專利名稱：：利用涂覆機(jī)構(gòu)將可磁化涂料涂覆到非磁性基底上的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種利用擠壓涂覆機(jī)構(gòu)將至少一種含聚合物粘結(jié)劑和色料的可磁化分散液涂覆到直線輸送的非磁性基底正面上的設(shè)備，分散液輸送槽的擠壓孔基本上位于安置在基底背面附近的磁體的磁極表面的邊緣的對(duì)面。上述同類的設(shè)備尤其是在DE-B-1907212、DE-A-4226139和同一申請(qǐng)人的德國(guó)專利申請(qǐng)P4443896中披露了。這種涂覆機(jī)構(gòu)的主要優(yōu)點(diǎn)是分散液的涂覆量只取決于其供應(yīng)量，而它在一定程度上與擠壓機(jī)的擠壓孔到基底的距離無(wú)關(guān)。如從上述DE-B-1907212的實(shí)例中明顯看到的那樣，很容易就能夠達(dá)到100m/min的涂覆速率。近年來(lái)，要求以高很多的涂覆速率進(jìn)行涂覆，以便獲得更高的涂覆工序成本經(jīng)濟(jì)性。另外，由此制得的磁記錄載體的磁性必須滿足更高的要求，特別是應(yīng)該提高表面光滑性能以便獲得在記錄頭與磁記錄介質(zhì)之間的不變的接觸條件。本發(fā)明的一個(gè)目的是基于上述現(xiàn)有技術(shù)而根據(jù)這些所要求的性能來(lái)改進(jìn)涂覆機(jī)構(gòu)。本發(fā)明的另一個(gè)目的是獲得一種即使在涂覆速率高于100m/min、特別是高于500/min的情況下其在整個(gè)涂覆范圍內(nèi)仍令人滿意的且具有很光滑表面的涂層。如從DE-B-1907212的圖1中明顯看到的那樣，基底6直接滑過(guò)磁體3的軟鐵片的邊緣3a。在略微震顫基底的情況下以及當(dāng)基底在薄條走向的橫向上成波形時(shí)，由此存在劃傷磁記錄載體背面的危險(xiǎn)，這造成當(dāng)卷起基底時(shí)對(duì)機(jī)械性能和磁性產(chǎn)生不利影響的磨擦。我們發(fā)現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明而利用一種具有權(quán)利要求1限定部分特征的設(shè)備實(shí)現(xiàn)了上述目的。本發(fā)明的其它細(xì)節(jié)可以在從屬權(quán)利要求、附圖和說(shuō)明書(shū)中看到。利用所述新設(shè)備就可以獲得一種即使在高涂覆速率下特別是在高于500m/min的情況下其在整個(gè)涂覆范圍內(nèi)也令人滿意的且具有很光滑表面的涂層。通過(guò)進(jìn)一步利用帶有弧形導(dǎo)向面的導(dǎo)向件，還可以避免劃傷基底背面。以下將參見(jiàn)附圖來(lái)具體描述本發(fā)明，其中圖1示出了新設(shè)備的概略圖；圖2和圖3以圖1為基礎(chǔ)而用放大比例示出了兩個(gè)不同的實(shí)施例。圖1示出了這樣的情況例如，可能由對(duì)苯二甲酸乙二醇酯薄膜構(gòu)成的基底1在兩個(gè)可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝的導(dǎo)輥10、20之間沿箭頭所示方向經(jīng)過(guò)以下將詳述的擠壓涂覆機(jī)構(gòu)。擠壓涂覆機(jī)構(gòu)的擠壓頭2包括一個(gè)上部件14和一個(gè)下部件15。在所述上部件和下部件之間(沿箭頭所示方向)，利用計(jì)量計(jì)(未示出)并通過(guò)涂覆機(jī)構(gòu)送料槽4輸送分散液并使分散液通過(guò)擠壓孔3離開(kāi)涂覆機(jī)構(gòu)。分散液作為可磁化層11被涂覆到基底1的正面上。一塊基本上呈立方體的磁體5大致位于擠壓孔3對(duì)面且靠近基底1背面。如此設(shè)置磁體以使其磁化方向平行于基底方向。也可以用許多塊磁體取代單塊磁體，這些磁體并排設(shè)置或疊置并且在相鄰磁體塊之間具有相反的磁極。磁體兩側(cè)最好用含有軟磁材料的片材6(以下稱之為軟鐵片)包住，所述片材基本上裹角地包住磁體。軟鐵片6前邊緣位于涂覆機(jī)構(gòu)的擠壓孔對(duì)面且具有小于或等于90度的角，而其位于下游側(cè)(沿箭頭所示方向)的另一邊緣可以是直角、錐角或倒圓角。磁體5的磁極表面的邊緣7最好與軟鐵片6的前邊緣處于同一個(gè)平面內(nèi)。上述磁體機(jī)構(gòu)位于一個(gè)含有非磁性材料的模座12、13內(nèi)。就象也可從下述實(shí)施例中看到的那樣，可以發(fā)現(xiàn)經(jīng)過(guò)改進(jìn)的磁體機(jī)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)相比可以獲得比可用上述設(shè)備獲得的表面平坦得多的表面。為了進(jìn)一步避免劃傷基底背面，一個(gè)基本對(duì)準(zhǔn)軟鐵片6的導(dǎo)向件8位于該軟鐵片上游側(cè)且它含有非磁性材料，靠近軟鐵片6邊緣16的該導(dǎo)向件的導(dǎo)向面9成圓弧形。正如以放大比例示出圖1的圖2、3所示的那樣，相應(yīng)的導(dǎo)向件8、18的導(dǎo)向面9、19相對(duì)于靠近基底背面的軟鐵片6端面17的位置是這樣的，即導(dǎo)向面9、19的最高點(diǎn)S或是與端面17平齊(圖2)，或是略微高過(guò)該表面(圖3)。在這兩種布置結(jié)構(gòu)中，可以發(fā)現(xiàn)可靠地防止了劃傷基底背面；這種改善可能是由于基底背面載有的空氣薄膜而引起的以及導(dǎo)向面9、19如此引導(dǎo)此空氣薄膜，即基底背面浮動(dòng)于導(dǎo)向件8、18上且隨后浮動(dòng)于軟鐵片6的端面17上。在圖3的情況下，導(dǎo)向件18的形狀是這樣的，即其半徑在下游側(cè)從頂點(diǎn)S起連續(xù)地或急劇地遞減。于是，導(dǎo)向面19以在導(dǎo)向件18和軟鐵片6之間有小縫隙的方式終結(jié)。由于導(dǎo)向件18頂點(diǎn)S相對(duì)基底1高于軟鐵片6端面17，結(jié)果在軟鐵片6和基底1背面之間產(chǎn)生了最小間距b。在圖2的情況下，間距b更小且只包括上述空氣膜。此間距尤其是受在兩個(gè)導(dǎo)輥10、20之間的基底1的膜張力的控制。擠壓孔3與基底1之間的距離可以在很寬范圍內(nèi)變化，例如在0.5mm-5mm之間變化。與之相似的，可磁化的干燥層的厚度可在0.5um-20um間變動(dòng)。在兩個(gè)導(dǎo)輥之間的基底的膜張力通常為20N-100N。最好由永久磁體構(gòu)成的磁體材料是立方的鐵酸鋇或由SmcCOYNd-Fe-B組成的磁體。在所采用的實(shí)例中，磁體5尺寸為22×19mm，磁體長(zhǎng)度相當(dāng)于涂覆寬度；在這里，總長(zhǎng)度為700mm。軟鐵片厚度為5mm-15mm。它也可以含有可硬化鋼。實(shí)踐已經(jīng)證明了，覆有耐磨保護(hù)薄層的鋁如含CrN或金屬如鎳的鋁作為導(dǎo)向面材料是很有效的。導(dǎo)向面9、19的粗糙度Rt應(yīng)該不超過(guò)1um，最好不大于0.5um。磁體5的矯磁力是這樣的，即在磁極表面邊緣9處的磁場(chǎng)強(qiáng)度通常為1000A/cm-4000A/cm，這取決于磁性分?jǐn)?shù)液中的可磁化色料的矯磁力。實(shí)例制備一種含有以下成分的磁性分散液</tables>此分散液以750m/min的涂覆速率被噴布在15um厚的非磁性對(duì)苯二甲酸乙二醇酯基底上。分散液干燥后形成了2.5um厚的涂層。圖3示出了導(dǎo)向面布置結(jié)構(gòu)，在頂點(diǎn)S和端面或?qū)蛎?7之間的凸起b小于0.5mm。膜張力為80N；在磁極表面邊緣處的磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度為2500A/cm。比較例過(guò)程與實(shí)例中的過(guò)程一樣，只是磁體布置結(jié)構(gòu)如德國(guó)專利1907212(圖1)所示。結(jié)果由此形成的磁記錄載體被縱切成12.7mm寬(半英寸)的條材，以便制造VHS系統(tǒng)所用的商業(yè)錄像帶。表格示出了利用新設(shè)備制成的磁記錄載體與利用傳統(tǒng)裝置制成的磁記錄載體相比在表面粗糙度(Ra)、RF水平和仿真調(diào)色(SMC)信號(hào)方面得到改善。表備注0＝無(wú)劃傷；1＝劃傷增加數(shù)目；6＝完全劃壞Ra(1)值是在未在涂覆機(jī)構(gòu)和后續(xù)干燥區(qū)之間設(shè)置已知的砑光機(jī)構(gòu)的情況下確定的。Ra(2)值是在設(shè)有砑光機(jī)構(gòu)的情況下確定的。本發(fā)明涉及一種利用擠壓涂覆機(jī)構(gòu)將含粘結(jié)劑的涂料涂覆到非磁性基底上的設(shè)備。機(jī)械性能得到改善的且具有磁性的磁記錄載體是通過(guò)擠壓機(jī)2的擠壓孔3設(shè)置在一塊裹角地覆有軟鐵片6的吸磁體5的對(duì)面而獲得的?；自跀D壓涂覆機(jī)構(gòu)的擠壓孔和磁體之間且在兩個(gè)導(dǎo)輥之間經(jīng)過(guò)。調(diào)整磁體的磁極方向以使其與基底走向平行。磁體和軟鐵片的位置是這樣的，即前邊緣16(位于上游側(cè))基本上布置在擠壓涂覆機(jī)構(gòu)的擠壓孔的對(duì)面。具有弧形導(dǎo)向面9的導(dǎo)向件8可以位于所述前邊緣的上游側(cè)，如此相對(duì)軟鐵片布置所述導(dǎo)向面9，即在基底背面和軟鐵片6的端面17之間存在最小間距。這可以在高涂覆速率且優(yōu)良的兩側(cè)表面性能的情況下生產(chǎn)出磁記錄載體。權(quán)利要求1.一種利用擠壓涂覆機(jī)構(gòu)(2)將至少一種含色料和聚合粘結(jié)劑的分散液涂覆到直線輸送的非磁性基底(1)正面上的設(shè)備，輸送磁性分散液的送料槽(4)的擠壓孔(3)基本上位于安置在基底背面附近的磁體(5)的磁極表面邊緣的對(duì)面，其特征在于，磁體(5)的磁化方向(NS)平行于基底(1)的走向，磁體被軟磁片(6)包覆，在上游側(cè)面對(duì)基底向的磁體(5)的磁極表面邊緣(7)與軟鐵片(6)的前邊緣(16)平齊且軟鐵片(6)至少在兩側(cè)上裹角地包住磁體(5)。2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，一個(gè)用于引導(dǎo)基底(1)的且其導(dǎo)向面成弧形的非磁性導(dǎo)向件(8，18)位于軟磁片(6)的上游側(cè)，導(dǎo)向面(9，19)以高于軟磁片(6)端面(17)的最小間距(b)引導(dǎo)基底。3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，弧形導(dǎo)向面(9，19)的頂點(diǎn)S至多在軟鐵片(6)端面(17)上方小于或等于0.5mm。4.如權(quán)利要求2或3所述的設(shè)備，其特征在于，導(dǎo)向面(19)的彎曲半徑(r)在下游側(cè)沿基底走向遞減。5.如權(quán)利要求2、3或4所述的設(shè)備，其特征在于，導(dǎo)向面(9，19)具有一個(gè)耐磨保護(hù)層。6.如權(quán)利要求2-5之一所述的設(shè)備，其特征在于，在導(dǎo)向面(9，19)上覆有金屬。7.如權(quán)利要求2-6之一所述的設(shè)備，其特征在于，導(dǎo)向面的粗糙度Rt小于或等于1um，特別是小于或等于0.5um。全文摘要通過(guò)設(shè)置在擠壓涂覆機(jī)構(gòu)的送料槽對(duì)面的且裹角地包有軟鐵片的吸磁體而改善了一種用于將磁性分散液涂覆到非磁性基底上的設(shè)備。軟鐵片的前邊緣基本上設(shè)置在送料槽的對(duì)面。一個(gè)位于軟鐵片前方的彎曲導(dǎo)向件在涂覆中改善了基底的滑動(dòng)性能。文檔編號(hào)G11B5/848GK1197527SQ97190862公開(kāi)日1998年10月28日申請(qǐng)日期1997年2月17日優(yōu)先權(quán)日1996年2月17日發(fā)明者埃伯哈德·納格勒,漢斯－京特·瓦格納,弗萊德里希·布羅茨申請(qǐng)人:埃姆特克磁性公司