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      一種電容用鋅鋁膜的制作方法

      文檔序號:6984607閱讀:1092來源:國知局
      專利名稱:一種電容用鋅鋁膜的制作方法
      技術(shù)領(lǐng)域
      本實(shí)用新型涉及一種金屬化薄膜,具體為一種電容用鋅鋁膜。
      背景技術(shù)
      電容用鋅鋁膜是指在可蒸鍍電子薄膜表面蒸鍍上極薄的鋅鍍層和鋁鍍層作為電 極,其抗氧化能力要遜于鋁金屬化電子薄膜,但容量衰減小,自愈性能好,廣泛應(yīng)用于中低 壓電力、家用電器、節(jié)能燈具等諸多領(lǐng)域。由于鋅鍍層在薄膜表面的附著力極差,因此,必須 先蒸鍍鋁在蒸鍍鋅,而鋅在空氣中極易氧化,鋅鍍層氧化后會導(dǎo)致電容器的特性,最終影響 電容器的使用壽命。

      實(shí)用新型內(nèi)容為克服上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種鋅鍍層不易氧化、繞制成的電容器 使用壽命長的電容用鋅鋁膜。為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,本實(shí)用新型是采用以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種電容用鋅鋁 膜,包括一個(gè)聚丙烯薄膜,其特征在于聚丙烯薄膜上設(shè)有帶狀分布的鋅鍍層,鋅鍍層及聚丙 烯薄膜上蒸鍍有表面平整的鋁鍍層,聚丙烯薄膜的一端留有空邊,鋁鍍層的另一端設(shè)有加 厚端。本實(shí)用新型和以往技術(shù)相比,具有以下有益效果由于鋅鍍層呈帶狀分布在鋁鍍 層與聚丙烯薄膜之間,不容易發(fā)上氧化,保證了電容器良好的自愈能力,同時(shí)也克服了鋅鍍 層與聚丙烯薄膜間附著力差的技術(shù)難題。

      附圖為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。圖中,1、加厚端,2、鋅鍍層,3、鋁鍍層,4、聚丙烯薄膜,5、空邊。
      具體實(shí)施方式
      參看附圖,一種電容用鋅鋁膜,包括一個(gè)聚丙烯薄膜4,于聚丙烯薄膜4上設(shè)有帶 狀分布的鋅鍍層2,鋅鍍層2及聚丙烯薄膜4上蒸鍍有表面平整的鋁鍍層3,聚丙烯薄膜4 的一端留有空邊5,鋁鍍層3的另一端設(shè)有加厚端1。由于鋅鍍層2呈帶狀分布在鋁鍍層3 與聚丙烯薄膜4之間,不容易發(fā)上氧化,保證了電容器良好的自愈能力,同時(shí)也克服了鋅鍍 層2與聚丙烯薄膜4間附著力差的技術(shù)難題。
      權(quán)利要求1. 一種電容用鋅鋁膜,包括一個(gè)聚丙烯薄膜,其特征在于聚丙烯薄膜上設(shè)有帶狀分布 的鋅鍍層,鋅鍍層及聚丙烯薄膜上蒸鍍有表面平整的鋁鍍層,聚丙烯薄膜的一端留有空邊, 鋁鍍層的另一端設(shè)有加厚端。
      專利摘要本實(shí)用新型涉及電容材料,具體公開了一種電容用鋅鋁膜,其方案為聚丙烯薄膜上設(shè)有帶狀分布的鋅鍍層,鋅鍍層及聚丙烯薄膜上蒸鍍有表面平整的鋁鍍層。由于鋅鍍層呈帶狀分布在鋁鍍層與聚丙烯薄膜之間,不容易發(fā)生氧化,保證了電容器良好的自愈能力,同時(shí)也克服了鋅鍍層與聚丙烯薄膜間附著力差的技術(shù)難題。
      文檔編號H01G4/015GK201898033SQ201020676488
      公開日2011年7月13日 申請日期2010年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月23日
      發(fā)明者尹朝前, 張廣志, 林志強(qiáng), 薛江華, 辛秀梅, 郭金華 申請人:河北海偉集團(tuán)電子材料有限公司
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