專利名稱:磁性復(fù)制方法及磁性復(fù)制裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用磁性復(fù)制從載有信息的主盤載體向從屬介質(zhì)的磁性復(fù)制方法及磁性復(fù)制裝置。
背景技術(shù)：
在磁性記錄介質(zhì)中一般地、隨著信息量的增加希望得到記錄大容量信息的大容量低價(jià)格，更理想地短時(shí)間內(nèi)能讀出需要的地方的，所謂高速存取可能的介質(zhì)。作為它們的一例周知的有硬盤和高密度軟盤等，為了實(shí)現(xiàn)此大容量，磁頭必需對(duì)狹窄的磁道進(jìn)行正確的掃描，用高S/N比還原信號(hào)，所謂的跟蹤伺服技術(shù)擔(dān)負(fù)著很大的作用。在磁盤的一周中，以一定間隔記錄有跟蹤用的伺服信號(hào)、地址信息信號(hào)、還原時(shí)鐘信號(hào)等所謂的預(yù)先格式。
磁頭通過讀取這種預(yù)先格式信號(hào)修正自己的位置就可能正確地在磁道上移動(dòng)?，F(xiàn)在的預(yù)先格式，是用專用的伺服記錄裝置對(duì)磁盤逐張并且逐磁道地記錄而形成的。
但是，伺服記錄裝置不僅價(jià)格高，而且預(yù)先格式化時(shí)所用時(shí)間長(zhǎng)，因而這一工序成為制造成本的一大部分，所以就希望降低這一成本。
另一方面，也提出了不采用逐磁道寫入預(yù)先格式，而是通過磁性復(fù)制方法來實(shí)現(xiàn)預(yù)先格式的方法。
磁性復(fù)制方法，是使主盤載體和從屬介質(zhì)在貼緊狀態(tài)下，對(duì)主盤載體施加復(fù)制用磁場(chǎng)對(duì)產(chǎn)生的與載有信息(如伺服信號(hào))相對(duì)應(yīng)的磁化圖案進(jìn)行復(fù)制。作為這種磁性復(fù)制方法，公布有如[特開昭63-183623號(hào)公報(bào)]、[特開平10-40544號(hào)公報(bào)]、[特開平10-269566號(hào)公報(bào)]等。這種磁性復(fù)制，如對(duì)于被磁性復(fù)制介質(zhì)的磁盤介質(zhì)等從屬介質(zhì)首先準(zhǔn)備與要復(fù)制的信息相對(duì)應(yīng)的具有凹凸圖案主盤載體，使該主盤載體和從屬介質(zhì)處于貼緊狀態(tài)，通過施加復(fù)制用磁場(chǎng)，將與主盤載體的凹凸圖案所載有的信息(如伺服信號(hào))相對(duì)應(yīng)的磁性圖案復(fù)制在從屬介質(zhì)，因此主盤載體和從屬介質(zhì)的相對(duì)位置不會(huì)產(chǎn)生變化，既可以安靜地進(jìn)行記錄，也可以正確的記錄預(yù)先格式，并且記錄所需要的時(shí)間也極短。
另外，復(fù)制用磁場(chǎng)，在從屬介質(zhì)的一面或者兩面使主盤載體處于貼緊的狀態(tài)下，在它的單側(cè)或者兩側(cè)設(shè)置由電磁鐵裝置、永久磁鐵裝置組成的磁場(chǎng)發(fā)生裝置施加磁場(chǎng)。此時(shí)，使從屬介質(zhì)與主盤在體貼緊的物體或磁場(chǎng)作相對(duì)旋轉(zhuǎn)，并在圓盤狀從屬介質(zhì)圓周上的磁道上復(fù)制磁化的圖案。
可是，在上述磁性復(fù)制方法中，為了把在主盤載體的信息載有面的將磁性層形成凹凸圖案的復(fù)制信息所準(zhǔn)確對(duì)應(yīng)的磁化圖案，復(fù)制記錄到從屬介質(zhì)的記錄面并提高復(fù)制精度，必須使主盤載體的信息載有面和從屬介質(zhì)的從屬面確保為貼緊狀態(tài)在磁道方向準(zhǔn)確施加復(fù)制用磁場(chǎng)。
但是，實(shí)際的磁場(chǎng)發(fā)生裝置產(chǎn)生的磁場(chǎng)，從從屬介質(zhì)的內(nèi)周部到外周部的全體范圍只施加與磁道方向平行的磁場(chǎng)是困難的，在周圍會(huì)產(chǎn)生漏磁場(chǎng)。這種復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)的強(qiáng)度大時(shí)，經(jīng)復(fù)制用磁場(chǎng)在從屬介質(zhì)復(fù)制記錄的正規(guī)的磁化圖案將紊亂最終無法進(jìn)行精度良好的磁性復(fù)制，復(fù)制信息為伺服信號(hào)時(shí)跟蹤機(jī)能無法充分發(fā)揮產(chǎn)生可靠性低的問題。
特別是，對(duì)于記錄有磁化圖案的從屬介質(zhì)，不施加其矯頑磁力Hcs程度的強(qiáng)度的磁場(chǎng)時(shí)磁化圖案雖不會(huì)紊亂，但與主盤載體具有的復(fù)制用凹凸圖案的信息載有面貼緊時(shí)，發(fā)現(xiàn)因凹凸圖案磁場(chǎng)將產(chǎn)生聚集，只要有矯頑磁力Hcs的1/2程度的磁場(chǎng)強(qiáng)度，磁化圖案也會(huì)紊亂。
本發(fā)明是鑒于這個(gè)問題提出的，其目的在于，提供一種磁性復(fù)制方法及磁性復(fù)制裝置，其中使主盤載體和從屬介質(zhì)貼緊施加復(fù)制用磁場(chǎng)進(jìn)行磁性復(fù)制時(shí)，規(guī)定與復(fù)制用磁場(chǎng)的施加方向的逆向作用的漏磁場(chǎng)的允許范圍，可以進(jìn)行正確的磁化圖案的復(fù)制。
另外，本發(fā)明人，在實(shí)施上述的磁性復(fù)制時(shí)，發(fā)現(xiàn)了預(yù)先將從屬介質(zhì)初始磁化后可實(shí)現(xiàn)所希望的更高品位的磁性復(fù)制，在[特愿平11-117800號(hào)]中提出了對(duì)從屬介質(zhì)施加所定的初期直流磁場(chǎng)進(jìn)行初始磁化后，使主盤載體貼緊，通過施加與此初始磁化方向逆向的復(fù)制用磁場(chǎng)進(jìn)行磁性復(fù)制的方法及裝置。但是，由于需要預(yù)先對(duì)從屬介質(zhì)進(jìn)行初始磁化的工序，比原有的磁性復(fù)制的工序還多，結(jié)果增加了時(shí)間和成本。因此，希望制造工序簡(jiǎn)化，低成本化。
鑒于上述情況，本發(fā)明的目的是提供實(shí)現(xiàn)制造工序簡(jiǎn)化，低成本化的磁性復(fù)制方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的磁性復(fù)制方法，將在對(duì)應(yīng)基板表面的信息信號(hào)的部分由磁性層形成的磁性復(fù)制用主盤載體和接受復(fù)制的從屬介質(zhì)的磁性記錄介質(zhì)貼緊施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁性復(fù)制方法，其特征為在從屬面的磁道方向施加磁場(chǎng)預(yù)先對(duì)從屬介質(zhì)在磁道方向進(jìn)行初始磁化后，使主盤載體和上述初始磁化過的從屬介質(zhì)貼緊，在從屬面的磁道方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)，進(jìn)行磁性復(fù)制時(shí)，與復(fù)制用磁場(chǎng)的上述磁道方向的逆向磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
上述復(fù)制用主盤載體的上述磁性層的理想的矯頑磁力Hcm小于48kA/m(600Oe)。
另外，理想的上述從屬介質(zhì)為硬盤、軟盤等圓盤狀磁性記錄介質(zhì)。
并且，理想的上述初始磁化方向與上述復(fù)制用磁場(chǎng)的施加方向大致為逆向。作為上述信息信號(hào)以伺服信號(hào)為最佳。
另外本發(fā)明的磁性復(fù)制裝置，具有將在對(duì)應(yīng)基板表面的信息信號(hào)的部分由磁性層形成的磁性復(fù)制用主盤載體和接受復(fù)制的從屬介質(zhì)的磁性記錄介質(zhì)貼緊施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁性復(fù)制裝置，其特征為具有對(duì)和主盤載體貼緊的從屬介質(zhì)的磁道方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置，與該磁場(chǎng)發(fā)生裝置產(chǎn)生的復(fù)制用磁場(chǎng)的上述磁道方向逆向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)記錄面的全區(qū)域小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
作為施加上述復(fù)制用磁場(chǎng)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置，雖然可以使用電磁鐵裝置或永久磁鐵裝置，但從設(shè)定調(diào)整磁場(chǎng)強(qiáng)度等方面的條件考慮希望使用電磁鐵裝置。
上述主盤載體的上述磁性層的理想的矯頑磁力Hcm小于48kA/m(600Oe)。
理想的上述從屬介質(zhì)為硬盤、軟盤等圓盤狀磁性記錄介質(zhì)。
對(duì)圓盤狀磁性記錄介質(zhì)進(jìn)行磁性復(fù)制的裝置的情形，理想的上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置是在沿上述從屬介質(zhì)的半徑方向延伸的范圍產(chǎn)生與磁道方向平行的磁場(chǎng)的裝置，是使上述從屬介質(zhì)和上述主盤載體貼緊的裝置及通過相對(duì)上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置旋轉(zhuǎn)在上述從屬介質(zhì)的全面進(jìn)行磁性復(fù)制的裝置。
本發(fā)明的磁性復(fù)制裝置，進(jìn)一步地希望對(duì)上述從屬介質(zhì)的磁化具有沿磁道方向進(jìn)行初始磁化的初始磁化裝置。
也就是說在本發(fā)明的磁性復(fù)制裝置中，一般地希望，通過初始磁化裝置，最初對(duì)從屬介質(zhì)在磁道方向?qū)嵤┲绷鞔呕某跏即呕瑢⑦@個(gè)從屬介質(zhì)和與復(fù)制信息對(duì)應(yīng)的在磁性層形成細(xì)微凹凸圖案的主盤載體貼緊以與從屬介質(zhì)的初始磁化方向略呈逆向的方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)進(jìn)行磁性復(fù)制。作為上述信息以伺服信號(hào)為佳。
另外，關(guān)于對(duì)兩面具有磁性層的從屬介質(zhì)的磁性復(fù)制，有在從屬介質(zhì)的一面將主盤載體貼緊單面逐次進(jìn)行復(fù)制的情況，和在從屬介質(zhì)的兩面分別將主盤載體貼緊兩面同時(shí)進(jìn)行復(fù)制的情況。此時(shí)，在從屬介質(zhì)的一面或兩面將主盤載體貼緊，在它的單側(cè)或兩側(cè)設(shè)置磁場(chǎng)發(fā)生裝置施加復(fù)制用磁場(chǎng)。
從屬介質(zhì)的初始磁化，使大于從屬介質(zhì)矯頑磁力Hcs的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分在磁道方向位置至少具有一處以上的磁場(chǎng)強(qiáng)度分布的磁場(chǎng)在磁道方向的局部產(chǎn)生，通過使從屬介質(zhì)或者磁場(chǎng)沿磁道方向旋轉(zhuǎn)來完成。另外，希望使大于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分只有沿磁道方向位置一個(gè)方向，逆向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在任一磁道方向位置的小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力的磁場(chǎng)強(qiáng)度分布的磁場(chǎng)在磁道方向的局部產(chǎn)生。
另外，復(fù)制用磁場(chǎng)的施加，超過最佳復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度范圍的最大值的磁場(chǎng)強(qiáng)度在磁道的任何方向均不存在，成為最佳復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度范圍內(nèi)的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分在一條磁道方向至少有一處存在，與此逆向的磁道方向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域任一磁道方向位置小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2的磁場(chǎng)強(qiáng)度分布的磁場(chǎng)在磁道方向的局部產(chǎn)生，磁性復(fù)制用主盤載體和初始磁化過的從屬介質(zhì)在貼緊的狀態(tài)下沿磁道方向旋轉(zhuǎn)，或使磁場(chǎng)沿磁道方向旋轉(zhuǎn)來完成。最佳復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度范圍為從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的0.6～1.3倍。
本發(fā)明的其他磁性復(fù)制方法，將預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)，和向該從屬介質(zhì)要復(fù)制的信息所對(duì)應(yīng)的具有凹凸圖案面的主盤載體的該凹凸面貼緊，與上述初始磁化逆向的方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁性復(fù)制方法中，其特征為預(yù)備多張的從屬介質(zhì)，將該多張的從屬介質(zhì)的各從屬介質(zhì)的磁道的中心調(diào)整一致的重疊狀態(tài)下，在該從屬介質(zhì)的磁道方向施加初期直流磁場(chǎng)對(duì)上述的多張從屬介質(zhì)同時(shí)進(jìn)行初始磁化，使上述預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)的多張同時(shí)生成。
另外，從屬介質(zhì)為軟盤時(shí)，既可以裝貼上盤芯后進(jìn)行初始磁化，也可以裝貼之前進(jìn)行。特別地，希望軟盤沖切成形后，保持重疊在儲(chǔ)料架上多張的狀態(tài)進(jìn)行初始磁化。另外，在這種情況下，希望各軟盤的表面光潔度為R＞1.5nm。
通過上述的本發(fā)明，由于在進(jìn)行磁性復(fù)制的部分與施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁道方向逆向的磁場(chǎng)強(qiáng)度為在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2，所以即使有貼緊凹凸圖案造成的磁場(chǎng)聚集，也不會(huì)受漏磁場(chǎng)的影響產(chǎn)生磁化圖案紊亂在從屬介質(zhì)的全范圍可進(jìn)行具有均一特性的正確的磁化圖案的復(fù)制，是伺服信號(hào)時(shí)可確保良好的跟蹤機(jī)能提高可靠性。
另外，構(gòu)成磁性復(fù)制裝置時(shí)，把磁性復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度規(guī)定在上述允許范圍內(nèi)，即可進(jìn)行良好的磁性復(fù)制，因此裝置全體的組裝精度、磁場(chǎng)發(fā)生裝置的磁場(chǎng)強(qiáng)度、分布等的設(shè)計(jì)就變得容易。
通過本發(fā)明的磁性復(fù)制方法，預(yù)備多張的從屬介質(zhì)，將該多張的從屬介質(zhì)的各從屬介質(zhì)的磁道的中心調(diào)整一致的重疊狀態(tài)下，在該從屬介質(zhì)的磁道方向施加初期直流磁場(chǎng)對(duì)上述的多張從屬介質(zhì)同時(shí)進(jìn)行初始磁化，使上述預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)的多張同時(shí)生成，也就是說，一次做到了多張的從屬介質(zhì)的初始磁化，因此，預(yù)先格式后的從屬介質(zhì)的制造時(shí)間可以縮短，設(shè)備也可簡(jiǎn)化。由此，在實(shí)現(xiàn)更高品位的磁性復(fù)制的磁性復(fù)制方法中可做到低成本化。



圖1為本發(fā)明的一種實(shí)施例中實(shí)施磁性復(fù)制方法的磁性復(fù)制裝置的主要部位的立體圖。
圖2為表示復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度的規(guī)范的俯視圖。
圖3為表示磁場(chǎng)發(fā)生裝置的其他實(shí)施例的略圖。
圖4為表示磁性復(fù)制方法的基本工序圖。
圖5為本發(fā)明別的實(shí)施例的用于磁性復(fù)制方法的磁場(chǎng)發(fā)生裝置的主要部位立體圖。
圖6為從屬固定裝置的分解立體圖。
圖7為兩面復(fù)制用貼緊裝置的分解立體圖。
圖8為一面復(fù)制用貼緊裝置的分解立體圖。
圖9為叢屬介質(zhì)儲(chǔ)料架的立體圖。
圖中，1-磁性復(fù)制裝置；2-叢屬介質(zhì)；3-主載體；5-磁場(chǎng)發(fā)生裝置；10-叢屬固定裝置；20、20′-貼緊裝置；21-圓周磁道；32-磁性層；37-儲(chǔ)料架；50-電磁鐵裝置；D-磁道方向；d-漏磁場(chǎng)成分。
具體實(shí)施方式
以下，詳細(xì)地說明本發(fā)明的實(shí)施例。圖1為本發(fā)明的一種實(shí)施例中實(shí)施磁性復(fù)制方法的磁性復(fù)制裝置的主要部位的立體圖。圖2為復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)的規(guī)范的示意圖，圖3為表示磁場(chǎng)發(fā)生裝置的其他實(shí)施例的略圖、圖4為磁性復(fù)制方法的基本工序的示意圖。另外，各圖均為示意圖與各部分的實(shí)際大小不成比例。
在圖1的磁性復(fù)制裝置1中，在磁性復(fù)制時(shí)，將后述的初始磁化后的從屬介質(zhì)2(磁性記錄介質(zhì))的從屬面(磁性記錄面)，與主盤載體3的信息載有面接觸，以所定的壓力使其貼緊。在這種從屬介質(zhì)2和主盤載體3的貼緊狀態(tài)下，通過磁場(chǎng)發(fā)生裝置5施加復(fù)制用磁場(chǎng)復(fù)制記錄伺服信號(hào)等磁化圖案。
從屬介質(zhì)2，是在兩面或一面形成有磁性記錄層的硬盤、軟盤等圓盤狀磁性記錄介質(zhì)，在與主盤載體3貼緊之前，視需要實(shí)施通過滑動(dòng)頭、研磨體等除去表面的微小突起和附著塵埃的清潔處理。
另外，對(duì)從屬介質(zhì)2預(yù)先進(jìn)行初始磁化。這一初始磁化，將大于從屬介質(zhì)2矯頑磁力Hcs的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分在磁道方向位置至少具有一處以上的磁場(chǎng)強(qiáng)度分布的磁場(chǎng)，理想為，大于從屬介質(zhì)2矯頑磁力Hcs的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分在磁道方向位置僅有一個(gè)方向，逆向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在任一的磁道方向位置在磁道方向的局部，產(chǎn)生小于從屬介質(zhì)2的矯頑磁力的磁場(chǎng)強(qiáng)度分布的磁場(chǎng)，通過使從屬介質(zhì)2或磁場(chǎng)沿磁道方向旋轉(zhuǎn)進(jìn)行全磁道的初始磁化(直流消磁)。
主盤載體3形成為盤狀，在它的一面具有由磁性層32(參照?qǐng)D4)的細(xì)微凹凸圖案形成的復(fù)制信息載有面，在它的另一面被圖中未表示的貼緊裝置保持，與被搬送來的從屬介質(zhì)2貼緊。如圖所示，在從屬介質(zhì)2的一面將主盤載體3貼緊單面逐次進(jìn)行復(fù)制的情況，和在從屬介質(zhì)2的兩面分別將主盤載體3貼緊兩面同時(shí)進(jìn)行復(fù)制的情況。主盤載體3，與從屬介質(zhì)2貼緊之前，需要實(shí)施去除附著塵埃的清潔處理。
施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置5，具有在被貼緊裝置保持的從屬介質(zhì)2及主盤載體3的半徑方向延伸的間隙51在上下兩側(cè)設(shè)置的磁芯52上繞有線圈53的電磁鐵裝置50、50，在上下兩側(cè)以同一方向施加與磁道方向平行的磁力線G(參照?qǐng)D2)的復(fù)制用磁場(chǎng)。
施加磁場(chǎng)時(shí)，使從屬介質(zhì)2及主盤載體3形成一體地連續(xù)旋轉(zhuǎn)通過磁場(chǎng)發(fā)生裝置5施加復(fù)制用磁場(chǎng)，將主盤載體3的復(fù)制信息磁性復(fù)制記錄到從屬介質(zhì)2的從屬面。也可以將磁場(chǎng)發(fā)生裝置5設(shè)置為旋轉(zhuǎn)移動(dòng)方式。
復(fù)制用磁場(chǎng)，超過最佳復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度范圍(從屬介質(zhì)2的矯頑磁力Hcs的0.6～1.3倍)最大值的磁場(chǎng)強(qiáng)度在磁道方向均不存在，最佳復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度范圍內(nèi)的磁場(chǎng)強(qiáng)度部分在一條磁道方向至少具有一處以上。另外，與此逆向的磁道方向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中的任一磁道方向位置均小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
也就是，在如圖2所示的平面上觀測(cè)，對(duì)于由從屬介質(zhì)2的同心圓形成的圓周磁道21，在磁場(chǎng)發(fā)生裝置5的間隙51產(chǎn)生的磁力線G的方向沿磁道方向D施加復(fù)制用磁場(chǎng)。因該磁道方向D是圓周方向，在中心線的相反側(cè)位置(圖中下方位置)的磁道21如實(shí)線所示用平面觀測(cè)成為相反方向，90度位置(圖的左右位置)的磁道21成為正交方向。另外，在間隙51以外的部分產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)，與上述磁道方向D逆向的虛線所示成分d在從屬介質(zhì)2的記錄面全區(qū)域中，規(guī)定使其小于從屬介質(zhì)2的矯頑磁力Hcs的1/2。下面敘述將此復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度規(guī)定為上述范圍的理由。
上述磁場(chǎng)發(fā)生裝置5，也可以只在單側(cè)設(shè)置。另外，作為磁場(chǎng)發(fā)生裝置5的其他實(shí)施方式，如圖3(a)～(c)所示，也可以將產(chǎn)生復(fù)制用磁場(chǎng)的電磁鐵裝置或永久磁鐵裝置設(shè)置在兩側(cè)或單側(cè)。
圖3(a)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置5，由沿從屬介質(zhì)2的半徑方向延伸的一個(gè)電磁鐵55(或永久磁鐵)的與從屬面平行的兩側(cè)部的相反磁極構(gòu)成，在磁道方向產(chǎn)生磁場(chǎng)。圖3(b)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置5，由以所定的間隔在從屬介質(zhì)2的半徑方向延伸的兩個(gè)平行電磁鐵56、57(或永久磁鐵)的端面朝向從屬面的相反磁極構(gòu)成，在磁道方向產(chǎn)生磁場(chǎng)。圖3(c)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置5，由截面為U型沿半徑方向延伸的永久磁鐵58(或電磁鐵)的朝從屬面的兩個(gè)平行端面的相反磁極構(gòu)成，在磁道方向產(chǎn)生磁場(chǎng)。
在上述各實(shí)施例的磁場(chǎng)發(fā)生裝置5中，與磁場(chǎng)發(fā)生裝置5產(chǎn)生的正規(guī)的磁場(chǎng)施加部分的施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁道方向逆向的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度，在從屬介質(zhì)2的記錄面的全區(qū)域也規(guī)定為小于矯頑磁力Hcs的1/2。
其次，圖4為表示磁性復(fù)制方法的基本工序圖。(a)是在一個(gè)方向施加磁場(chǎng)對(duì)從屬介質(zhì)2進(jìn)行初始磁化的方式，(b)是將主盤載體3與從屬介質(zhì)2貼近在相反方向施加磁場(chǎng)的工序，(c)是磁性復(fù)制后的各局部狀態(tài)示意圖。
如圖4(a)所示，首先對(duì)從屬介質(zhì)2施加沿磁道方向的單方向的初始直流磁場(chǎng)Hin進(jìn)行預(yù)先初始磁化(初始直流磁化)，然后，如圖4(b)所示，將從屬介質(zhì)2的從屬面(磁記錄面)與主盤載體3的基板31的覆有細(xì)微凹凸圖案的磁性層32的信息載有面貼緊，在從屬介質(zhì)2的磁道方向施加與上述初始直流磁場(chǎng)Hin相反方向的復(fù)制用磁場(chǎng)Hdu進(jìn)行磁性復(fù)制。其結(jié)果，如圖4(c)所示，在從屬介質(zhì)2的從屬面(磁道)上與主盤載體3的信息載有面的磁性層32的貼緊的凸部和空出的凹部的形成圖案相對(duì)應(yīng)的磁化圖案就被復(fù)制記錄。
另外，上述主盤載體3的基板31的凹凸圖案即使為與圖4的正像圖案相反的凹凸形狀的負(fù)像圖案，通過將初始直流磁場(chǎng)Hin的方向及復(fù)制用磁場(chǎng)Hdu的方向設(shè)置為與上述方向相反，也可以得到同樣的磁化圖案復(fù)制記錄。
上述基板31為Ni等強(qiáng)磁性體時(shí)，雖然只要有該基板31就可進(jìn)行磁性復(fù)制，不被覆上述的磁性層32也行，但是通過設(shè)置具有良好復(fù)制特性的磁性層32可進(jìn)行更好的磁性復(fù)制?；?1為非磁性體時(shí)，必須設(shè)置磁性層32。主盤載體3的磁性層32，理想的矯頑磁力Hcm為小于48kA/m(600Oe)的軟磁性層。
作為主盤載體3的基板31，可使用鎳、硅、石英板、玻璃、鋁、合金、陶瓷、合成樹脂等。凹凸圖案的形成，可通過壓印(stamper)法、照相蝕刻法等進(jìn)行。
壓印法，是在表面平滑的玻璃板(或石英板)上用旋轉(zhuǎn)涂膠法等形成光刻膠，使該玻璃板旋轉(zhuǎn)的同時(shí)用與伺服信號(hào)對(duì)應(yīng)的調(diào)制激光(或電子束)進(jìn)行照射，在光刻膠全面所定的圖案，如在各磁道從旋轉(zhuǎn)中心向半徑方向呈線狀延伸的相當(dāng)于伺服信號(hào)的圖案在圓周上的各幀在對(duì)應(yīng)部分曝光。之后，對(duì)光刻膠顯影處理，除去曝光部分得到由光刻膠形成的具有凹凸形狀的原盤。其次，以原盤表面的凹凸圖案為基礎(chǔ)，對(duì)該表面實(shí)施電鍍(電鑄)，做成具有正像凹凸圖案的Ni基板，從原盤上剝離?；蚓瓦@樣把該基板作為主盤載體，或是在凹凸圖案上視需要被覆軟磁性層、保護(hù)膜做成主盤載體。
另外，對(duì)上述原盤實(shí)施電鍍做成第2原盤，用這個(gè)第2原盤進(jìn)行電鍍，做成負(fù)像的凹凸圖案的基板也行。另外，對(duì)第2原盤或?qū)嵤╇婂兓驂荷蠘渲哼M(jìn)行固化做成第3原盤，對(duì)第3原盤實(shí)施電鍍，做成具有正像凹凸圖案的基板也行。
另外，在上述玻璃板通過光刻膠形成圖案后，用蝕刻法在玻璃板上形成孔，得到除去光刻膠的原盤，接下來與上述方法同樣也可形成基板。
作為金屬基板的材料，可以使用Ni或Ni合金，做成該基板的上述電鍍，包含無電解電鍍、電鑄、濺射、離子電鍍的各種金屬成膜法均可適用?；宓陌纪箞D案的深度(突起的高度)，80nm～800nm的范圍為滿意，更理想為100nm～600nm。此凹凸圖案為伺服信號(hào)時(shí)，在半徑方向形成長(zhǎng)條形。比如，理想為半徑方向的長(zhǎng)度為0.05～20μm、圓周方向?yàn)?.05～5μm，在此范圍選擇半徑方向較長(zhǎng)的圖案作為載有伺服信號(hào)的圖案為理想。
上述磁性層32(軟磁性層)的形成，是把磁性材料通過真空蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法等真空成膜裝置，經(jīng)電鍍等形成膜。作為磁性層的磁性材料，可以使用Co、Co合金(CoNi、CoNiZr、CoNbTaZr等)、Fe、Fe合金(FeCo、FeCoNi、FeNiMo、FeAiSi、FeAl、FeTaN)、Ni、Ni合金(NiFe)。其中，F(xiàn)eCo、FeCoNi更為理想。磁性層的厚度，50nm～500nm的范圍為宜，100nm～400nm更好。
另外，希望在磁性層上設(shè)置DLC等保護(hù)膜、設(shè)置潤(rùn)滑劑層也行。再有作為保護(hù)膜5～30nm的金剛石類碳(DLC)膜和潤(rùn)滑劑層二者均存在就更加滿意。另外，磁性層和保護(hù)膜之間，設(shè)有Si等貼緊強(qiáng)化層也行。潤(rùn)滑劑，在修正與從屬介質(zhì)接觸的過程中產(chǎn)生的偏差時(shí)，可改善由于產(chǎn)生的摩擦傷等造成的耐久性的劣化。
用上述原盤制作樹脂基板，其表面設(shè)置磁性層作為主盤載體也行。作為樹脂基板的樹脂材料，可以使用聚碳酸脂·聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸樹脂、聚氯乙烯·氯乙烯共聚物等的氯乙烯樹脂、環(huán)氧樹脂、非晶聚烯烴及聚脂等。從耐潮性、形穩(wěn)性及價(jià)格等方面考慮聚碳酸脂為理想。模制品上有毛刺時(shí)，通過磨光或拋光去除。另外，使用紫外線固化樹脂、電子線固化樹脂等，也可在原盤用旋轉(zhuǎn)涂布、棒材涂布形成。樹脂基板的圖案的突起高度在50～1000nm的范圍為宜，100～500nm的范圍更理想。
在上述樹脂基板的表面的細(xì)微圖案上被覆磁性層得到主盤載體。磁性層的形成，利用真空蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法等真空成膜裝置，通過電鍍法等對(duì)磁性材料形成薄膜。
另外，照相蝕刻法，比如，在平板狀基板的平滑表面涂布光刻膠，通過用對(duì)應(yīng)伺服信號(hào)的圖案的光掩膜的曝光、顯影處理，形成對(duì)應(yīng)信息的圖案。其次，通過光刻工序，對(duì)應(yīng)圖案對(duì)基板進(jìn)行光刻，形成與磁性層的厚度相當(dāng)?shù)纳疃鹊目住Ｆ浯?，利用真空蒸鍍法、濺射法、離子電鍍法等真空成膜裝置，通過電鍍法對(duì)應(yīng)形成的孔的厚度至基板的表面對(duì)磁性材料形成薄膜。其次，用剝離法去除光刻膠，研磨表面，有毛刺時(shí)去除的同時(shí)，將表面打磨平滑。
作為從屬介質(zhì)2，使用硬盤、高密度軟盤等圓盤狀磁性記錄介質(zhì)，其磁性記錄層由涂布型磁性記錄層或金屬薄膜型磁性記錄層形成。作為金屬薄膜型磁性記錄層的磁性材料，可以使用Co、Co合金(CoPtCr、CoCr、CoPtCrTa、CoPtCrNbTa、CoCrB、CoNi等)、Fe、Fe合金(FeCo、FePt、FeCoNi)。這是因?yàn)榇磐棵芏却螅哂信c施加磁場(chǎng)方向相同方向(面內(nèi)記錄時(shí)為面內(nèi)方向)的磁各向異性，可進(jìn)行清晰的復(fù)制，所以是理想的。另外磁性材料的下面(支承體側(cè))為了增加必要的磁各向異性希望設(shè)置非磁性基底層。必須使結(jié)晶構(gòu)造和晶格常數(shù)與磁性層相配合。因此使用Cr、CrTi、CoCr、CrTa、CrMo、NiAl、Ru等。
在此，對(duì)復(fù)制用磁場(chǎng)的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度在上述范圍的實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行說明。實(shí)驗(yàn)中使用的主盤載體、從屬介質(zhì)及磁性復(fù)制方法如下。
主盤載體的制作通過Ni壓印法，從圓盤中心到半徑方向20～40mm的位置，以幅寬0.5μm的等間隔放射線，在半徑方向?yàn)?0mm的最內(nèi)周位置使線間隔為0.5μm的間隔、做成深0.2μm的具有圓盤狀圖案的Ni基板。關(guān)于真空鍍膜裝置，在室溫下減壓至1.33×10-5Pa(10-7Torr)后，導(dǎo)入氬氣在0.4Pa(3×10-3Torr)的條件下，在Ni基盤上形成厚200nm的FeCo膜(軟磁性層)，做成主盤載體。矯頑磁力Hcm為8kA/m(100Oe)，磁通密度Ms為28.9T(23000Gauss)。
從屬介質(zhì)的制作在真空鍍膜裝置，在室溫下降壓至后，1.33×10-5Pa(10-7Torr)后，導(dǎo)入氬氣在0.4Pa(3×10-3Torr)的條件下，加熱玻璃板至200℃，做成CrTi 60nm、CoCrPt 25nm、磁通密度Ms為5.7T(4500Gauss)、矯頑磁力Hcs為199kA/m(2500Oe)的3.5時(shí)型圓盤狀磁性記錄介質(zhì)(硬盤)。
磁性復(fù)制實(shí)驗(yàn)方法使峰值磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的表面，為從屬介質(zhì)矯頑磁力Hcs的2倍的398kA/m(5000Oe)，設(shè)置如圖1所示的環(huán)狀磁頭電磁鐵，進(jìn)行從屬介質(zhì)的初始磁化。其次使初始磁化后的從屬介質(zhì)與主盤在體貼緊，調(diào)整環(huán)狀磁頭電磁鐵的電流，使峰值磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的表面為207kA/m(2600Oe)。
這時(shí)，改變上下電磁鐵的間隔，使復(fù)制磁場(chǎng)強(qiáng)度一直保持在207kA/m(2600Oe)，只變化漏磁場(chǎng)強(qiáng)度。與復(fù)制方向逆向的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度成為最強(qiáng)之處，是在以中心為對(duì)稱點(diǎn)的復(fù)制磁場(chǎng)施加位置和180°的方向的內(nèi)周位置，如下述表1所示，將上下電磁鐵的上下方向的間隔在20～40mm變化相應(yīng)地調(diào)整電流從18A到40A，在此位置使逆向漏磁場(chǎng)強(qiáng)度為40kA/m(500Oe)、64kA/m(800Oe)、96kA/m(1200Oe)、199kA/m(1500Oe)變化進(jìn)行磁性復(fù)制。另外，主盤載體和從屬介質(zhì)的貼緊，是在夾著橡膠板的鋁板上加壓來實(shí)現(xiàn)的。
電磁變換特性評(píng)價(jià)方法通過電磁變換特性測(cè)定裝置(協(xié)同電子社制SS-60)對(duì)從屬介質(zhì)的復(fù)制信號(hào)進(jìn)行了評(píng)價(jià)。磁頭，使用了再生磁頭間隙0.24μm、再生磁道幅寬1.9μm、記錄磁頭間隙0.4μm、記錄磁道幅寬2.4μm的MR磁頭。將讀入信號(hào)用頻譜分析儀分解頻率，測(cè)量基波信號(hào)的峰值強(qiáng)度C與外插的介質(zhì)噪聲N的差(C/N)。以漏磁場(chǎng)強(qiáng)度為40kA/m(500Oe)時(shí)的值為0dB，用相對(duì)值(ΔC/N)進(jìn)行了評(píng)價(jià)。此相對(duì)值(ΔC/N)小于-6dB(向負(fù)的反向增大)時(shí)，信號(hào)強(qiáng)度變小成為復(fù)制不良狀態(tài)，因此以該值為允許值進(jìn)行了評(píng)價(jià)。其結(jié)果見表1。
表1


從表1中可知，在間隔為40mm的比較例1中，漏磁場(chǎng)強(qiáng)度為119kA/m(1500Oe)大于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs199kA/m(2500Oe)的1/2即100kA/m(1250Oe)，結(jié)果為復(fù)制不良。與此相比，在實(shí)施例1～實(shí)施例3漏磁場(chǎng)強(qiáng)度小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2實(shí)現(xiàn)了良好的復(fù)制。其結(jié)果，證明了與復(fù)制用磁場(chǎng)強(qiáng)度逆向的漏磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域應(yīng)小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2的必要性。
下面，關(guān)于本發(fā)明的其他實(shí)施例的磁性復(fù)制方法中對(duì)施加初始直流磁場(chǎng)及復(fù)制用磁場(chǎng)更具體地加以說明。圖5，是產(chǎn)生初始直流磁場(chǎng)及復(fù)制用磁場(chǎng)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置的點(diǎn)磁鐵裝置5(5a、5b)的主要部位立體圖，圖6是固定施加初始直流磁場(chǎng)的復(fù)數(shù)的從屬介質(zhì)的固定裝置10(以下稱為從屬固定裝置10)的分解立體圖，圖7及圖8是施加復(fù)制用磁場(chǎng)的從屬介質(zhì)和主盤載體的貼緊裝置20(20′)的分解立體圖。
如圖5所示，從屬固定裝置及10貼緊裝置20(20′)，設(shè)置于電磁鐵裝置5a、5b之間，分別以中心為軸旋轉(zhuǎn)，被施加磁場(chǎng)。
如圖6所示，從屬固定裝置10由可分離的上下部6、7構(gòu)成，內(nèi)部可保持多張的從屬介質(zhì)2。從屬介質(zhì)2，是在圓盤狀的記錄介質(zhì)2a的中心部固定有軸心2b(盤芯)的軟盤，記錄介質(zhì)2a在由韌性的聚酯薄膜等形成的圓盤狀的基盤的兩面形成有磁性層的記錄面(另外，在上述圖1中，為簡(jiǎn)略起見只表示了該從屬介質(zhì)的單面的磁性層)。
在固定裝置10的下部7的中心部，形成有與從屬介質(zhì)2的軸心2b的中心孔結(jié)合確定位置的銷柱8。通過該銷柱8，使多張的從屬介質(zhì)2的中心一致即磁道的中心一致地重疊。如此復(fù)數(shù)的從屬介質(zhì)2以重疊的狀態(tài)閉合從屬固定裝置10的上下部6、7使其成為一體，此從屬固定裝置10和內(nèi)部的從屬介質(zhì)2以從屬介質(zhì)2的磁道的中心為軸形成一體地被驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)。
在從屬固定裝置10的上下面靠近設(shè)置電磁鐵裝置5a、5b，使從屬固定裝置10旋轉(zhuǎn)通過電磁鐵裝置5施加初始直流磁場(chǎng)Hin，對(duì)多張的從屬介質(zhì)2沿磁道方向的單一方向進(jìn)行初始磁化。這樣對(duì)多張的從屬介質(zhì)同時(shí)進(jìn)行初始磁化，與逐張分別磁化相比較，在時(shí)間上、設(shè)備上效率均有提高。
另外，理想的初始直流磁場(chǎng)的強(qiáng)度為大于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs，更理想為Hcs的1.2倍以上。
之后，初始磁化后的各從屬介質(zhì)與主盤在體貼緊，使具有從屬介質(zhì)和主盤載體的貼緊裝置20旋轉(zhuǎn)施加復(fù)制用磁場(chǎng)，主盤載體的凹凸圖案面所載有的信息磁性地被復(fù)制記錄于從屬介質(zhì)。另外，復(fù)制用磁場(chǎng)的施加方向與初始磁化的方向相反，理想的復(fù)制用磁場(chǎng)強(qiáng)度為0.6Hcs～1.3Hcs，再理想為0.8Hcs～1.2Hcs，更理想為1Hcs～1.1Hcs。
圖7為兩面同時(shí)進(jìn)行復(fù)制時(shí)的貼緊裝置20的示意圖，此貼緊裝置20，具有在從屬介質(zhì)2的下側(cè)記錄面復(fù)制伺服信號(hào)等信息的下側(cè)主盤載體3，具有在從屬介質(zhì)2的上側(cè)記錄面復(fù)制伺服信號(hào)等信息的上側(cè)主盤載體4，具有吸附保持下側(cè)主盤載體3矯正平坦性的下側(cè)矯正部件16的下側(cè)壓接部件18，具有吸附保持上側(cè)主盤載體4矯正平坦性的上側(cè)矯正部件17(與下側(cè)矯正部件16的構(gòu)成相同)的上側(cè)壓接部件19，使它們的中心位置在保持一致的狀態(tài)下被壓接，在從屬介質(zhì)2的兩面下側(cè)與主盤載體3、上側(cè)與主盤載體4貼緊。
下側(cè)主盤載體3及上側(cè)主盤載體4，由剛體形成圓環(huán)狀盤，其一面具有與上述從屬介質(zhì)2的記錄面貼緊的由細(xì)微凹凸圖案形成的復(fù)制信息載有面，其反面被真空吸附保持于下側(cè)的矯正部件16及上側(cè)的矯正部件17。此下側(cè)主盤載體3及上側(cè)主盤載體4，為了適應(yīng)提高與從屬介質(zhì)2的貼緊性，在細(xì)微凹凸圖案的形成部以外的位置，且在與后述的矯正部件16、17的吸氣孔不相通的位置形成貫通表里的細(xì)微孔，吸引并排出與從屬介質(zhì)2貼緊面之間的空氣。
下側(cè)矯正部件16(上側(cè)矯正部件17也同樣)，設(shè)計(jì)為與主盤載體3的大小相應(yīng)的圓盤狀，其表面設(shè)計(jì)有以中心線的平均表面光潔度Ra為0.01～0.1μm的平坦度的平坦地被精加工的吸附面16a。在此吸附面16a，約25～100個(gè)直徑約小于2mm的吸氣孔16b幾乎均等地張開著。圖中雖未表示，在此吸氣孔16b從矯正部件16的內(nèi)部經(jīng)向下側(cè)壓接部件18的外部導(dǎo)出的吸氣通路與真空泵連接并被吸引，真空吸引與吸引面16a貼緊的主盤載體3的背面，將該主盤載體3的平坦性通過吸附面16a進(jìn)行矯正。
下側(cè)壓接部件18及上側(cè)壓接部件19為圓盤狀單方或雙方在軸方向設(shè)計(jì)成移動(dòng)可能的通過圖中未表示的開閉機(jī)構(gòu)(壓緊機(jī)構(gòu)，鎖定機(jī)構(gòu)等)完成開閉動(dòng)作，相互間以所定的壓力壓接。在外周具有凸緣部18a、19a，閉動(dòng)作時(shí)上下的壓接部件18、19的凸緣部18a、19a相接使內(nèi)部保持密閉狀態(tài)。在下側(cè)壓接部件18的中心部，與從屬介質(zhì)2的軸心2b的中心孔相配合形成有確定位置的銷柱18b。另外，下側(cè)壓接部件18及上側(cè)壓接部件19與圖中未表示的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接形成一體地被驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)。
通過1組的下側(cè)主盤載體3及上側(cè)主盤載體4對(duì)復(fù)數(shù)的從屬介質(zhì)順序地進(jìn)行兩面磁性復(fù)制，貼緊裝置20，下側(cè)矯正部件16及上側(cè)矯正部件17的吸附面16a使中心位置一致將下側(cè)主盤載體3及上側(cè)主盤載體4分別真空吸附保持。然后，在上側(cè)壓接部件19和下側(cè)壓接部件18分離的開狀態(tài)，將從屬介質(zhì)2的中心位置調(diào)整一致后，使上側(cè)壓接部件19和下側(cè)壓接部件18接近閉合，在從屬介質(zhì)2的兩面使主盤載體3、4貼緊。然后，通過上下電磁鐵裝置5的移動(dòng)或貼緊裝置20的移動(dòng)，在貼緊裝置20的上下兩面使上下的電磁鐵裝置5接近，使貼緊裝置20連續(xù)旋轉(zhuǎn)通過電磁鐵裝置5施加復(fù)制用磁場(chǎng)，將下側(cè)主盤載體3及上側(cè)主盤載體4的復(fù)制信息磁性地復(fù)制記錄到從屬介質(zhì)2的記錄面。
圖8為進(jìn)行單面復(fù)制時(shí)的貼緊裝置20′的示意圖，此貼緊裝置20′，具有在從屬介質(zhì)2的下側(cè)記錄面的復(fù)制伺服信號(hào)等信息的下側(cè)主盤載體3，具有在從屬介質(zhì)2的上側(cè)記錄面的接觸彈性體21(緩沖材)，具有吸附保持上述下側(cè)主盤載體3的具有矯正平坦性的下側(cè)矯正部件16的下側(cè)壓接部件18，具有保持上述彈性體21的上側(cè)壓接部件19，將它們的中心位置調(diào)整一致的狀態(tài)下壓接，使從屬介質(zhì)2的一面即主盤載體3接觸的相反面與彈性體21貼緊。也就是，在上述實(shí)施例中上側(cè)主盤載體4變更為彈性體21，除了沒有設(shè)置上側(cè)矯正部件17一點(diǎn)之外，均為同樣的構(gòu)成。
彈性體21是用有彈性特性的材料制成圓盤狀，被上側(cè)壓接部件19保持。彈性體21的材料，具有當(dāng)施加貼緊壓力時(shí)隨著從屬介質(zhì)2的表面形狀而變形，從主盤載體3將從屬介質(zhì)2剝離時(shí)恢復(fù)到施加壓力前的表面狀態(tài)的特性。作為彈性體21的具體材料，可以使用硅橡膠、聚氨酯橡膠、氟橡膠、聚丁橡膠、聚四氟乙烯橡膠、聚偏氟乙烯-氟丙烯橡膠等一般的橡膠，或海綿橡膠等發(fā)泡樹脂等。彈性體21與從屬介質(zhì)2的接觸面的形狀，與主盤載體3平行的平面形狀，或在從屬介質(zhì)2側(cè)形成凸起的形狀。
本實(shí)施例的貼緊裝置20′，為了通過一個(gè)下側(cè)主盤載體3對(duì)復(fù)數(shù)的從屬介質(zhì)2進(jìn)行順次磁性復(fù)制，首先與下側(cè)矯正部件6的吸附面6a的中心位置調(diào)整一致真空吸附主盤載體3并保持其狀態(tài)。然后，在上側(cè)壓接部件19和下側(cè)壓接部件18分離的開狀態(tài)，將從屬介質(zhì)2與中心位置調(diào)整一致后，使上側(cè)壓接部件19和下側(cè)壓接部件18接近閉合在從屬介質(zhì)2的一面通過彈性體11的押力使主盤載體3貼緊。之后，與上述同樣使貼緊裝置20′的上下面的上下電磁鐵裝置5接近，使貼緊裝置20′連續(xù)旋轉(zhuǎn)通過電磁鐵裝置5施加復(fù)制用磁場(chǎng)，將下側(cè)主盤載體3的復(fù)制信息磁性地記錄到從屬介質(zhì)2的一面。之后，在另一工序?qū)膶俳橘|(zhì)2的另一面與上側(cè)主盤載體4貼緊同樣地進(jìn)行磁性復(fù)制。
另外，在上述實(shí)施例，如圖6所示，軟盤具有盤芯2b的狀態(tài)下多張重疊一起進(jìn)行初始磁化，如圖9所示，軟盤沖切成形成形后，在儲(chǔ)料架37堆積有多張的狀態(tài)下，比如用60厚的磁盤重疊100張的狀態(tài)，在安裝中心核之前進(jìn)行初始磁化也行。在儲(chǔ)料架37的中心部，為了堆積儲(chǔ)存從屬介質(zhì)2設(shè)置有與從屬介質(zhì)2的中央孔相配合的確定位置的銷柱38。在進(jìn)行初始磁化時(shí)，與該儲(chǔ)料架37相配合的蓋36一起形成一體，與上述從屬固定裝置10同樣，被設(shè)置到電磁鐵裝置5。通過電磁鐵裝置5施加初始直流磁場(chǎng)，以磁道的中心(銷柱38)為軸形成一體地被驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)完成初始磁化。與原來相比，由于軟盤在沖切成形成形后堆積在儲(chǔ)料架37的狀態(tài)下被送到下一工序，只要對(duì)每一儲(chǔ)料架進(jìn)行初始磁化就可簡(jiǎn)化工序。另外，由于沒有盤芯，就可以重疊更多的磁盤，效率高。另外，由于沒有盤芯，把重疊的磁盤相互分離時(shí)變得困難，因此設(shè)定每一磁盤的表面光潔度Ra＞1.5nm。
另外，在上面列舉說明了作為從屬介質(zhì)2的軟盤，從屬介質(zhì)也可以是硬盤裝置所具有的磁盤(硬盤)。
權(quán)利要求
1.一種磁性復(fù)制方法，將在對(duì)應(yīng)基板表面的信息信號(hào)的部分由磁性層形成的磁性復(fù)制用主盤載體和接受復(fù)制的從屬介質(zhì)的磁性記錄介質(zhì)貼緊施加復(fù)制用磁場(chǎng)，其特征為在從屬面的磁道方向施加磁場(chǎng)預(yù)先對(duì)從屬介質(zhì)在磁道方向進(jìn)行初始磁化后，使主盤載體和所述初始磁化后的從屬介質(zhì)貼緊，在從屬面的磁道方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)，進(jìn)行磁性復(fù)制時(shí)，與復(fù)制用磁場(chǎng)的所述磁道方向的逆向磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁性復(fù)制方法，其特征為所述復(fù)制用主盤載體的所述磁性層的矯頑磁力Hcm小于48kA/m。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁性復(fù)制方法，其特征為所述從屬介質(zhì)為圓盤狀磁性記錄介質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁性復(fù)制方法，其特征為所述初始磁化方向與所述復(fù)制用磁場(chǎng)的施加方向?yàn)槟嫦颉?br>5.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的磁性復(fù)制方法，其特征為所述信息信號(hào)為伺服信號(hào)。
6.一種磁性復(fù)制裝置，具有將在對(duì)應(yīng)基板表面的信息信號(hào)的部分由磁性層形成的磁性復(fù)制用主盤載體和接受復(fù)制的從屬介質(zhì)的磁性記錄介質(zhì)貼緊施加復(fù)制用磁場(chǎng)進(jìn)行磁性復(fù)制，其特征為具有對(duì)和主盤載體貼緊的從屬介質(zhì)的磁道方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)的磁場(chǎng)發(fā)生裝置，與該磁場(chǎng)發(fā)生裝置產(chǎn)生的復(fù)制用磁場(chǎng)的所述磁道方向逆向的磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)記錄面的全區(qū)域小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
7.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的磁性復(fù)制裝置，其特征為所述磁場(chǎng)發(fā)生裝置，既可以是電磁鐵裝置也可以是永久磁鐵裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的磁性復(fù)制裝置，其特征為所述主盤載體的所述磁性層的矯頑磁力Hcm小于48kA/m。
9.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的磁性復(fù)制裝置，其特征為所述從屬介質(zhì)為圓盤狀磁性記錄介質(zhì)。
10.根據(jù)權(quán)利要求
9所述的磁性復(fù)制裝置，所述磁場(chǎng)發(fā)生裝置，在沿所述從屬介質(zhì)的半徑方向延伸的范圍產(chǎn)生與磁道方向平行的磁場(chǎng)，其特征為使所述從屬介質(zhì)和所述主盤載體貼緊及通過相對(duì)所述磁場(chǎng)發(fā)生裝置旋轉(zhuǎn)在所述從屬介質(zhì)的全面進(jìn)行磁性復(fù)制。
11.根據(jù)權(quán)利要求
6所述的磁性復(fù)制裝置，其特征為還具有對(duì)所述從屬介質(zhì)的磁化在磁道方向進(jìn)行初始磁化的初始磁化裝置。
12.一種磁性復(fù)制方法，具有預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)，和向該從屬介質(zhì)所要復(fù)制的信息對(duì)應(yīng)的具有凹凸圖案面的主盤載體的該凹凸圖案面貼緊，與所述初始磁化相反的方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)，其特征為預(yù)備多張的從屬介質(zhì)，將該多張的從屬介質(zhì)的各從屬介質(zhì)的磁道的中心調(diào)整一致的重疊狀態(tài)下，在該從屬介質(zhì)的磁道方向施加初期直流磁場(chǎng)對(duì)所述的多張從屬介質(zhì)同時(shí)進(jìn)行初始磁化，使所述預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)的多張同時(shí)生成，并且進(jìn)行磁性復(fù)制時(shí)，與復(fù)制用磁場(chǎng)的所述磁道方向的逆向磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。
專利摘要
一種磁性復(fù)制方法及裝置，在從屬面的磁道方向施加磁場(chǎng)預(yù)先對(duì)從屬介質(zhì)在磁道方向進(jìn)行初始磁化后，使主盤載體和上述初始磁化后的從屬介質(zhì)貼緊，在從屬面的磁道方向施加復(fù)制用磁場(chǎng)，進(jìn)行磁性復(fù)制時(shí)，與復(fù)制用磁場(chǎng)的上述磁道方向的逆向磁場(chǎng)強(qiáng)度在從屬介質(zhì)的記錄面全區(qū)域中小于從屬介質(zhì)的矯頑磁力Hcs的1/2。預(yù)備多張的從屬介質(zhì)，將該多張的從屬介質(zhì)的各從屬介質(zhì)的磁道的中心調(diào)整一致的重疊狀態(tài)下，在該從屬介質(zhì)的磁道方向施加初期直流磁場(chǎng)對(duì)上述的多張從屬介質(zhì)同時(shí)進(jìn)行初始磁化，使上述預(yù)先在磁道方向初始磁化的從屬介質(zhì)的多張同時(shí)生成。
文檔編號(hào)G11B5/86GKCN1259653SQ02103261
公開日2006年6月14日 申請(qǐng)日期2002年2月1日
發(fā)明者青木理史, 中三川純一, 小松和則, 西川正一 申請(qǐng)人:富士膠片株式會(huì)社導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan