的樹脂封擋的示例，如圖14(b)所示形成為凸狀也可，如圖14(c)所示形成為階梯狀也可，如圖14(d)、圖14(e)所示，比樹脂封擋內(nèi)端1303更靠內(nèi)周側(cè)的基板的高度、與比凹坑的外端1202更靠外周側(cè)的基板的高度有所不同也可。另外，如圖14(f)，在凹坑的內(nèi)端傾斜度不連續(xù)、Y為45度以上時，實質(zhì)上凹坑內(nèi)端與樹脂封擋外端1302相同，也能夠得到本實施方式的效果。還有，本實施方式的光記錄介質(zhì)的制造工序中的樹脂封擋的形狀，具有上述的特征即可，而并不受圖中的示例的形狀所限定。另外，上述的本實施方式的光信息記錄介質(zhì)，不論中間層、保護層等的用途和構(gòu)成材料，在用于形成涂布厚度為ΙΟμπι以下、并要求有高精度的厚度均一性的光透射層的旋涂法中，都具有很大的效果。另外，凹坑、樹脂封擋即使均單獨使用，也能夠發(fā)揮各自固有的效果。在上述光記錄介質(zhì)的制造方法中，涂布中間層樹脂后，為了轉(zhuǎn)印凹點和溝槽等凹凸形狀，而在真空中將轉(zhuǎn)印基板重疊在中間層樹脂之上。接著，進行UV照射，使中間層樹脂固化后，剝離轉(zhuǎn)印基板，完成中間層1002.其后，與第二信號層同樣地形成第一信號層。接下來，使用上述的涂布方法涂布保護層樹脂，進行UV照射使之固化，從而完成本實施方式的光記錄介質(zhì)。還有，在此是舉例說明本實施方式的光記錄介質(zhì)具有兩個信號層的情況。但是，本實施方式的光記錄介質(zhì)并不限制信號層的數(shù)量，通過省略或重復(fù)上述制造方法的一部分工序，不論信號層的數(shù)量多少都能夠制造。
如上述，對于SIL光學(xué)系統(tǒng)用的光記錄介質(zhì)的中間層和保護層，要求有現(xiàn)有技術(shù)所沒有的非常高精度的厚度均一性。因此，為了使用液體樹脂制作光記錄介質(zhì)，就需要采用以往所沒有的方法。本實施方式的光記錄介質(zhì)的凹坑和樹脂封擋，是可以使厚度均一性提高的例子。與之相關(guān)，在本實施方式的光記錄介質(zhì)的制造方法中，對于優(yōu)選中間層和保護層與基板的折射率差大的方法的理由進行說明。通過中間層和保護層與基板的折射率差的增大，能夠取得以下所述的制造上的優(yōu)點。在制造中，為了減小光記錄介質(zhì)的固體間的厚度變動量，重要的是一邊監(jiān)控厚度的變化，一邊適宜對涂布條件進行微調(diào)。在現(xiàn)有的光記錄介質(zhì)的制造中，如圖1(K6)中所示的例子，利用來自信號層的記錄材料和反射材料的反射來對中間層和保護層的厚度進行 測量。因此，在現(xiàn)有的光記錄介質(zhì)中，能夠測量厚度的只有構(gòu)成信號層的上方的測量范圍1005。還有，所謂這里的信號層，是指形成有記錄材料和反射材料的全部區(qū)域，并非需要由凹點、標記或溝槽等記錄信號，或不一定非要可以進行記錄。相對于此，在本實施方式的光記錄介質(zhì)中，通過保護層和中間層與基板的折射率之差的增加，而使來自基板與中間層、或基板與保護膜的邊界的反射率提高。由此，在更容易受到制造工序中發(fā)生變動的要素的影響的測量范圍1005以外的區(qū)域，可以進行厚度測量。具體來說，通過監(jiān)控測量范圍1005以外的區(qū)域，相對于現(xiàn)有的光記錄介質(zhì)的情況來說，能夠更早期把握在制造工序中產(chǎn)生的厚度變動。其結(jié)果是，可以制造品質(zhì)比以往更穩(wěn)定的光記錄介質(zhì)。此外，測量范圍1005之中厚度變化微小的情況下，則不可能進行厚度變動的檢測。但是，在本實施方式的光記錄介質(zhì)中，關(guān)于實際使用時成為問題的這種微小厚度變動，也能夠在測量范圍1005以外存在主要原因的情況等、以該主要原因作為厚度變動而加以檢測。圖16中，在基板的折射率為I. 5和I. 6時，按折射率差表示來自基板與接觸基板的中間層的界面的反射率、或來自基板與保護層的界面的反射率。各折射率差是基板與接觸基板的中間層的折射率差、或基板與保護層的折射率差。如果反射率為1.0%左右，則可以充分進行光記錄介質(zhì)的厚度測量。因此由該圖可知，基板的折射率從I. 5到I. 6時，折射率差為O. 35左右即可。此外，如果為I. 5%左右的反射率，則也可以進行使用拾取頭的各種伺服和信號的再生。因此，如果按照折射率差為O. 45左右的方式選擇各層的材料，則也可以制造在信號層上不需要使用記錄材料和反射材料的非常廉價的再生專用介質(zhì)。為了實現(xiàn)上述這樣的折射率差，例如在厚度測量用的光和記錄再生光使用波長400nm的光時，基板使用折射率I. 5的PMMA和折射率I. 6的聚碳酸酯等即可，中間層和保護層使用在丙烯酸系UV固化樹脂中添加有氧化鈦或氧化鋯的添加劑的物質(zhì)即可。作為丙烯酸系UV固化樹脂，折射率超過I. 8的得到實用化，或氧化鈦或氧化鋯的添加劑其折射率為2. 3以上的被實用化。此外，添加劑的添加量以重量百分比濃度計，能夠提聞到70%左右，因此可以充分實現(xiàn)折射率為2. I左右的樹脂。如果使這些基板材料和丙烯酸系UV固化樹脂組合，則可以將兩者的折射率差增加至O. 6左右。還有，本實施方式的光記錄介質(zhì)能夠?qū)崿F(xiàn)上述所示的折射率的差即可，使用上述所列示例以外的材料進行制造，也能夠發(fā)揮出其折射率差所對應(yīng)的效果。以上，說明了本實施方式的光記錄介質(zhì)的制造方法。最后，表不實際以該方法試制本實施方式的光記錄介質(zhì)時的表面的傾斜度，對于該光記錄介質(zhì)的引入?yún)^(qū)域的配置進行說明。圖15表示，在制作具有兩個信號層的本實施方式的光記錄介質(zhì)10片時的、光記錄介質(zhì)的表面的傾斜度的一周內(nèi)的最大值。兩個圖形是10片的平均值加上標準偏差O的值、和10片的平均值加上3 σ的值。10片的平均值加上σ的值統(tǒng)計上包含總生產(chǎn)量的68%。當然，由10片的試制結(jié)果求得的值在統(tǒng)計上不能作為充分的論據(jù)，但10片的平均值加上σ的值作為制造的實現(xiàn)性的目標業(yè)已充分。由圖15可知以下兩點。第一，10片的平均值加上σ的值,在半徑15mm至50mm的寬闊區(qū)域中為O. 2度以 下。O. 2度如前述，是作為適用于本實施方式的光記錄再生方法的記錄介質(zhì)的充分條件。因此，由該數(shù)值可知，用于本實施方式的光記錄再生方法的光記錄介質(zhì)可以充分地進行制造。第二，由于周內(nèi)最大傾斜度依存于半徑，所以能夠選擇應(yīng)該配置引入?yún)^(qū)域的半徑。當然，引入?yún)^(qū)域可以配置在周內(nèi)最大傾斜度小的半徑上。由半徑方向的差很容易看出，若使用10片的平均值加上3σ的值，并考慮傾斜度比較小的半徑，則優(yōu)選在標準1501以下的，即半徑16mm以上、43mm以下,更優(yōu)選在標準1502以下的，即半徑17mm以上、25mm以下。還有，在此使用的標準本身并不具有特別的意義，而是為了選擇周內(nèi)最大傾斜度相對小的半徑范圍而方便使用的標準。另外，本實施方式的引入?yún)^(qū)域只要是表面的傾斜度比O. 2度小的地方，則即使配置在上述以外的地方，也能夠得到本實施方式的效果?！吹诙嵤┓绞降男Ч蹈鶕?jù)本實施方式的光記錄介質(zhì)，能夠避免在傾斜伺服開始時SIL與光記錄介質(zhì)碰撞。另外，通過與第一實施方式的光記錄再生方法和光記錄再生裝置一起使用，能夠更確實地避免SIL與光記錄介質(zhì)碰撞。產(chǎn)業(yè)上的可利用性本發(fā)明的光記錄再生方法、光記錄再生裝置、程序和光記錄介質(zhì)，在使用SIL光學(xué)系統(tǒng)的光記錄再生上適用，另外還適用為這種光記錄再生的光記錄介質(zhì)。
權(quán)利要求
1.一種通過使用SIL光學(xué)系統(tǒng)可進行光記錄再生的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述光記錄介質(zhì)具有 基板； 保護層；和 在所述基板和所述保護層之間所形成的至少一個信號層， 所述信號層的距所述SIL的底面的距離在0. 9 y m以上且38 y m以下的范圍， 所述信號層具有引入?yún)^(qū)域， 在 ' 設(shè)為來自所述SIL的光的波長、D設(shè)為所述SIL的底面的直徑或最長軸徑時，所述引入?yún)^(qū)域中的所述光記錄介質(zhì)的表面的傾斜度Q滿足Q < arcsin( A /D), 并且，所述引入?yún)^(qū)域在所述信號層的一周遍布，且在半徑方向具有20pm以上的寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述信號層在距所述SIL的底面的距離為3. 3 y m以上且21 y m以下的范圍。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述表面的傾斜度9滿足9 < arcsinO/2D)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述引入?yún)^(qū)域被配置于在半徑16mm以上且43mm以下的范圍的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述引入?yún)^(qū)域被配置于在半徑17mm以上且25mm以下的范圍的位置。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于， 所述基板和所述保護層的折射率的差為0. 35以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，還具有多個所述信號層和在所述信號層間所形成的中間層，并且，所述基板和所述中間層的折射率的差為0. 35以上。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的光記錄介質(zhì)，其特征在于，所述折射率的差為0.45以上。
全文摘要
若使用將記錄再生光并用于傾斜伺服的SIL光學(xué)系統(tǒng)，則在傾斜伺服開始前SIL和光記錄介質(zhì)碰撞的可能性高。如下可避免該碰撞。光記錄再生方法實施以下伺服，即，間隙伺服，利用由來自SIL的底面的光在光記錄介質(zhì)反射所得到的反射光，對光記錄介質(zhì)的表面和SIL的底面之間的間隙進行控制；聚焦伺服，對光的焦點和SIL的底面之間的距離進行控制；傾斜伺服，利用所述反射光控制所述SIL的底面相對于所述光記錄介質(zhì)的表面的傾斜。并且，光記錄再生方法順次進行以下工序。(A)在間隙比進行光記錄再生時要大的狀態(tài)下開始間隙伺服，并且使焦點從SIL的底面向光記錄介質(zhì)側(cè)移動的工序；(B)傾斜伺服的開始的工序；(C)通過將間隙縮小而將所述SIL在既定的位置配置的工序。
文檔編號G11B7/135GK102646430SQ20121012061
公開日2012年8月22日 申請日期2009年2月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月18日
發(fā)明者伊藤英一, 尾留川正博 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社