寫到帶介質(zhì)12之后立即利用連續(xù)的有源OPU 32讀該數(shù)據(jù)軌道。
[0032]現(xiàn)在參照圖1-3，如前所述，適于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動的頭托架單元28可以包括設(shè)置在工作表面30處的多個頭32。帶驅(qū)動單元被配置為移動帶介質(zhì)12通過頭托架單元28的工作表面30，帶介質(zhì)12的寬度(w)可以大致等于頭托架單元28的工作表面30的寬度。隨著頭托架單元28旋轉(zhuǎn)并且?guī)?2移動通過工作表面30，第一個頭32可以適應(yīng)于、被配置為和/或被定位為將數(shù)據(jù)軌道54寫到帶12，并且第二個頭32可以適應(yīng)于、被配置為和/或被定位為隨后讀數(shù)據(jù)軌道54。第二個頭32所讀的數(shù)據(jù)用于驗(yàn)證數(shù)據(jù)完整性和執(zhí)行錯誤糾正。
[0033]如前所述，所述多個頭32中的每個頭均可以是光學(xué)頭，并且?guī)Ы橘|(zhì)可以是光學(xué)帶。頭32可以適應(yīng)于、被配置為和/或被定位為將數(shù)據(jù)軌道54寫到帶介質(zhì)12以及從帶介質(zhì)12讀數(shù)據(jù)軌道54。頭托架單元28可以大體上為盤形，工作表面30可以大體上為圓形，并且所述多個頭32可以在工作表面30上排列成圓形。適應(yīng)于、被配置為和/或被定位為在寫數(shù)據(jù)軌道54之后讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭32可以在工作表面30上緊鄰第一個頭32安置，第一個頭32適應(yīng)于、被配置和/或被定位為寫數(shù)據(jù)軌道54。
[0034]然而，應(yīng)指出，適應(yīng)于、被配置和/或被定位為在寫數(shù)據(jù)軌道54之后讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭32無需在工作表面上緊鄰第一個頭32安置。在這方面，適應(yīng)于、被配置和/或被定位為讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭32可以是在適應(yīng)于、被配置和/或被定位為隨著頭組件28旋轉(zhuǎn)而寫數(shù)據(jù)軌道54的第一個頭32后面的任何其他頭32。也就是說，適應(yīng)于、被配置和/或被定位為寫數(shù)據(jù)軌道54的頭32后面的第三個、第四個或任何其他頭32可以用于隨后讀數(shù)據(jù)軌道54以用于驗(yàn)證數(shù)據(jù)完整性和執(zhí)行錯誤糾正。此外，多個頭32可以用于在數(shù)據(jù)軌道54被第一個頭32寫之后冗余地讀數(shù)據(jù)軌道54。
[0035]還如前面所述的，所述多個頭32中的每個頭均可以適應(yīng)于或被配置用于在工作表面30處相對于頭托架單元28徑向移動，比如通過伺服子系統(tǒng)?？商娲兀ぷ鞅砻?0處的多個頭32可以包括頭32的第一個和第二個同心圓，第一個圓的直徑小于第二個圓的直徑。所述多個頭32中的適應(yīng)于、被配置和/或被定位為寫數(shù)據(jù)軌道54的第一個頭可以安置在頭32的第一個圓中，并且所述多個頭32中的適應(yīng)于、被配置和/或被定位為在寫數(shù)據(jù)軌道54之后讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭可以安置在頭32的第二個圓中。帶介質(zhì)12的寬度(w)可以小于所述多個頭32的圓的直徑，或者可替代地，寬度(w)可以大于所述多個頭32的圓的直徑。
[0036]接著參照圖4，示出了本文中所公開的數(shù)據(jù)存儲和檢索方法60的實(shí)施例的簡化流程圖。在其中看出，方法60可以包括:在62旋轉(zhuǎn)具有設(shè)置在工作表面處的多個光學(xué)頭的頭托架單元，并且在64移動光學(xué)帶介質(zhì)通過頭托架單元的工作表面。
[0037]方法60還可以包括:在66隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且?guī)б苿油ㄟ^工作表面，使用所述多個光學(xué)頭中的第一個光學(xué)頭將數(shù)據(jù)軌道寫到帶，并且在68隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且?guī)б苿油ㄟ^工作表面，使用所述多個光學(xué)頭中的第二個光學(xué)頭讀該數(shù)據(jù)軌道。所述多個頭中的第二個頭所讀的數(shù)據(jù)用于數(shù)據(jù)完整性驗(yàn)證和錯誤糾正。
[0038]再一次，如前面結(jié)合圖1-3所描述的，根據(jù)本文中所公開的數(shù)據(jù)存儲方法的實(shí)施例，所述多個頭中的每個頭均可以適應(yīng)于、被配置和/或被定位為將數(shù)據(jù)軌道54寫到帶介質(zhì)12以及從帶介質(zhì)12讀數(shù)據(jù)軌道54。頭托架單元28可以大體上為盤形，工作表面30可以大體上為圓形，并且所述多個頭32可以在工作表面30上排列成圓。適應(yīng)于、被配置和/或被定位為在寫數(shù)據(jù)軌道54之后讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭32可以在工作表面30上緊鄰第一個頭32安置，第一個頭32適應(yīng)于、被配置和/或被定位為寫數(shù)據(jù)軌道54。
[0039]還如以上結(jié)合圖1-3所描述的，根據(jù)本文中所公開的數(shù)據(jù)存儲方法，所述多個頭中的每個頭均可以適應(yīng)于或被配置用于在工作表面30處相對于頭托架單元28徑向移動，比如通過伺服子系統(tǒng)?？商娲?，工作表面30處的多個頭32可以包括頭32的第一個和第二個同心圓，第一個圓的直徑小于第二個圓的直徑。所述多個頭32中的適應(yīng)于、被配置和/或被定位為寫數(shù)據(jù)軌道54的第一個頭可以安置在頭32的第一個圓中，所述多個頭32中的適應(yīng)于、被配置和/或被定位為在寫數(shù)據(jù)軌道54之后讀數(shù)據(jù)軌道54的第二個頭可以安置在頭32的第二個圓中。帶介質(zhì)12的寬度(w)可以小于或大于所述多個頭32的圓的直徑。
[0040]從前面的描述中明顯的是，提供了具有旋轉(zhuǎn)頭設(shè)計的改進(jìn)的帶介質(zhì)數(shù)據(jù)存儲和檢索系統(tǒng)和方法。在旋轉(zhuǎn)頭托架組件上可用的多個頭元件可以用于在記錄數(shù)據(jù)時驗(yàn)證該數(shù)據(jù)。現(xiàn)有的寫頭被用于讀模式，以便在不需要額外的專用的讀頭的情況下檢查數(shù)據(jù)。由于寫元件也充當(dāng)讀元件，可以實(shí)現(xiàn)成本節(jié)省和復(fù)雜度降低，并且可以提高占空比和讀/寫性能。
[0041]雖然本文中已經(jīng)示出并且描述了利用帶介質(zhì)和旋轉(zhuǎn)頭的數(shù)據(jù)存儲和檢索系統(tǒng)和方法的某些實(shí)施例，但是它們僅僅是示例性的，并非意指這些實(shí)施例示出并且描述了所有可能的那些實(shí)施例。相反，本文中所使用的詞語是描述性、而非限制性的詞語，并且要理解可以在不脫離以下權(quán)利要求書的精神和范圍的情況下進(jìn)行各種改變。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種數(shù)據(jù)存儲和檢索系統(tǒng)，包括: 頭托架單元，所述頭托架單元具有設(shè)置在工作表面處的多個光學(xué)頭，所述頭托架單元適于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動；和 帶驅(qū)動單元，所述帶驅(qū)動單元被配置為移動光學(xué)帶介質(zhì)通過頭托架單元的所述工作表面； 其中，隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且所述帶移動通過工作表面，所述多個光學(xué)頭中的第一個光學(xué)頭被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到所述帶，并且所述多個光學(xué)頭中的第二個光學(xué)頭被配置為隨后讀所述數(shù)據(jù)軌道，其中，所述多個頭中的第二個頭所讀的數(shù)據(jù)用于驗(yàn)證數(shù)據(jù)完整性和執(zhí)行錯誤糾正。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述多個光學(xué)頭中的每個光學(xué)頭均被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到光學(xué)帶介質(zhì)以及從光學(xué)帶介質(zhì)讀數(shù)據(jù)軌道。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述頭托架單元大體上為盤形，所述工作表面大體上為圓形，并且所述多個頭在工作表面上排列成圓。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述多個光學(xué)頭中的第二個光學(xué)頭在工作表面上緊鄰所述多個光學(xué)頭中的第一個光學(xué)頭安置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的系統(tǒng)，其中，所述多個頭中的每個頭均被配置為在工作表面處相對于頭托架單元徑向移動。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述帶介質(zhì)的寬度小于所述多個光學(xué)頭的圓的直徑。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，所述帶介質(zhì)的寬度大于所述多個光學(xué)頭的圓的直徑。
8.一種數(shù)據(jù)存儲和檢索系統(tǒng)，包括: 頭托架單元，所述頭托架單元具有設(shè)置在工作表面處的多個頭，所述頭托架單元適于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動；和 帶驅(qū)動單元，所述帶驅(qū)動單元被配置為移動帶介質(zhì)通過頭托架單元的工作表面，所述帶介質(zhì)的寬度大致等于頭托架單元的工作表面的寬度； 其中，隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且所述帶移動通過工作表面，所述多個頭中的第一個頭被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到所述帶，并且所述多個頭中的第二個頭被配置為隨后讀所述數(shù)據(jù)軌道，其中，所述多個頭中的第二個頭所讀的數(shù)據(jù)用于驗(yàn)證數(shù)據(jù)完整性和執(zhí)行錯誤糾正。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述多個頭包括光學(xué)頭，并且所述帶介質(zhì)包括光學(xué)帶，并且其中，所述多個光學(xué)頭中的每個光學(xué)頭均被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到光學(xué)帶以及從光學(xué)帶讀數(shù)據(jù)軌道。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的系統(tǒng)，其中，所述頭托架單元大體上為盤形，所述工作表面大體上為圓形，并且所述多個頭在工作表面上排列成圓。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中，所述多個頭中的第二個頭在工作表面上緊鄰所述多個頭中的第一個頭安置。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述多個頭中的每個頭均被配置為在工作表面處相對于頭托架單元徑向移動。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中，所述帶介質(zhì)的寬度小于所述多個頭的圓的直徑。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的系統(tǒng)，其中，所述帶介質(zhì)的寬度大于所述多個頭的圓的直徑。
15.一種數(shù)據(jù)存儲和檢索方法，包括: 旋轉(zhuǎn)具有設(shè)置在工作表面處的多個光學(xué)頭的頭托架單元； 移動光學(xué)帶介質(zhì)通過頭托架單元的工作表面； 隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且所述帶移動通過工作表面，使用所述多個光學(xué)頭中的第一個光學(xué)頭將數(shù)據(jù)軌道寫到所述帶；以及 隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且所述帶移動通過工作表面，使用所述多個光學(xué)頭中的第二個光學(xué)頭讀所述數(shù)據(jù)軌道，其中，所述多個頭中的第二個頭所讀的數(shù)據(jù)用于數(shù)據(jù)完整性驗(yàn)證和錯誤糾正。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述多個光學(xué)頭中的每個光學(xué)頭均被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到光學(xué)帶介質(zhì)以及從光學(xué)帶介質(zhì)讀數(shù)據(jù)軌道。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中，所述頭托架單元大體上為盤形，所述工作表面大體上為圓形，并且所述多個頭在工作表面上排列成圓，并且所述多個光學(xué)頭中的第二個光學(xué)頭在工作表面上緊鄰所述多個光學(xué)頭中的第一個光學(xué)頭安置。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述多個光學(xué)頭中的每個光學(xué)頭均被配置為在工作表面處相對于頭托架單元徑向移動。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述帶介質(zhì)的寬度小于所述多個光學(xué)頭的圓的直徑。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中，所述帶介質(zhì)的寬度大于所述多個光學(xué)頭的圓的直徑。
【專利摘要】一種數(shù)據(jù)存儲和檢索系統(tǒng)，包括頭托架單元，該頭托架單元適于旋轉(zhuǎn)運(yùn)動，并且具有設(shè)置在工作表面處的多個頭。該系統(tǒng)還包括被配置為移動帶介質(zhì)通過頭托架單元的工作表面的帶驅(qū)動單元，帶介質(zhì)的寬度大致等于工作表面的寬度。隨著頭托架單元旋轉(zhuǎn)并且?guī)б苿油ㄟ^工作表面，第一個頭被配置為將數(shù)據(jù)軌道寫到帶，并且第二個頭被配置為隨后讀該數(shù)據(jù)軌道，其中，第二個頭所讀的數(shù)據(jù)用于驗(yàn)證數(shù)據(jù)完整性和執(zhí)行錯誤糾正。
【IPC分類】G11B7-006, G11B7-0045
【公開號】CN104798133
【申請?zhí)枴緾N201380059195
【發(fā)明人】C·麥迪森, T·C·奧斯特瓦爾德
【申請人】甲骨文國際公司
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2013年11月5日
【公告號】EP2917912A1, US8897113, US20140126344, WO2014074511A1