專利名稱:化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明屬于銀基電接觸材料,特別涉及電觸頭材料的成分和制備工藝。
背景技術(shù):
目前,公知的銀基電觸頭材料1.采用高能球磨制備納米SnO2銀基電接觸合金(專利申請(qǐng)?zhí)?0135475.2);2.納米SnO2/Fe2O3共混摻雜銀基電接觸合金及其制備方法(專利申請(qǐng)?zhí)?003101222631);3.溶膠-凝膠法制備納米SnO2、ZnO、TiO2及稀土成分制備納米銀基電接觸合金(專利申請(qǐng)?zhí)?2146696.3);4.采用摻雜金屬氧化物(含SnO2,ZrO,ZnO、TiO,MnO,WO等)的銀基電接觸合金(專利申請(qǐng)?zhí)?3100430.X),以及在加工中進(jìn)行硼或碳、氮、硼三元共滲的銀基電觸頭材料的常規(guī)技術(shù)。以上技術(shù)在電觸頭材料的電性能,觸點(diǎn)燒損速率及使用壽命方面有一定的局限性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種稀土納米非晶或納米晶混雜AgSnO2電接觸合金及其制備工藝,它通過稀土元素的添加改善納米顆粒的結(jié)構(gòu)、分散性和尺寸穩(wěn)定性,得到納米非晶或納米晶的SnO2,使電觸頭合金的成型性、電性能得到改善,同時(shí)解決了納米相易于團(tuán)聚而分散電弧不足的弊端,從而顯著降低觸點(diǎn)燒蝕速率,提高銀基電觸頭的使用壽命。
本發(fā)明的解決方案是化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是它包括銀、氧化錫、氧化鎂、攙雜稀土元素組成,各組分重量含量是銀70~95%、氧化錫2.5~20%、氧化鎂0.025~1%、鑭或鈰0.025~9%。
它通過高能球磨混粉,將銀粉與氧化錫、氧化鎂、稀土鑭或鈰的納米非晶或納米晶混雜氧化物混粉,制備成含納米非晶或納米晶氧化物的Ag和SnO2、MgO、La或Ce的復(fù)合粉。
它通過化學(xué)共沉淀制備混合粉,將銀、氧化錫、氧化鎂、稀土鑭或鈰共沉淀,制備成含納米非晶或納米晶混雜氧化物的Ag和SnO2、MgO、La或Ce的復(fù)合粉。
所述的復(fù)合粉用熱壓燒結(jié)或無(wú)壓燒結(jié)工藝成型,再?gòu)?fù)壓退火,才能得到含納米非晶或納米晶氧化物的銀基電接觸合金材料。
所述的化學(xué)共沉淀方法制備以Sn(OH)4為核心的氫氧化物及其水解產(chǎn)物,是利用SnCl4與MgCl2和LaCl3或CeCl3的水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4為核心的氫氧化物及其水解產(chǎn)物,300-850℃,1-3h培燒制備含50-99%SnO2、0.5~5%MgO、0.5-45%La(或0.5~45%Ce)的納米非晶或納米晶共混氧化物;納米粒度在1-100nm,稀土元素La或Ce均勻分布或固溶于SnO2納米非晶或納米晶粒中。
所述的銀粉與氧化錫、氧化鎂、稀土鑭(或鈰)的納米非晶或納米晶混雜氧化物重量比80~95∶5~20,通過高能球磨混粉,球料比10~100∶1,相應(yīng)的球磨時(shí)間為15分鐘~3小時(shí),混粉過程中,球料比越大,球磨時(shí)間越短,也可以在空氣或氮?dú)猸h(huán)境進(jìn)行高能球磨混粉。
所述的化學(xué)共沉淀制備摻雜稀土鑭(La)或鈰(Ce)的氧化錫(SnO2)、氧化鎂(MgO)納米非晶或納米晶混雜氧化物,使用SnCl4水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4,干燥、300-650℃,1-3h培燒制備SnO2;再與Mg(NO3)2、La(NO3)3或Ce(NO3)3和AgNO3混合成懸浮液,滴加1mol/L Na2CO3水溶液,得到SnO2為核心的水解產(chǎn)物,在300~850℃條件下,1~3h培燒,含70~95%Ag、4.8~20%SnO2、0.1~1%MgO、0.1~9%La(或0.1~9%Ce)的納米非晶或納米晶共混合金粉,納米非晶或納米晶共混合金粉的納米粒度1~100nm,氧化物、稀土元素均勻分布或相互固溶于Ag中的合金粉末。
納米非晶或納米晶復(fù)合粉末(可經(jīng)過預(yù)先退火)經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~850℃、50~400MPa下熱壓燒結(jié);或經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~850℃、4~12h燒結(jié),經(jīng)熱擠壓、熱拉拔、軋制或復(fù)壓等常規(guī)工藝成型。
本發(fā)明的特點(diǎn)是1、化學(xué)共沉淀制備SnO2、MgO摻雜稀土La或Ce的納米非晶或納米晶混雜氧化物,高能球磨混粉制備含納米非晶或納米晶氧化物的Ag、SnO2、MgO,La、Ce的復(fù)合粉。2、用SnCl4以水為載體化學(xué)共沉淀、培燒等方法先制備SnO2,再與AgNO3、Mg(NO3)2和La(NO3)3或Ce(NO3)3水溶液混合,在混合懸浮液中滴加1mol/L的Na2CO3水溶液制備Ag、SnO2、MgO,La或Ce的納米非晶或納米晶共混合金粉。3、用熱壓燒結(jié)或常規(guī)燒結(jié)工藝成型,得到含納米非晶或納米晶氧化物的銀基電接觸合金,在納米非晶或納米晶氧化物的作用下,材料的電導(dǎo)率、接觸電阻顯著改善,并能夠提高觸點(diǎn)的抗熔焊能力和抗電弧侵蝕能力。
所述的化學(xué)共沉淀是①利用SnCl4與MgCl2和LaCl3(或CeCl3)混合水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4為核心的氫氧化物及其水解產(chǎn)物,300-650℃,1-3h培燒制備含50-99%SnO2、0.5~15%MgO、0.5-35%La(或0.5~35%Ce)的納米非晶或納米晶共混氧化物(納米粒度在1-100nm),稀土元素La(或Ce)均勻分布或固溶于SnO2納米非晶或納米晶粒中。然后將重量比分別為80~95%的Ag粉和5~20%的SnO2、MgO/La(或Ce)混合粉在空氣或氮?dú)猸h(huán)境中高能球磨混粉。高能球磨工藝為球料比10~100∶1,相應(yīng)的球磨時(shí)間為15分鐘~3小時(shí)(球料比越大,球磨時(shí)間越短)。得到氧化物、稀土元素均勻分布或相互固溶與Ag晶粒中的合金粉末。
②利用SnCl4水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4,干燥、300-650℃,1-3h培燒制備SnO2;再與Mg(NO3)2、La(NO3)3或Ce(NO3)3和AgNO3混合成懸浮液,滴加1mol/L的Na2CO3水溶液,得到SnO2為核心的水解產(chǎn)物,在300~850℃條件下,1~3h培燒,得到含70~95%Ag、4.8~20%SnO2、0.1~1%MgO、0.1~9%La(或0.1~9%Ce)的納米非晶或納米晶共混合金粉(納米非晶或納米晶共混合金粉的納米粒度1~100nm),即金屬銀、氧化物和稀土元素均勻分布并相互固溶的合金粉末。
所述的完全共沉淀復(fù)合粉或化學(xué)共沉淀與高能球磨混合復(fù)合粉經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~750℃、50~400MPa下熱壓燒結(jié)成型。或經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~750℃4~12h燒結(jié)成坯,經(jīng)熱擠壓、熱拉拔、軋制或復(fù)壓等常規(guī)工藝成型。通過以上工藝制備出的AgSnO2/MgO/La或AgSnO2/MgO/Ce系列觸點(diǎn)合金。
與同類技術(shù)的區(qū)別在于電觸頭材料成分上是納米非晶或納米晶結(jié)構(gòu)SnO2和稀土元素的共混摻雜,在納米SnO2與Ag的復(fù)合上采用以水為載體的化學(xué)共沉淀或采用化學(xué)共沉淀先制備混雜SnO2再用高能球磨與Ag混合。由于La、Ce的分散性和與Ag的共沉淀,使納米非晶或納米晶SnO2/MgO/La(或Ce)粒子與Ag彌散分布,所以觸點(diǎn)的分散電弧能力顯著提高,而且,納米非晶或納米晶SnO2/MgO/La(或Ce)粒子具有更大的強(qiáng)化作用,可以提高觸點(diǎn)的抗熔焊能力和抗電弧侵蝕能力,使AgSnO2/MgO/La(或Ce)系列觸點(diǎn)的性能發(fā)生質(zhì)的飛躍。
下面結(jié)合實(shí)施例附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明.
圖1是商用AgSnO2In2O3觸頭侵蝕50×整體形貌圖.
圖2是商用AgSnO2In2O3觸頭侵蝕形貌1000×電弧燒損區(qū)放大圖.
圖3是納米復(fù)合AgSnO2/MgO/La觸頭的電弧侵蝕25×整體形貌圖.
圖4是納米復(fù)合AgSnO2/MgO/La觸頭的1000×電弧侵蝕中心放大圖.
圖5是納米復(fù)合AgSnO2/Fe2O3觸頭的電弧侵蝕25×整體形貌圖.
圖6是納米復(fù)合AgSnO2/Fe2O3觸頭的1000×電弧侵蝕中心放大圖.
具體實(shí)施方法實(shí)施例1,共沉淀制備SnO2/MgO/La的前驅(qū)體,在400℃,1h培燒制備重量比為10∶1∶2的納米非晶的SnO2/MgO/La化學(xué)共沉淀混雜氧化物粉。將重量比分別為88%的銀粉(Ag),12%的SnO2/MgO/La混雜粉在空氣環(huán)境中高能球磨。采用振動(dòng)式球磨機(jī),球料比20∶1,球磨時(shí)間1小時(shí),振動(dòng)頻率200s-1。球磨后的粉末經(jīng)200MPa冷壓成胚,在550℃、200MPa下熱壓燒結(jié),然后經(jīng)復(fù)壓退火成型。制備出的AgSnO2/MgO/La觸點(diǎn)合金為納米非晶SnO2/MgO/La粒子均勻分布在Ag基體中。
實(shí)施例2,共沉淀制備SnO2/MgO/La的前驅(qū)體,在550℃,1h培燒制備重量比為7∶2∶5的納米晶粒度在1~20nm的SnO2/MgO/La化學(xué)共沉淀混雜氧化物粉。將重量比分別為88%的Ag粉和12%的SnO2/MgO/La混雜粉在氮?dú)猸h(huán)境中高能球磨。采用攪拌式高能球磨機(jī),球料比為40∶1,轉(zhuǎn)速300轉(zhuǎn)/分。球磨時(shí)間為0.5小時(shí)。球磨后的粉末在經(jīng)400MPa冷壓成胚、在750℃下燒結(jié),然后經(jīng)復(fù)壓退火成型。制備出納米SnO2/MgO/La粒子均勻分布在Ag基體中的AgSnO2/MgO/La觸點(diǎn)合金。
實(shí)施例3,共沉淀制備Ag、SnO2、MgO/Ce的前驅(qū)體,450℃1h培燒,制得重量比為88%Ag、10%SnO2、0.1%MgO、1.9%Ce的氧化物為納米非晶的混合粉,經(jīng)400MPa冷壓成胚,在600℃、200MPa下熱壓燒結(jié),然后經(jīng)復(fù)壓退火成型,制備出Ag/SnO2/MgO/Ce均勻共混的納米非晶觸點(diǎn)合金。
實(shí)施例4,共沉淀制備Ag、SnO2、MgO、Ce2O3的前驅(qū)體,750℃1h培燒,制得重量比為88%Ag、7%SnO2、0.5%MgO、5%Ce2O3的氧化物為納米晶的混合粉,經(jīng)400MPa冷壓,在750℃、4h下燒結(jié),然后經(jīng)復(fù)壓退火成型,制備出Ag、SnO2、MgO、Ce2O3均勻共混的納米晶觸點(diǎn)合金。
權(quán)利要求
1.化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是它包括銀、氧化錫、氧化鎂、攙雜稀土元素組成,各組分重量含量是銀70~95%、氧化錫2.5~20%、氧化鎂0.025~1%、鑭或鈰0.025~9%。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其生產(chǎn)工藝是它通過高能球磨混粉,將銀粉與氧化錫、氧化鎂、稀土鑭或鈰的納米非晶或納米晶混雜氧化物混粉,制備成含納米非晶或納米晶氧化物的Ag和SnO2、MgO、La或Ce的復(fù)合粉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其生產(chǎn)工藝是它通過化學(xué)共沉淀制備混合粉,將銀、氧化錫、氧化鎂、稀土鑭或鈰共沉淀,制備成含納米非晶或納米晶混雜氧化物的Ag和SnO2、MgO、La或Ce的復(fù)合粉。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其生產(chǎn)工藝是所述的復(fù)合粉用熱壓燒結(jié)或無(wú)壓燒結(jié)工藝成型,再?gòu)?fù)壓退火,才能得到含納米非晶或納米晶氧化物的銀基電接觸合金材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是所述的化學(xué)共沉淀方法制備以Sn(OH)4為核心的氫氧化物及其水解產(chǎn)物,是利用SnCl4與MgCl2和LaCl3或CeCl3的水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4為核心的氫氧化物及其水解產(chǎn)物,300-850℃,1-3h培燒制備含50-99%SnO2、0.5~5%MgO、0.5-45%La(或0.5~45%Ce)的納米非晶或納米晶共混氧化物;納米粒度在1-100nm,稀土元素La或Ce均勻分布或固溶于SnO2納米非晶或納米晶粒中。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是所述的銀粉與氧化錫、氧化鎂、稀土鑭(或鈰)的納米非晶或納米晶混雜氧化物重量比80~95∶5~20,通過高能球磨混粉,球料比10~100∶1,相應(yīng)的球磨時(shí)間為15分鐘~3小時(shí),混粉過程中,球料比越大,球磨時(shí)間越短,也可以在空氣或氮?dú)猸h(huán)境進(jìn)行高能球磨混粉。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是所述的化學(xué)共沉淀制備摻雜稀土鑭(La)或鈰(Ce)的氧化錫(SnO2)、氧化鎂(MgO)納米非晶或納米晶混雜氧化物,使用SnCl4水溶液滴加6~12mol/L氨水、使pH=5~8,得到Sn(OH)4,干燥、300-650℃,1-3h培燒制備SnO2;再與Mg(NO3)2、La(NO3)3或Ce(NO3)3和AgNO3混合成懸浮液,滴加1mol/L Na2CO3水溶液,得到SnO2為核心的水解產(chǎn)物,
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是在300~850℃條件下,1~3h培燒,含70~95%Ag、4.8~20%SnO2、0.1~1%MgO、0.1~9%La(或0.1~9%Ce)的納米非晶或納米晶共混合金粉,納米非晶或納米晶共混合金粉的納米粒度1~100nm,氧化物、稀土元素均勻分布或相互固溶于Ag中的合金粉末。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的化學(xué)共沉淀制備納米稀土共混AgSnO2電接觸合金及其工藝,其特征是納米非晶或納米晶復(fù)合粉末(可經(jīng)過預(yù)先退火)經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~850℃、50~400MPa下熱壓燒結(jié);或經(jīng)50~600MPa冷壓成胚、在500~850℃、4~12h燒結(jié),經(jīng)熱擠壓、熱拉拔、軋制或復(fù)壓等常規(guī)工藝成型。
全文摘要
本發(fā)明涉及電觸頭材料的成分和制備工藝,其特征是它包括銀、氧化錫、氧化鎂、攙雜稀土元素組成,各組分重量含量是銀70~95%、氧化錫2.5~20%、氧化鎂0.025~1%、鑭或鈰0.025~9%。它通過高能球磨混粉,將銀粉與氧化錫、氧化鎂、稀土鑭或鈰的納米非晶或納米晶混雜氧化物混粉,制備成含納米非晶或納米晶氧化物的Ag和SnO
文檔編號(hào)H01H1/02GK1652268SQ20041007354
公開日2005年8月10日 申請(qǐng)日期2004年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月31日
發(fā)明者王俊勃, 楊敏鴿, 陳立成, 張燕, 李英民, 丁秉鈞, 王鵬飛 申請(qǐng)人:西安工程科技學(xué)院