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      形成具有空腔封裝構(gòu)造的方法

      文檔序號:6910463閱讀:240來源:國知局
      專利名稱:形成具有空腔封裝構(gòu)造的方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本發(fā)明涉及一種制造多層陶瓷(Multi-layer Ceramics;MLC)封裝構(gòu)造的方法,特別是一種制造具有空腔的低溫共燒陶瓷(Low-Temperature Co-fired Ceramics;LTCC)封裝構(gòu)造的方法。
      背景技術(shù)
      體積縮小化是目前所有電子產(chǎn)品的趨勢。此應(yīng)用的趨勢不僅在未來移動電話上可預(yù)見,在所有無線局域網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)(WLAN),如藍(lán)芽或以IEEE802.11為基礎(chǔ)的系統(tǒng)等,都可以預(yù)期。就以整個產(chǎn)品而言,在微波部分(RF&amp;IF)里的主要元件,除了主動的RF IC和RF模塊外,還包含了大量的被動元件。而其中最獨特的即是表面聲波濾波器(SAWFilters)。基于主動元件在整合技術(shù)上的貢獻(xiàn),所有元件的總數(shù)有下降的趨勢。但在另一方面表面聲波濾波器的顆數(shù)卻在增加中。隨著移動電話的多功能化,一般而言,每支雙頻GSM移動電話約需4~5顆RF表面聲波濾波器,至于多頻多模的CDMA移動電話,對RF表面聲波濾波器的需求更超過5顆以上。因此為滿足市場上的體積縮小化的要求,表面聲波元件亦必須做出相當(dāng)?shù)呢暙I(xiàn),否則整個產(chǎn)品縮小體積的夢想將無法達(dá)成。
      表面聲波芯片(SAW Chip)上的電極,一般皆由鋁薄膜的對指型換能器(Interdigital Transducer;IDT)構(gòu)成。根據(jù)頻率的要求,線寬需隨頻率的增高而變細(xì)。一般而言為達(dá)到1.7~1.9GHz的頻率,則線寬需在0.5μm左右。此鋁薄膜的厚度,一般而言也不超過1μm。這使得表面聲波芯片的功能,會因空氣中的水分、濕氣或塵粒的附著而產(chǎn)生功能的改變。也因此使氣密式的封裝,對表面聲波元件而言,是絕對必要的。目前市面上可取得能達(dá)到高可靠度的氣密式密封(HermeticSeal),其結(jié)構(gòu)如圖1所示。
      如圖1所示,為現(xiàn)有技術(shù)中表面聲波元件的氣密式封裝構(gòu)造的剖面示意圖。該封裝構(gòu)造10包含了一空腔12,用以保護(hù)一表面聲波元件13,而該空腔12由一底板14、側(cè)面壁16a、16b、16c以及一頂蓋18所形成。一般而言,該底板14以及該側(cè)面壁16a、16b、16c使用陶瓷材料制成,而該頂蓋18除了可由陶瓷材料制成外,亦可由金屬制成。于該底板14的上表面涂有一粘著劑20,用以接合該表面聲波元件13。該表面聲波元件13包含了一壓電基板13a、對指型換能器13b以及連結(jié)接墊13c。該連接接墊13c通過導(dǎo)線22而連接至內(nèi)部接墊24,且該內(nèi)部接墊與外部接墊26電性導(dǎo)通,使得該表面聲波元件13得以電性連接至一外部電路。然而,由于該封裝構(gòu)造10的體積大且其制造成本高,因此,已不符合未來電子裝置的需求。
      為了縮小該表面聲波元件封裝構(gòu)造的體積,于是,頒給Gotoh等人的美國專利第6,417,026號揭示了一種「以倒貼方式連接至一基板的表面聲波元件“Acoustic Wave Device Face-down Mounted on asubstrate”」,其有效地將一表面聲波元件的封裝構(gòu)造的體積縮小至一半以上。
      如圖2a所示,為Gotoh等人所揭示的表面聲波元件封裝構(gòu)造安裝于一基板的剖面示意圖。該封裝構(gòu)造30具有一表面聲波元件32,該表面聲波元件32包含一壓電基板32a、對指型換能器32b以及連結(jié)接墊32c。于該連結(jié)接墊32c上形成有一絕緣層34,以圍繞于對指型換能器32b以及連結(jié)接墊32c的周圍,而一保護(hù)層36接合于該絕緣層34上,以形成一氣密式空腔38,用以保護(hù)該表面聲波元件32的主要活動表面(main active surface)32d以及該對指型換能器32b。請配合參考圖2b,該連結(jié)接墊32c電性連接一凸塊電極40,該凸塊電極40貫穿該絕緣層34以及該保護(hù)層36,以電性連接至一基板42的電路接線(circuit traces)44上。該表面聲波元件32當(dāng)通過該凸塊(bump)電極40連接至該基板42的電路接線44后,被涂上一內(nèi)層保護(hù)層46,用以松弛應(yīng)力以及隔絕電氣,以及一外層保護(hù)層48,用以增加元件強(qiáng)度及防止水分入侵。
      然而,Gotoh等人所揭示的封裝方式雖已大大地減少了整個表面聲波元件封裝構(gòu)造的體積,但其所構(gòu)成的氣密式空腔38的制程仍為復(fù)雜,如圖2b所示。其制程包含了多次曝光顯影、金屬鍍膜及化學(xué)蝕刻的工作程序,因而使得制作成本仍無法大幅度降低。
      有鑒于此,本發(fā)明提供一種具有空腔的封裝構(gòu)造及其形成方法,用以縮小單一表面聲波元件封裝構(gòu)造的體積及占用的面積,并降低制造成本。

      發(fā)明內(nèi)容
      本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足與缺陷,提供一種用以形成具有空腔封裝構(gòu)造的方法,用以縮小單一表面聲波元件封裝構(gòu)造的體積及占用的面積,并降低制造成本。
      為達(dá)上述目的,本發(fā)明提供一種用以形成具有空腔的封裝構(gòu)造的方法,該方法包含步驟如下(a)提供一芯片元件,其具有一表面電路以及數(shù)個第一接墊位于該表面電路的外緣;(b)提供一多層陶瓷基板,具有一凹洞以及數(shù)個第二接墊位于該凹洞的外緣,其分別對應(yīng)于該表面電路以及該數(shù)個第一接墊;(c)涂覆一膠層于除了該凹洞與該數(shù)個第二接墊外的多層陶瓷基板表面上;(d)通過該膠層而將該芯片元件與該多層陶瓷基板緊密接合,使該表面電路對應(yīng)于該凹洞而形成一空腔,并將該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊電性連接。


      圖1為現(xiàn)有技術(shù)中表面聲波元件的氣密式封裝構(gòu)造的剖面示意圖;
      圖2a為現(xiàn)有技術(shù)中表面聲波元件的氣密式封裝構(gòu)造安裝于一基板的剖面示意圖;圖2b為現(xiàn)有技術(shù)中表面聲波元件的氣密式封裝構(gòu)造的剖面示意圖;圖3為根據(jù)本發(fā)明的具有空腔的封裝構(gòu)造分解示圖;圖4為根據(jù)本發(fā)明一實施例的具有空腔的封裝構(gòu)造剖面示圖;圖5為根據(jù)本發(fā)明另一實施例的具有空腔的封裝構(gòu)造剖面示圖;圖6為于一多層陶瓷基板的一初胚上打洞的示意圖;圖7為圖6的多層陶瓷基板的剖面示意圖;圖8為一整片多層陶瓷基板于燒結(jié)后,未切割前的示意圖。
      圖中符號說明10封裝構(gòu)造12空腔13表面聲波元件14底板16a、16b、16c 側(cè)面壁18頂蓋20粘著劑22導(dǎo)線24內(nèi)部接墊26外部接墊30封裝構(gòu)造32表面聲波元件32a 壓電基板32b 對指型換能器32c 連結(jié)接墊34絕緣層 36保護(hù)層40凸塊電極42基板44電路接線46內(nèi)層保護(hù)層48外層保護(hù)層 50芯片元件52多層陶瓷基板53基板表面54表面電路56第一接墊58凹洞60第二接墊62膠層64鍍通線路66外部接墊68空腔
      70金層72內(nèi)部保護(hù)層74外層保護(hù)層 76線路78元件80初胚82洞口84多層陶瓷基板86凹洞88鍍通線路具體實施方式
      下面結(jié)合附圖和實施例詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實施方式
      。
      現(xiàn)請參考圖3,其為根據(jù)本發(fā)明的具有空腔的封裝構(gòu)造分解示圖。圖中顯示一芯片元件50以及一多層陶瓷基板52,其中該芯片元件50上具有一表面電路54以及數(shù)個第一接墊56;該數(shù)個第一接墊56位于該表面電路54的外緣,且與該表面電路電性連接,并用以電性連接至外部電路(未顯示);而該多層陶瓷基板52的表面53上具有一凹洞58與該表面電路54相對,以及數(shù)個第二接墊60位于該凹洞58的外緣,而與該芯片元件50的數(shù)個第一接墊56相對應(yīng)。于該多層陶瓷基板52的表面53上,除了該凹洞58、該數(shù)個第二接墊60以及該表面53的邊緣外,涂有一膠層62,而該膠層62通常為一粘膠樹脂。
      于圖3中,該多層陶瓷基板52具有數(shù)個鍍通線路64(viaconductor)與該數(shù)個第二接墊60各自電性連接,而該數(shù)個鍍通線路64貫穿該多層陶瓷基板52而與數(shù)個外部接墊66連接,用以與其它外部電路(未顯示)連接。
      該芯片元件50與該多層陶瓷基板52相對接合時,該數(shù)個第一接墊56對齊該數(shù)個第二接墊60而加壓,使該芯片元件50與該多層陶瓷基板52通過該膠層62而得以緊密接合,并使得該表面電路54對應(yīng)于該凹洞58而形成一空腔68,如圖4所示。
      該數(shù)個第二接墊60的表面上通常具有一金層70,該金層70用以使其與該數(shù)個第一接墊56更容易電性接合,而當(dāng)該芯片元件50與該多層陶瓷基板52加壓接合后,通常通過超聲波連結(jié)方式將該數(shù)個第一接墊56與該數(shù)個第二接墊60做一具有足夠強(qiáng)度且可靠的電性連接。另外,于該芯片元件50與該多層陶瓷基板52上,可涂覆一內(nèi)部保護(hù)層72,用以松弛應(yīng)力以及隔絕電氣,而該內(nèi)部保護(hù)層72較佳的材料為硅。該內(nèi)部保護(hù)層72上,可涂覆一外層保護(hù)層74,用以增加元件強(qiáng)度及防止水分入侵,而該外部保護(hù)層74較佳的材料為環(huán)氧樹脂。
      應(yīng)了解到,本發(fā)明的多層陶瓷基板52的數(shù)個第二接墊60所電性連接的數(shù)個鍍通線路64可通過該多層陶瓷基板52內(nèi)的內(nèi)部層的線路76而與其它電路連接,例如與該多層陶瓷基板52表面上的一元件78電性連接,如圖5所示。
      根據(jù)本發(fā)明的上述實施例中,其中該芯片元件為一表面聲波元件,而該表面電路為一對指型換能器。而應(yīng)了解到,本發(fā)明的空腔的封裝構(gòu)造可應(yīng)用在其它具有表面電路的晶體元件,如石英元件、微機(jī)電(MEMS)元件、半導(dǎo)體元件以及光學(xué)元件上。而根據(jù)本發(fā)明的該多層陶瓷基板可使用的材料如氮化鋁(ALN)、低溫共燒陶瓷(LTCC)、積層共燒陶瓷(MLCC)以及氧化鋁(AL2O3)以及高分子材料等,皆可應(yīng)用于本發(fā)明的實施例中。
      根據(jù)本發(fā)明,用以形成具有空腔封裝構(gòu)造的方法包含下列步驟(a)提供一芯片元件,其具有一表面電路以及數(shù)個第一接墊位于該表面電路的外緣,該表面電路通過該數(shù)個第一接墊而與一外部電路電性連接,而該芯片元件如表面聲波元件(SAW Devices),半導(dǎo)體元件以及光學(xué)元件等;(b)提供一多層陶瓷基板,具有一凹洞以及數(shù)個第二接墊,該數(shù)個第二接墊位于該凹洞的外緣,且該凹洞與該數(shù)個第二接墊分別對應(yīng)于該表面電路以及該數(shù)個第一接墊;(c)涂覆一膠層于除了該凹洞與該數(shù)個第二接墊外的多層陶瓷基板表面上,用以與該芯片元件連接;(d)通過該膠層而將該芯片元件與該多層陶瓷基板緊密接合,使該表面電路對應(yīng)于該凹洞而形成一空腔,接著通過超聲波連結(jié)方式而使該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊電性連接,其中該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊較佳可通過一金(Au)層作為其連接接口。于步驟(b)中,該多層陶瓷基板于燒結(jié)前,至少于前一層初胚上打洞,以于燒結(jié)后在該多層陶瓷基板上形成該凹洞。較佳地,該多層陶瓷基板可使用的材料如氮化鋁(ALN)、低溫共燒陶瓷(LTCC)、積層共燒陶瓷(MLCC)以及氧化鋁(AL2O3)以及高分子材料等。
      上述的方法另包含步驟涂覆一內(nèi)部保護(hù)層于該芯片元件與該多層陶瓷基板上,用以松弛應(yīng)力以及隔絕電氣;以及涂覆一外層保護(hù)層,用以增加元件強(qiáng)度及防止水分入侵。其中該內(nèi)層保護(hù)層的材料為硅,而該外層保護(hù)層的材料為環(huán)氧樹脂。
      如圖1及2a及2b所示,現(xiàn)有表面聲波芯片的復(fù)雜結(jié)構(gòu),基本上不外乎對表面聲波芯片上鍍有IDT電極及連結(jié)電極的表面提供氣密式的空間,以保護(hù)該表面不受到環(huán)境水分及微塵的影響。而事實上,此IDT的鍍層厚度皆不超過1μm。本發(fā)明應(yīng)用多層陶瓷材料(MLC),尤其低溫共燒陶瓷(TLCC)作為封裝及線路基材的技術(shù)。一般而言,目前多層陶瓷初胚(Green Sheet)在技術(shù)上可達(dá)到的最小厚度都在50μm左右。此厚度在燒結(jié)后,以厚度方面收縮最多的LTCC技術(shù)而言,也仍有25μm。再另一方面,制成的基板也得有至少300μm的厚度,以達(dá)到一般的強(qiáng)度要求。若以有100μm厚度的多層陶瓷初胚而言,則仍須有6層多層陶瓷初胚堆疊在一起,方能達(dá)到在燒結(jié)后300μm的厚度。根據(jù)此一事實,只需在多層陶瓷的最上一層打上配合各種不同設(shè)計的表面聲IDT圖案的空洞(如圖6,7及8)。其它的貫通式內(nèi)接導(dǎo)線(ViaConductor)或平面導(dǎo)線(Inner Conductor),則可根據(jù)個別需要,利用此多層的結(jié)構(gòu)實現(xiàn)的。如圖7及8,本發(fā)明則提供最簡單的貫通式貫通式內(nèi)接導(dǎo)線設(shè)計。此設(shè)計將適合把表面聲波芯片封裝成表面粘著技術(shù)(SMT)應(yīng)用的單一芯片尺寸級封裝構(gòu)造(CSP,Chip-Size ScalePackage)。
      根據(jù)本發(fā)明的一特征,其中該多層陶瓷基板上的凹洞其形成方式,在于該多層陶瓷基板于燒結(jié)前,至少于第一頂層初胚80或數(shù)頂層初胚上打一洞口82,該洞口82的形狀可為正方形,長方形,橢圓形,或其它用以容納芯片元件的形狀,如圖6所示。的后將具有打洞口82的頂層初胚與數(shù)層未打洞的初胚重疊而進(jìn)行燒結(jié),以形成一多層陶瓷基板84,而該多層陶瓷基板84上形成有一凹洞86,如圖7所示。應(yīng)了解到,該多層陶瓷基板84上形成有數(shù)個鍍通線路88,用以作為進(jìn)行封裝時的電性連接路徑。如圖8所示為一整片多層陶瓷基板于燒結(jié)后,未切割前的示意圖。
      本發(fā)明是利用多層陶瓷技術(shù)(Multi-layer Ceramics;MLC),尤其是低溫共燒陶瓷技術(shù)(Low-Temperature Co-fired Ceramics;LTCC)來達(dá)成表面聲波元件(SAW Devices)及其模塊更縮小化的封裝。此封裝部材,亦同時為此芯片元件(Chip Device)的基材。利用本發(fā)明的新技術(shù),不僅可達(dá)到芯片尺寸級封裝構(gòu)造(Chip-Size Package),亦增加元件的應(yīng)用范圍,并可減少生產(chǎn)成本。
      雖然本發(fā)明已以前述實施例揭示,然其并非用以限定本發(fā)明,任何熟悉此技術(shù)者,在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi),當(dāng)可作各種的更動與修改,因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書的范圍所界定者為準(zhǔn)。
      權(quán)利要求
      1.一種形成具有空腔的封裝構(gòu)造的方法,其特征在于,包含下列步驟提供一芯片元件,其具有一表面電路以及數(shù)個第一接墊位于該表面電路的外緣;提供一多層陶瓷基板,具有一凹洞以及數(shù)個第二接墊位于該凹洞的外緣,其分別對應(yīng)于該表面電路以及該數(shù)個第一接墊;涂覆一膠層于除了該凹洞與該數(shù)個第二接墊外的多層陶瓷基板表面上;通過該膠層而將該芯片元件與該多層陶瓷基板緊密接合,使該表面電路對應(yīng)于該凹洞而形成一空腔,并將該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊電性連接。
      2.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊通過超聲波連結(jié)方式而電性連接。
      3.如權(quán)利要求2所述的方法,其中,該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊通過一金層而電性連接。
      4.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該芯片元件為一表面聲波元件,而該表面電路為一對指型換能器。
      5.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該芯片元件為一半導(dǎo)體元件。
      6.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該芯片元件為一光學(xué)元件。
      7.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該芯片元件為一石英元件。
      8.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該芯片元件為一微機(jī)電元件。
      9.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該陶瓷基板的材料由氮化鋁、低溫共燒陶瓷、積層共燒陶瓷以及氧化鋁以及高分子材料所構(gòu)成的群組中選出。
      10.如權(quán)利要求1所述的方法,另包含涂覆一內(nèi)部保護(hù)層于該芯片元件與該多層陶瓷基板上,用以松弛應(yīng)力以及隔絕電氣。
      11.如權(quán)利要求10所述的方法,另包含涂覆一外層保護(hù)層,用以增加元件強(qiáng)度及防止水分入侵。
      12.如權(quán)利要求1所述的方法,其中,該多層陶瓷基板上的凹洞其形成方式,在于該多層陶瓷基板于燒結(jié)前,至少于第一頂層初胚打一洞口,之后將具有打洞口的頂層初胚與數(shù)層未打洞的初胚重疊而進(jìn)行燒結(jié),以形成該多層陶瓷基板。
      13.如權(quán)利要求12所述的方法,其中,該洞口的形狀可為正方形,長方形或橢圓形。
      14.一種形成具有凹洞的多層陶瓷基板的方法,其特征在于,包含下列步驟將至少一頂層初胚上打一洞口;提供數(shù)層未打洞的初胚;及將具有打洞口的頂層初胚與該數(shù)層未打洞的初胚重疊而進(jìn)行燒結(jié)。
      15.如權(quán)利要求14所述的方法,其中,該洞口的形狀可為正方形,長方形或橢圓形。
      16.如權(quán)利要求14所述的方法,其中,該陶瓷基板的材料由氮化鋁、低溫共燒陶瓷、積層共燒陶瓷以及氧化鋁以及高分子材料所構(gòu)成的群組中選出。
      全文摘要
      本發(fā)明涉及一種用以形成具有空腔封裝構(gòu)造的方法,該方法包含步驟如下(a)提供一芯片元件,其具有一表面電路以及數(shù)個第一接墊位于該表面電路的外緣;(b)提供一多層陶瓷基板,具有一凹洞以及數(shù)個第二接墊位于該凹洞的外緣,其分別對應(yīng)于該表面電路以及該數(shù)個第一接墊;(c)涂覆一膠層于除了該凹洞與該數(shù)個第二接墊外的多層陶瓷基板表面上;(d)通過該膠層而將該芯片元件與該多層陶瓷基板緊密接合,使該表面電路對應(yīng)于該凹洞而形成一空腔,并將該數(shù)個第一接墊與該數(shù)個第二接墊電性連接。
      文檔編號H01L23/48GK1599061SQ0315853
      公開日2005年3月23日 申請日期2003年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月18日
      發(fā)明者洪居萬 申請人:立朗科技股份有限公司
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