專利名稱：基板清潔裝置和基板清潔方法
基板清潔裝置和基板清潔方法
相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
根據(jù)U. S.C. 35第119條，該美國非臨時(shí)專利申請(qǐng)要求2007年8月24曰 申請(qǐng)的、申請(qǐng)?zhí)枮?0-2007-0085596的韓國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通 過引用結(jié)合于此。
背景技術(shù)：
本發(fā)明涉及一種清潔基板的裝置和方法，尤其涉及一種利用聲波能清潔基 板的裝置和方法。
電子設(shè)備，如半導(dǎo)體存儲(chǔ)設(shè)備和平面顯示設(shè)備，包含有一個(gè)基板。該基板 可以是硅晶片或玻璃基板。該基板包含有許多的導(dǎo)電圖案和許多使導(dǎo)電圖案絕 緣的絕緣圖案。所述導(dǎo)電圖案和絕緣圖案通過一系列工序加工成形，如曝光、 洗印和蝕刻工序。
所述成形工序中包含一道清除雜質(zhì)微粒的工序。例如，由于基板上的雜質(zhì) 微?？赡芪廴緢D案并使圖案產(chǎn)生缺陷，因此雜質(zhì)清除工序是必要的?；迳系?雜質(zhì)可以運(yùn)用化學(xué)方法或物理方法清除。運(yùn)用化學(xué)方法清除雜質(zhì)時(shí)，需要使用 化學(xué)制品處理基板表面。運(yùn)用物理方法清除雜質(zhì)時(shí)，需要使用物理力清除吸附 在基板上的雜質(zhì)微粒。
然而，由于目前高度集成的半導(dǎo)體存儲(chǔ)設(shè)備具有l(wèi))am或更小的圖案，所以 基板上雜質(zhì)微粒的允許尺寸非常小。因此，應(yīng)用典型的基板清潔方法難以從基 板上清除小的雜質(zhì)微粒。
發(fā)明概要
本發(fā)明提供了一種有效的清潔基板的裝置和方法。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種清潔基板的裝置，該裝置包括載物臺(tái)、清潔液供 應(yīng)單元、振蕩器和至少兩個(gè)壓電元件。載物臺(tái)上裝載有基板，清潔液供應(yīng)單元
為基板供應(yīng)清潔液，振蕩器將聲波傳送到基板上以清洗基板，壓電元件設(shè)置在 振蕩器的一端從而產(chǎn)生聲波，壓電元件彼此間隔設(shè)置。
在本發(fā)明的其他實(shí)施例中，清潔基板的方法包括將基板裝載于載物臺(tái)的上
部，為基板供應(yīng)清潔液，和應(yīng)用產(chǎn)生于至少兩個(gè)聲源的聲波清潔基板。 附圖簡要說明
所包含的附圖有助于進(jìn)一步地理解本發(fā)明，且附圖并入和組成了本說明書 的一部分。圖片解釋說明了本發(fā)明的典型實(shí)施例，并與文字描述一起共同解釋
說明本發(fā)明的原理。在附圖中
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，

圖1為基板清潔裝置的橫截面示意根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖2所示為利用設(shè)置在圖1所示基板清潔裝置 振動(dòng)發(fā)生器中的兩個(gè)壓電元件產(chǎn)生振動(dòng)的過程；
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖3A和3B所示為設(shè)置在圖1所示基板清潔裝 置振動(dòng)發(fā)生器中的兩個(gè)壓電元件的典型對(duì)稱排列；
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖4A和4B所示為設(shè)置在圖1所示基板清潔裝 置振動(dòng)發(fā)生器中的兩個(gè)壓電元件的典型非對(duì)稱排列；
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖5所示為在圖1所示基板清潔裝置振動(dòng)發(fā)生 器中包含3個(gè)壓電元件的典型情況；
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖6A和6B為安裝在圖1所示基板清潔裝置振 動(dòng)發(fā)生器中的壓電元件和電極的堆疊結(jié)構(gòu)；
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖7為基板清潔方法的流程圖。 優(yōu)選實(shí)施方式的詳細(xì)描述
以下將參照附圖更加詳細(xì)地描述本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。然而，本發(fā)明也可
能被具體化為不同的形式，因此在此提出的具體實(shí)施例不應(yīng)理解為對(duì)本發(fā)明的 一種限制。更確切地說，提供這些實(shí)施例是為了使說明徹底和完全，并將本發(fā) 明的范圍充分地傳達(dá)給該技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖1為基板清潔裝置的橫截面示意圖； 參見圖1,基板清潔裝置包括清潔容器1，載物臺(tái)10，清潔液供應(yīng)單元40， 和振動(dòng)單元IOO。載物臺(tái)IO設(shè)置在清潔容器1的底部，基板20放置在載物臺(tái) IO上，載物臺(tái)10可以卡盤，用以支撐和固定基板20。所述卡盤可以利用真空 吸引力或電力來固定基板20。載物臺(tái)10與驅(qū)動(dòng)單元如電動(dòng)機(jī)相連。電動(dòng)機(jī)帶動(dòng) 載物臺(tái)10旋轉(zhuǎn)，因此，放置在載物臺(tái)10上的基板20可以在其被清潔的同時(shí)旋 轉(zhuǎn)。
清潔容器1上部開口 ，且清潔液供應(yīng)單元40設(shè)置在清潔容器1的上部開口 處。清潔液供應(yīng)單元40朝向基板20并與基板20間隔有一段預(yù)定距離。清潔液 供應(yīng)單元40可以是一個(gè)注射噴嘴。對(duì)清潔液供應(yīng)單元40進(jìn)行配置使其能夠?yàn)?基板20連續(xù)地供應(yīng)清潔液。由于在一道清潔工序中清潔液供應(yīng)單元40連續(xù)不 斷地為基板供應(yīng)清潔液，則在基板20的表面上能夠形成一層清潔液層30。
去離子水(H20)可以用作清潔液以清除基板20上的雜質(zhì)并漂洗基板20。 另外， 一些化學(xué)制劑也可以用作清潔液。該化學(xué)制劑要根據(jù)清潔情況進(jìn)行選擇。 比如，這些化學(xué)制劑包括氫氧化銨(冊40H)、過氧化氫(H202 )和去離子水(H20) 的混合液；氫氟酸(HF)和去離子水(H20)的混合液；氟化銨(NH4F )、氬氟酸 (HF)和去離子水(H20)的混合液；以及磷酸(H3P04)和去離子水(H20 )的 混合液?？梢允褂盟谐龅钠渲幸环N化學(xué)制劑作為清潔液，也可以使用所列出 的其中某幾種化學(xué)制劑的混合液作為清潔液，或者使用所列出的其中某幾種化 學(xué)制劑順序地作為清潔液。
振動(dòng)單元100包括振蕩器110和振動(dòng)發(fā)生器120,振動(dòng)發(fā)生器120利用聲波 能產(chǎn)生振動(dòng)，振蕩器IIO將強(qiáng)烈的超聲波振動(dòng)施加到清潔液層30上。振動(dòng)發(fā)生 器120與振蕩器110的一端相連。振動(dòng)發(fā)生器120包含一個(gè)將電能轉(zhuǎn)化為物理 振動(dòng)能的壓電單元。
在一道清潔工序中，基板20沿著預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)，振動(dòng)單元100水平移動(dòng)以
利用聲波將強(qiáng)烈的振動(dòng)施加到清潔液層30。施加到清潔液層30的強(qiáng)烈振動(dòng)使得 空化泡破裂，并使雜質(zhì)微粒之間產(chǎn)生空隙。即將破裂的空化泡充滿雜質(zhì)微粒間
的空隙并在所述空隙中破裂，從而使得雜質(zhì)微粒能夠輕易且完全地脫離基板20 表面。如果雜質(zhì)微粒非常小，可以應(yīng)用兆聲波清除基板20上細(xì)小的雜質(zhì)微粒。 例如，如果雜質(zhì)微粒的尺寸大約為ljum或更小，則要用到兆赫茲頻率范圍內(nèi)的 超聲波。
振蕩器11G的形狀類似于桿狀并與基板20傾斜一定的角度。此外，盡管圖
1中未顯示，振蕩器110還可以平行或垂直于基^反20。振蕩器110可以由石英
加工而成，石英是已知的一種傳送超聲波能的高效材料。石英可以和幾乎所有
種類的清潔液一起使用。但是，當(dāng)振蕩器110由石英加工而成時(shí)，振蕩器110
可以被包含有氫氟酸(HF)的清潔液侵蝕。在使用含有氫氟酸(HF)的清潔液
的情況下，振蕩器110可以由石英和剛玉、石灰化硅、氮化硼、玻璃碳中的一種
或其中幾種的化合物加工而成。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖2所示為利用安裝在圖1所示振動(dòng)發(fā)生器120 中的兩個(gè)壓電元件產(chǎn)生振動(dòng)的過程。
參見圖2，壓電單元150設(shè)置在振動(dòng)發(fā)生器120中，壓電單元150基于壓電
效應(yīng)產(chǎn)生振動(dòng)。當(dāng)一種壓電材料產(chǎn)生機(jī)械變形時(shí)，該壓電材料呈現(xiàn)出電介質(zhì)極
化現(xiàn)象，從而將機(jī)械能轉(zhuǎn)化為電能，這就叫做壓電效應(yīng)或第一壓電效應(yīng)。另一
方面，當(dāng)在壓電材料上施加電場時(shí)，壓電材料會(huì)產(chǎn)生機(jī)械變形，這叫做逆壓電
效應(yīng)或第二壓電效應(yīng)。振動(dòng)發(fā)生器120基于逆壓電效應(yīng)利用機(jī)械能產(chǎn)生聲波，
且將聲波傳送到振蕩器110上。
壓電單元15Q包括兩個(gè)彼此間隔設(shè)置的第一壓電元件151和第二壓電元件 152。第一和第二壓電元件151和152與豎直線傾斜一定的角度。第一壓電元件 151位于第二壓電元件152的左側(cè)，第一壓電元件151接收電能產(chǎn)生聲波，該聲 波沿著與第一壓電元件151大體垂直的方向傳播。第二壓電元件152位于第一
壓電元件151的右側(cè)。第二壓電元件152接收電能產(chǎn)生聲波，該聲波沿著與第 二壓電元件152大體垂直的方向傳^"。在下文中，將第一壓電元件151產(chǎn)生的 聲波稱為第一聲波，將第二壓電元件152產(chǎn)生的聲波稱為第二聲波。
最初，第一和第二聲波分別單獨(dú)傳播。然后，當(dāng)?shù)谝缓偷诙暡ㄔ谝粋€(gè)預(yù)
定位置相互會(huì)合時(shí)，第一和第二聲波將結(jié)合成為一個(gè)新的聲波。在下文中，這
個(gè)新的聲波被稱為第三聲波。第三聲波的強(qiáng)度(c)可以通過第一聲波和第二聲
波的矢量和計(jì)算得出。
根據(jù)上文的說明，與壓電單元150只包含一個(gè)壓電元件相比，當(dāng)壓電單元 150包含大量的壓電元件時(shí)，壓電單元150可以產(chǎn)生強(qiáng)烈的聲波。因此，利用該 強(qiáng)聲波可以輕易地清除基板上的雜質(zhì)。特別地，由于目前高度集成的半導(dǎo)體存 儲(chǔ)設(shè)備具有更加精細(xì)的圖案，其所允許的雜質(zhì)^f效粒尺寸非常小，因此，清除細(xì) 小的雜質(zhì)微粒時(shí)有必要使用高頻聲波。例如，從liam或更小的圖案上清除雜質(zhì) 微粒時(shí)有必要使用頻率為3 MHz或更高頻率的超聲波。
但是，如果超聲波的頻率增加，超聲波的能力會(huì)由于其振幅的降低而降低。 在這種情況下，雜質(zhì)微粒就難以清除。然而，在當(dāng)前的實(shí)施例中，壓電單元150
包含有大量的壓電元件，能夠產(chǎn)生具有高能力的高頻超聲波，從而可以輕易地 清除細(xì)小的雜質(zhì)微粒。
第一和第二聲波可以在一個(gè)預(yù)定的位置結(jié)合，從而使得第三聲波可以直接
傳播到基板20或清潔液層30上。在下文中，將第一和第二聲波彼此結(jié)合的位 置稱為結(jié)合處(P)。例如，結(jié)合處(P)可以位于振蕩器110的一個(gè)表面上。在 這種情況下，振蕩器110的長度可以用來計(jì)算第 一和第二聲波傳播到結(jié)合處(P ) 時(shí)的傳播距離。所以，第一和第二壓電元件151和152的排列可以基于計(jì)算出 的第 一和第二聲波的傳播距離進(jìn)行調(diào)整，從而允許第 一和第二聲波在結(jié)合處(P ) 彼此產(chǎn)生相加干涉。此時(shí)，第三聲波的能量可以達(dá)到最大值，且基板20也因此 可以得到更有效的清潔。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖3A和3B所示為設(shè)置在圖1所示振動(dòng)發(fā)生器 120中的兩個(gè)壓電元件151和152的典型對(duì)稱排列；
參見圖3A，第一壓電元件151設(shè)置在左邊，且與虛線形式的豎直中心線傾 斜呈第一角度0 1。第二壓電元件152設(shè)置在右邊，且與虛線形式的豎直中心線 傾斜呈第一角度6 i。第一和第二壓電元件151和152具有相同的厚度(t )。
第一和第二壓電元件151和152的厚度(t )與第一和第二壓電元件151和 152產(chǎn)生的聲波頻率有關(guān)。第一和第二壓電元件151和152的厚度(t)與第一 和第二壓電元件151和152產(chǎn)生的聲波頻率成反比。因此，當(dāng)?shù)谝缓偷诙弘?元件151和152具有相同的厚度(t)時(shí)，第一和第二壓電元件151和152產(chǎn)生 的聲波具有相同的頻率。
第一壓電元件151產(chǎn)生的第一聲波與第二壓電元件152產(chǎn)生的第二聲波在 位于虛線形式的豎直中心線上的結(jié)合處(P)結(jié)合。由于第一和第二壓電元件151 和152關(guān)于虛線形式的豎直中心線對(duì)稱，所以第一和第二聲波到達(dá)結(jié)合處(P) 時(shí)傳播了相同的第一距離ch。然后，第一和第二聲波在結(jié)合處(P)彼此結(jié)合。 一般地說，速度(v)、波長(入)、和波的頻率(f )的關(guān)系如下
速度(v)—皮長(入)x頻率(f) (公式l)
由于第一和第二聲波在振蕩器110 (固體介質(zhì))中以相同的速度傳播且具有 相同的頻率，則根據(jù)公式1可知第一和第二聲波具有相同的波長。因此，由于 具有相同的波長第一和第二聲波傳播相同的第一距離di并;f皮此結(jié)合，則第一和 第二聲波產(chǎn)生能夠相加干涉并形成第三聲波。
參見圖3B，第一和第二壓電元件151和152分別左右設(shè)置并與虛線形式的 豎直中心線傾斜呈第二角度62，第二角度6 2大于第一角度6 1。在當(dāng)前實(shí)施例 中，除了第二角度62大于第一角度6i外，第一和第二壓電元件151和152根 據(jù)圖3A實(shí)施例中的相同方式排列。也就是說，在當(dāng)前實(shí)施例中，第一和第二壓 電元件151和152具有相同的厚度并且產(chǎn)生具有相同頻率的第一和第二聲波。
第一和第二聲波沿著與第一和第二壓電元件151和152垂直的方向傳播了
第二距離d2。然后，第一和第二聲波在結(jié)合處(P)彼此結(jié)合。第一和第二聲波 在結(jié)合處(P)發(fā)生相加干涉并生成第三聲波。由于第二角度0 2大于第一角度 e工，則第二距離d2也大于第一距離di。
如圖3A和3B所示，第一和第二聲波傳播到結(jié)合處(P)的傳播距離，會(huì)隨 著第一和第二壓電元件151和152的傾角而改變。第一和第二聲波的傳寺番距離 與振蕩器110的長度大體一致。換句話說，第一和第二壓電元件151和152的 傾角要根據(jù)振蕩器110的長度進(jìn)行調(diào)整。例如，如果振蕩器110較長，則第一 和第二壓電元件151和152與虛線形式的豎直中心線之間的傾角就較大。也就 是說，第一和第二壓電元件151和152的傾角可以根據(jù)振蕩器110的長度而從0。 到90°之間變化。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖4A和4B所示為設(shè)置在圖1所示振動(dòng)發(fā)生器 120中的兩個(gè)壓電元件151和152的典型非對(duì)稱排列。
參見圖4A，第一壓電元件151具有第一厚度ti。第一壓電元件151設(shè)置在 左邊并與虛線形式的豎直中心線傾斜呈第一角度6 1。第二壓電元件152具有第 二厚度t2。第二壓電元件152設(shè)置在右邊并與虛線形式的豎直中心線傾斜呈第
二角度e2。第一厚度ti小于第二厚度t2,且第一角度ei小于第二角度e2。
第一壓電元件151產(chǎn)生第一聲波，第二壓電元件152產(chǎn)生第二聲波。第一
和第二聲波在位于虛線形式的豎直中心線上的結(jié)合處(p)彼此結(jié)合，并由此生
成第三聲波。第一聲波傳播第一距離di到達(dá)結(jié)合處(P),第二聲波傳播第二距 離d2到達(dá)結(jié)合處(P)。由于第二角度02大于第一角度61,則第二距離d2也大 于第一距離di。
根據(jù)以上說明，當(dāng)壓電元件的厚度增加時(shí)，由壓電元件產(chǎn)生的聲波頻率降 低。因此，由第一壓電元件151產(chǎn)生的第一聲波頻率高于由第二壓電元件152 產(chǎn)生的第二聲波頻率。由于第一和第二聲波具有相同的速度(即聲速)，則根據(jù) 公式1可知第一聲波的波長要小于第二聲波的波長。也就是說，具有短波長的
第一聲波傳播了第一距離di,第一距離di與第二距離d2相比相對(duì)較短，具有相 對(duì)較長波長的第二聲波傳播了第二距離d2，第二距離d2與第一距離di相比相對(duì) 較長。因此，考慮進(jìn)(included in)第一距離di的第一聲波的波長數(shù)值可能與 考慮進(jìn)(included in)第二距離d2的第二聲波的波長數(shù)值相等。從而，第一和 第二聲波可以通過相加干涉而產(chǎn)生第三聲波。
盡管設(shè)定第一和第二壓電元件151和152的厚度相等，但是由于加工誤差，
第一和第二壓電元件151和152的厚度仍會(huì)有輕-微的差別。結(jié)果也可能會(huì)造成
第一和第二聲波的頻率互不相同。在這種情況下，可以調(diào)整第一和第二壓電元
件151和152的方位以使得第一和第二聲波相加干涉，從而產(chǎn)生具有最高強(qiáng)度
的第三聲波。
參見圖4B,第一和第二聲波在位于虛線形式的豎直中心線左側(cè)的結(jié)合處(P) 彼此結(jié)合。此時(shí)，在第一和第二聲波的傳送距離之間存在較大的差值(d2—di)。 如圖4B所示，由于第二聲波比第一聲波傳播了相對(duì)較長的距離，則通過使第二 壓電元件152的厚度大于第一壓電元件151的厚度，可以將第二聲波的波長調(diào)
整得長于第一聲波的波長。
圖4B中的實(shí)施例可以應(yīng)用于如圖1所示的^^展蕩器110與基板20呈一定傾 角的場合。在圖l的情況下，振蕩器110的產(chǎn)生第一和第二聲波的一端和水平 線呈一定傾角，但振蕩器110的第一和第二聲波彼此結(jié)合的另一端和水平線平 行。換句話說，就是振蕩器110的兩端是不對(duì)稱的。所以，設(shè)定不同的第一和 第二聲波傳播距離。
如果傳播距離差值(d2-di)如圖4B所示一樣大，則根據(jù)距離差值(d2-di), 設(shè)定不同的第一和第二壓電元件151和152的厚度或傾角，從而允許第一和第 二聲波在結(jié)合處(P)能夠發(fā)生相加干涉。然而，在傳播距離差值(d2-d!)小到 可以忽略不計(jì)或振蕩器110設(shè)置在基板20的垂直方向時(shí)，如圖3A或3B所示的 實(shí)施例較為適合。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖5所示為在圖1所示振動(dòng)發(fā)生器120中包含3 個(gè)壓電元件的典型情況。
參見圖5，壓電單元150包括第一壓電元件151、第二壓電元件152、和第 三壓電元件153。第一至第三壓電元件151至153分別單獨(dú)產(chǎn)生第一至第三聲波。 第一至第三壓電元件151至153具有相同的厚度，且第一至第三聲波具有相同 的波長。第一和第二壓電元件151和152相對(duì)于第三壓電元件153對(duì)稱設(shè)置。 第一至第三聲波傳播相同的距離到達(dá)結(jié)合處(P)，接著第一和第三聲波彼此結(jié) 合。因此，通過第一至第三聲波的相加干涉能夠產(chǎn)生一個(gè)強(qiáng)烈的聲波，且利用 該強(qiáng)聲波可以有效地清潔基板20。
另外，第一至第三壓電元件151至153還可以非對(duì)稱排列或具有不同的厚 度。除此之外，如果需要更加強(qiáng)烈的聲波，可以使用4個(gè)或更多的壓電元件。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖6A和6B為安裝在圖1所示振動(dòng)發(fā)生器120 中的壓電單元150以及第一和第二電極130和140的典型堆疊結(jié)構(gòu)。
參見圖6A，其解釋說明了壓電單元150以及第一和第二電極130和140。 壓電單元150包括第一壓電元件151和第二壓電元件152。第一電極130包括左 右電極131和132，第二電極140包括左右電極141和142。第一壓電元件151 設(shè)置在左電極131和左電極141之間，第二壓電元件152設(shè)置在右電極132和 右電極142之間。第一和第二電極130和140的作為陰極和陽極為第一和第二 壓電元件151和152提供電能。設(shè)置在第一和第二電極130和140之間的壓電 單元150接收電能。然后，壓電單元150利用電能并基于壓電效應(yīng)產(chǎn)生聲波。 當(dāng)前實(shí)施例中，為第一和第二壓電元件151和152提供了大量的第一電極130 和大量的第二電極140。在這種情況下，左電極131和141以及右電極132和 142可以根據(jù)第一和第二壓電元件151和152的物理屬性接收不同的電能。
參見圖6B，其解釋說明了壓電單元150以及第一和第二電極130和140。 壓電單元150包括第一壓電元件151和第二壓電元件152。第一和第二電極130 和140應(yīng)用于兩個(gè)壓電元件151和152。在這種情況下，為第一和第二壓電元件151和152提供了相同的電能。當(dāng)前實(shí)施例的結(jié)構(gòu)適用于第一和第二壓電元件 151和152幾乎水平排列的場合。
根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例已經(jīng)對(duì)基板清潔裝置進(jìn)行了描述。在下文中，
將根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例筒要描述一下基于基板清潔裝置操作原理的基板清
潔方法。現(xiàn)在將基于一個(gè)前提來介紹基板清潔方法，該前提為所要介紹的基板
清潔方法是利用圖1所示基板清潔裝置工作的基板清潔方法。因此，在圖1中
用到的相關(guān)數(shù)字也將在下列描述中應(yīng)用于相同的部件。但是，基板清潔方法并
不局限于圖1所示的基板清潔裝置。也就是說，所述基板清潔方法也可以應(yīng)用
于其他基板清潔裝置。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，圖7為基板清潔方法的流程圖。
參見圖7,在操作S10中，基板20被運(yùn)送到清潔容器1并裝載于載物臺(tái)10 上。在操作S20中，利用清潔液供應(yīng)單元40為基板20供應(yīng)清潔液。在操作S30 中，應(yīng)用聲波或超聲波清潔基板20。該聲波是通過結(jié)合產(chǎn)生于至少兩個(gè)聲源的 至少兩種聲波的一種結(jié)合聲波。因?yàn)樵摻Y(jié)合聲波由至少兩種聲波相加干涉而產(chǎn) 生，所以該結(jié)合聲波具有足夠的能量。因此，利用該結(jié)合聲波可以輕易地將細(xì) 小的雜質(zhì)微粒從基板20上清除。
所述聲波的來源為壓電元件。所述壓電元件被適當(dāng)?shù)嘏帕泻团渲?，從而?得產(chǎn)生于所述壓電元件的聲波可以相加干涉。例如，當(dāng)所述壓電元件具有相同 的形狀時(shí)，產(chǎn)生于所述壓電元件的聲波傳播相同的距離。然后，所述聲波發(fā)生 相加千涉。另外，當(dāng)所述壓電元件具有不同的厚度時(shí)，產(chǎn)生于所述壓電元件的 聲波可以傳播不同的距離，然后可以發(fā)生相加干涉。
根據(jù)本發(fā)明，通過施加于基板的強(qiáng)聲波可以更有效地清潔基板。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，可以有效地清除基板上的雜質(zhì)，提高基 板清潔效率。以上所述的主題內(nèi)容應(yīng)被認(rèn)為是一種舉例性描述，而不是一種限 制。從屬權(quán)利要求意在覆蓋所有落入本發(fā)明本質(zhì)含義和范圍內(nèi)的類似修改、改
進(jìn)和其他實(shí)施例。因此，在法律允許的最大范圍內(nèi)，本發(fā)明的范圍取決于權(quán)利 要求及其等同的權(quán)利要求可允許的最寬泛的闡述，而不受限于之前的詳細(xì)描述。
權(quán)利要求
1.一種基板清潔裝置，包括一載物臺(tái)，其上載有基板；一清潔液供應(yīng)單元，為所述基板供應(yīng)清潔液；一振蕩器，將聲波傳送到基板上以清潔基板；和至少兩個(gè)壓電元件，彼此分開一段預(yù)定距離設(shè)置在振蕩器的一端以產(chǎn)生聲波。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中的壓電元件分別單獨(dú)產(chǎn)生聲波，且所 述聲波在振蕩器的鄰近所述基板的表面上彼此相加干涉。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，進(jìn)一步包括 彼此面對(duì)的電極，所述壓電元件設(shè)置在所述電極之間；和 在其中設(shè)置有所述壓電元件和所述電極的振動(dòng)發(fā)生器，所述振動(dòng)發(fā)生器與所述振蕩器的設(shè)置有所述壓電元件的一端相連。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中所述壓電元件包括彼此分開設(shè)置的第 一和第二壓電元件。
5、 沖艮據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，進(jìn)一步包括彼此面對(duì)的第 一 電極，以及設(shè)置在所述第 一電極之間的所述第 一壓電元件； 彼此面對(duì)的第二電極，以及設(shè)置在所述第二電極之間的所述第二壓電元件；和在其中設(shè)置有第一和第二壓電元件以及第一和第二電極的振動(dòng)發(fā)生器，所 述振動(dòng)發(fā)生器與所述振蕩器的設(shè)置有所述壓電元件的一端相連。
6、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中第一和第二壓電元件具有相同的形狀。
7、 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中振蕩器的形狀類似于桿狀，并且，第 一和第二壓電元件，相對(duì)于通過所述振蕩器中心的虛線對(duì)稱設(shè)置并與所述振蕩 器的長度方向相平行。
8、 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中第一和第二壓電元件與所述虛線之間 的夾角根據(jù)所述振蕩器的長度成比例地增加。
9、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝置，其中第一和第二壓電元件具有不同的厚度。
10、 根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其中振蕩器的形狀類似于桿狀，并且， 第一和第二壓電元件，相對(duì)于通過所述振蕩器中心的虛線非對(duì)稱設(shè)置并與所述振蕩器的長度方向相平行。
11、 一種清潔基板的方法，包括將基板裝載于載物臺(tái)的上部； 為基板供應(yīng)清潔液；和將產(chǎn)生于至少兩個(gè)聲源的聲波施加到所述基板用來清潔所述基板。
12、 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中所述聲波分別單獨(dú)產(chǎn)生于至少兩個(gè) 相互間隔的壓電元件，且所述聲波通過一個(gè)連接有所述壓電元件的振蕩器傳送 到基板上。
13、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述聲波在鄰近所述基板的振蕩器 的表面上彼此相加干涉。
14、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述壓電元件具有相同的形狀，且 所述聲波傳播相同的距離到達(dá)所述振蕩器表面，并在所述振蕩器表面上相互干 涉。
15、 根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中所述壓電元件具有不同的厚度，且 所述聲波傳播不同的距離到達(dá)所述振蕩器表面，并在所述振蕩器表面上相互干涉。
全文摘要
提供了一種清潔基板的裝置。該裝置包括一個(gè)裝載基板的載物臺(tái)，一個(gè)為基板供應(yīng)清潔液的清潔液供應(yīng)單元。一個(gè)將聲波傳送到基板上以清潔基板的振蕩器，和設(shè)置在振蕩器一端的彼此分開一段預(yù)定距離以產(chǎn)生聲波的至少兩個(gè)壓電元件。
文檔編號(hào)H01L21/00GK101373705SQ20081013247
公開日2009年2月25日 申請(qǐng)日期2008年7月17日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月24日
發(fā)明者安英基 申請(qǐng)人:細(xì)美事有限公司