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      具有測(cè)試元件組元件的半導(dǎo)體器件的制作方法

      文檔序號(hào):6911912閱讀:367來源:國(guó)知局
      專利名稱:具有測(cè)試元件組元件的半導(dǎo)體器件的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及具有一種包括多個(gè)測(cè)試元件組(TEG)元件的半導(dǎo)體器件,尤其是涉及在半導(dǎo)體晶片上放置TEG元件的技術(shù)。
      另一方面,通常半導(dǎo)體芯片包括TEG元件,這些TEG元件用于在制造過程之后分析半導(dǎo)體芯片的元件特性或擴(kuò)散區(qū)或互連圖形的缺陷。TEG元件的例子包括具有在半導(dǎo)體襯底內(nèi)的擴(kuò)散區(qū)的晶體管圖形和覆蓋在半導(dǎo)體襯底上的互連圖形,用于監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體芯片上的普通元件或普通連線的擴(kuò)散過程或蝕刻過程。通過使用電連接TEG元件并一般地位于所述TEG元件下的相關(guān)TEG鍵合焊盤可以方便地測(cè)量出普通元件和普通連線的電氣特性。
      重要的是,在半導(dǎo)體芯片中放置所述TEG元件,同時(shí)安排普通元件和普通連線,而基本上不增加半導(dǎo)體芯片的尺寸。通常,所述TEG元件被安排在專用區(qū)域或芯片上的限定區(qū)域。
      常規(guī)技術(shù)中,TEG元件的區(qū)域阻礙半導(dǎo)體芯片的尺寸進(jìn)一步減小,不論所述TEG元件是被放置在專用區(qū)域還是芯片的限定區(qū)域中。此外,由于測(cè)試方面的困難,放置在限定區(qū)域中的所述TEG元件不適合在制造過程后對(duì)缺陷或電氣特征進(jìn)行有效地分析。

      發(fā)明內(nèi)容
      因此,本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種具有TEG元件的半導(dǎo)體器件,所述TEG元件適于有效地分析電氣特征或在擴(kuò)散步驟或刻蝕步驟中導(dǎo)致的缺陷,并且基本上不增加半導(dǎo)體芯片的尺寸。
      本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種半導(dǎo)體晶片,在制造半導(dǎo)體器件的過程中在其上加工這樣的半導(dǎo)體器件。
      本發(fā)明提供了一種半導(dǎo)體芯片,包括普通元件、與普通元件相連的鍵合焊盤、和至少一個(gè)位于鍵合焊盤下的TEG元件。
      本發(fā)明還提供一種半導(dǎo)體晶片,該半導(dǎo)體晶片包括半導(dǎo)體襯底、多個(gè)形成在半導(dǎo)體襯底上的半導(dǎo)體芯片、多個(gè)將半導(dǎo)體芯片分割開的劃片道、至少一個(gè)用于監(jiān)測(cè)一個(gè)半導(dǎo)體芯片的一部分的TEG元件、和至少一個(gè)連接所述TEG元件并且放置在用于劃片道的區(qū)域中的TEG鍵合焊盤。
      根據(jù)本發(fā)明的半導(dǎo)體芯片,在鍵合焊盤下或者具有用于劃片道的區(qū)域中放置的TEG鍵合焊盤的所述TEG減小了半導(dǎo)體芯片的尺寸,并且降低了用于半導(dǎo)體芯片的成本。
      參見附圖,根據(jù)下面的介紹,本發(fā)明的上述目標(biāo)、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將變得更加清楚。
      圖2是半導(dǎo)體晶片的局部俯視圖,根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例在其上制造多個(gè)半導(dǎo)體芯片。
      圖3是半導(dǎo)體晶片的局部俯視圖,根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例在其上制造多個(gè)半導(dǎo)體芯片。
      參見

      圖1,根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例,一個(gè)由數(shù)字13一般性地表示的半導(dǎo)體晶片,在該半導(dǎo)體晶片的上面安裝有多個(gè)在半導(dǎo)體襯底上形成的半導(dǎo)體芯片10。晶片13包括多個(gè)在行方向和列方向延伸的劃片道14,用于把晶片13分割成多個(gè)半導(dǎo)體芯片10。通過在半導(dǎo)體芯片制造和測(cè)試后使用一種切割設(shè)備,可用劃片道14把半導(dǎo)體芯片10相互分割開。
      每個(gè)半導(dǎo)體芯片10包括沿每個(gè)半導(dǎo)體芯片10周邊排布的多個(gè)鍵合焊盤11。用于監(jiān)測(cè)普通元件如晶體管元件的多個(gè)TEG元件12被置于相應(yīng)的鍵合焊盤11下面。3個(gè)TEG鍵合焊盤15相應(yīng)于每個(gè)TEG元件11被放在劃片道14上。
      形成每個(gè)TEG元件12,以用于監(jiān)測(cè)形成于半導(dǎo)體襯底上并且位于相應(yīng)的鍵合焊盤11的正下方的晶體管如MOSFET的擴(kuò)散區(qū)。TEG元件12通過通孔和連線連接到相應(yīng)的TEG壓點(diǎn)15,所述連線在用于相應(yīng)的鍵合焊盤11的通孔之下。在沿劃片道14切割晶片13之前TEG壓點(diǎn)15用于測(cè)試擴(kuò)區(qū)的電器特性或檢測(cè)連線圖形的缺陷。
      在半導(dǎo)體器件中,通過使用鍵合焊盤11下方的區(qū)域,TEG元件12基本上不增加芯片面積,這與傳統(tǒng)工藝不同,傳統(tǒng)工藝中,TEG元件被放在專門的區(qū)域或限定的區(qū)域。
      此外,通過把TEG壓點(diǎn)15放在劃片道14上,TEG 15鍵合焊盤占用的面積也不增加芯片的面積。
      在本實(shí)施例中,通過半導(dǎo)體芯片10的上述配置,能夠把多個(gè)TEG元件放置在芯片10上面而不需要提供專門的區(qū)域。因此增加了芯片的有效面積,而芯片本身的面積并沒有增加。由于有大量的TEG元件12,在擴(kuò)散過程和蝕刻過程后分析電器特性和缺陷時(shí)能夠得到大量的信息。
      參見圖2,根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例,在半導(dǎo)體晶片13上半導(dǎo)體芯片20的安裝有多個(gè),例如,多個(gè)(本例中為2個(gè))TEG元件12被置于壓點(diǎn)11下方,用以監(jiān)測(cè)擴(kuò)區(qū)或連線圖形。本實(shí)施例中晶片上的其他配置與圖1中的配置類似。
      由于2個(gè)放在單個(gè)壓點(diǎn)11下的TEG元件12沒有放在相鄰的層上,因此它們互不影響,所述2個(gè)TEG元件12可以放在相同的鍵合焊盤11的下方。這2個(gè)TEG元件通過通孔和連線與置于劃片道14上的相應(yīng)的鍵合焊盤15相連。
      通過提供單個(gè)鍵合焊盤11正下方的多個(gè)TEG元件12,更多的TEG元件12可以被放在單個(gè)芯片20上。2個(gè)TEG元件12應(yīng)被放在不同的層上,不使用公共的通孔,以使其互不影響。
      參見圖3,根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例,一個(gè)在其上放置有多個(gè)半導(dǎo)體芯片25的晶片13,包括多個(gè)TEG壓點(diǎn)12和置于所述劃片道14下的相應(yīng)的TEG焊點(diǎn)15。TEG元件12放置在沿半導(dǎo)體芯片10的周邊安排的鍵合焊盤11的鄰近區(qū)域。所述TEG壓點(diǎn)15在相應(yīng)的TEG元件12之上。
      圖3中,幾個(gè)TEG元件12被放在劃片道14的區(qū)域27內(nèi),用于在其內(nèi)容納附屬圖形26,如對(duì)齊標(biāo)志或基準(zhǔn)圖形。對(duì)齊標(biāo)志用于相對(duì)芯片10布置圖形,而基準(zhǔn)圖形用于對(duì)準(zhǔn)芯片10上的2個(gè)或多個(gè)圖形。TEG元件12可以放在附屬圖形26的上方或下方。這種配置也減少芯片面積。
      以上實(shí)施例僅僅是示例性的介紹,本發(fā)明不受限于以上實(shí)施例,并且,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以容易地從其中得出不同的修改或者替換而不背離本發(fā)明的范圍。
      權(quán)利要求
      1.一種半導(dǎo)體芯片,包括普通元件,連接到所述普通元件的鍵合焊盤,和在所述鍵合焊盤下的至少一個(gè)TEG元件。
      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片,其中多個(gè)所述的TEG元件位于所述鍵合焊盤之下。
      3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片,其中所述鍵合焊盤放置在所述半導(dǎo)體芯片的周邊附近。
      4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片,其中所述TEG元件包括多個(gè)擴(kuò)散區(qū)。
      5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體芯片,其中所述TEG元件為互連圖形。
      6.一種半導(dǎo)體晶片,包括半導(dǎo)體襯底,多個(gè)在所述半導(dǎo)體襯底上形成的半導(dǎo)體芯片,將所述半導(dǎo)體芯片相互分開的多個(gè)劃片道,至少一個(gè)用于監(jiān)測(cè)所述半導(dǎo)體芯片的一部分的TEG元件,和至少一個(gè)與所述TEG元件連接并設(shè)置在用于所述劃片道的區(qū)域中的TEG元件。
      7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體晶片,其中所述TEG元件放置在用于所述劃片道的所述區(qū)域中。
      8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體晶片,其中所述TEG元件在用于所述劃片道的所述區(qū)域中形成的附屬圖形之下或之上。
      9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的半導(dǎo)體晶片,其中所述TEG元件放置在所述半導(dǎo)體芯片中,并且在鍵合焊盤之下。
      全文摘要
      一種半導(dǎo)體晶片,包括多個(gè)半導(dǎo)體芯片和多個(gè)用于將所述半導(dǎo)體芯片相互分開的劃片道。所述半導(dǎo)體芯片包括鍵合焊盤和用于監(jiān)測(cè)半導(dǎo)體芯片中的正常晶體管的擴(kuò)散區(qū)域或互連圖形的位于下面的TEG元件。
      文檔編號(hào)H01L27/04GK1380692SQ0210570
      公開日2002年11月20日 申請(qǐng)日期2002年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2001年4月12日
      發(fā)明者杉山香月 申請(qǐng)人:日本電氣株式會(huì)社
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